-
公开(公告)号:CN105517961A
公开(公告)日:2016-04-20
申请号:CN201480049507.4
申请日:2014-09-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B01D61/12 , B01D61/025 , B01D61/06 , B01D61/08 , B01D61/10 , B01D2313/243 , B01D2313/246 , B01D2313/365 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F2209/40 , C02F2303/10 , H02P27/02 , Y02A20/131
Abstract: 在使用了反渗透压力分离装置的海水淡化系统中,为了能够使高压泵启动/停止时的海水向反渗透膜的压力变化率和流量变化率与反渗透膜的特性相匹配,而在驱动高压泵(4)的电动机(3)与交流电源(100)之间连接有由减电压启动器(12)及开闭器(13)的并联电路构成的驱动电源控制装置(300)。并且,通过控制减电压启动器(12),而使向电动机(3)供给的交流电压在起动调整期间以呈向上凸的单调递增函数从零电压向交流电源电压逐渐接近的方式连续地增大,在停止调整期间呈向上凸的单调递减函数从与交流电源电压逐渐接近了的状态连续地减少至零电压。开闭器(13)在经由减电压启动器(12)供给到电动机(3)的交流电压与交流电源(100)的交流电压相等时闭合,而将来自交流电源(100)的交流电压向电动机直接供给。
-
公开(公告)号:CN105073231A
公开(公告)日:2015-11-18
申请号:CN201480016545.X
申请日:2014-03-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B01D61/06 , B01D61/025 , B01D2313/08 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2303/10 , F15B21/14 , Y02A20/131 , Y02W10/30
Abstract: 本发明涉及从海水中除去盐分从而将海水淡化的海水淡化系统以及适用于海水淡化系统(海水淡化厂)的能量回收装置。具备:将长边方向铅垂配置的圆筒形状的腔室(CH)、进行浓缩海水的给排水的浓缩海水端口(P1)、进行海水的给排水的海水端口(P2)、在腔室(CH)内配置在浓缩海水端口(P1)侧的阻流器(23)、以及在腔室(CH)内配置在水端口(P2)侧的阻流器(23),在浓缩海水端口(P1)侧以及海水端口(P2)侧配置的阻流器(23)为至少1张的多孔圆板,在圆板的相比规定的直径靠外侧的外周区域形成孔。
-
公开(公告)号:CN105050695A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201480017455.2
申请日:2014-03-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B01D61/06 , B01D61/025 , B01D61/10 , B01D2313/08 , B01D2313/246 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2303/10 , F15D1/025 , G01F1/42 , Y02A20/131 , Y02W10/30
Abstract: 本发明涉及从海水中除去盐分而淡化海水的海水淡化系统、以及适用于海水淡化系统(海水淡化设备)的能量回收装置。能量回收装置具备:圆筒形状的腔室(CH),其在内部具有收容浓缩海水以及海水的空间,并将长度方向铅直地配置;浓缩海水端口(P1),其设置于腔室(CH)的下部,并用于进行浓缩海水的供给、排出;海水端口(P2),其设置于腔室(CH)的上部,并用于进行海水的供给、排出;在腔室内配置于浓缩海水端口侧的流阻器(23);以及在腔室内配置于海水端口侧的流阻器(23),在浓缩海水端口(P1)或者海水端口(P2)与流阻器(23)之间配置有在中央具备孔的圆板(30)。
-
公开(公告)号:CN102941530A
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN201210400827.2
申请日:2008-12-02
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/04 , B24B21/16 , H01L21/304
CPC classification number: B24B21/002 , B24B9/065 , B24B21/004 , B24B21/008 , B24B21/20 , B24B27/0076 , B24B37/042 , B24B37/30 , B24B41/068 , B24B49/00 , Y10T428/24777
Abstract: 本发明提供一种用于抛光基片的外周的抛光装置。该抛光装置包括配置成水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构、设置在基片周围的多个抛光头组件、配置成将抛光带供给到多个抛光头组件并从多个抛光头组件收回抛光带的多个带供给与收回机构、以及配置成沿旋转保持机构保持的基片的径向方向移动多个抛光头组件的多个移动机构。所述带供给与收回机构沿着基片径向方向设置在多个抛光头组件的外侧,且所述带供给与收回机构被固定在位。
-
公开(公告)号:CN102743974A
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:CN201210110815.6
申请日:2012-04-11
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B01D61/02 , B01D61/06 , C02F1/44 , C02F103/08
CPC classification number: C02F1/441 , B01D61/06 , B01D2313/246 , C02F1/006 , C02F2103/08 , C02F2201/003 , C02F2301/022 , C02F2303/10 , Y02A20/131 , Y02W10/30
Abstract: 本发明提供能量交换腔以及具有该能量交换腔的海水淡化系统,该能量交换腔从腔的下方进行浓缩海水的给排水,从上方进行海水的给排水,能够在抑制浓缩海水与海水的混合的同时,进行从浓缩海水向海水的压力传递。本发明的能量交换腔在将增压的海水通入到反渗透膜分离装置(4)中而将淡水与浓缩海水分离的海水淡化系统中,具有:腔(CH),收容浓缩海水及海水;浓缩海水口(P 1),设在腔(CH)的下部,进行浓缩海水的给排水;海水口(P2),设在腔(CH)的上部,进行海水的给排水;浓缩海水分散构造体(26),与浓缩海水口(P1)连通,使浓缩海水在水平面整体上分散;和海水分散构造体(25),与海水口(P2)连通,使海水在水平面整体上分散,被导入到腔(CH)内的浓缩海水与海水直接接触,浓缩海水与海水的压力能量实现交换。
-
公开(公告)号:CN101687305B
公开(公告)日:2012-09-19
申请号:CN200880023985.2
申请日:2008-07-08
IPC: B24B21/08 , B24B9/00 , B24B21/16 , H01L21/304
CPC classification number: B24B21/002 , B24B9/065 , H01L21/02021
Abstract: 本发明的研磨装置具有:基板保持部(32),保持基板(W)并使其旋转;加压垫(50),将研磨带(41)的研磨面按压到基板保持部所保持的基板的坡口部上;以及进给机构(45),使研磨带在其长度方向行进。加压垫(50)具有:硬质部件(51),具有隔着研磨带按压基板的坡口部的按压面(51a);和至少1个弹性部件(53),将硬质部件隔着研磨带而向基板的坡口部按压。
-
公开(公告)号:CN101877305A
公开(公告)日:2010-11-03
申请号:CN201010168158.1
申请日:2006-04-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67219 , B24B9/065 , B24B49/04 , H01L21/302 , H01L21/461 , H01L21/67253 , H01L21/68707 , H01L21/68728
Abstract: 一种基底抛光方法,包括:在抛光单元中抛光基底边缘部分;以及在所述抛光前和/或所述抛光后,在测量单元中测量基底边缘部分,其中,测量单元的传感器机构逐步地以微小的距离向基底的中心移动,以测量基底边缘部分上多点的厚度(An)和从参考点(XO)到基底外圆周表面的距离(Xn),从而获得基底边缘部分的径向厚度分布。
-
公开(公告)号:CN100585812C
公开(公告)日:2010-01-27
申请号:CN200680000414.8
申请日:2006-04-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B9/00
CPC classification number: B24B21/16 , B24B9/065 , H01L21/67046 , H01L21/67092 , H01L21/67161 , H01L21/6719 , H01L21/67219 , H01L21/67766 , H01L21/68707 , H01L21/68728 , H01L21/68792
Abstract: 一种基板处理设备(1)具有第一抛光单元(400A)和第二抛光单元(400B),用于抛光基板的外围部分。两个抛光单元(400A,400B)中的每一个都包括用于抛光基板外围部分的斜边抛光装置(450A,450B)和用于抛光基板凹口的凹口抛光装置(480A,480B)。基板处理设备(1)具有在两个抛光单元(400A,400B)之间形成的维护空间(7)。两个抛光单元(400A,400B)中的斜边抛光装置(450A,450B)面对维护空间(7),以从维护空间(7)触及。
-
公开(公告)号:CN100522484C
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN200580017342.3
申请日:2005-05-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B49/12 , B24B9/00 , H01L21/304 , G01B11/30 , G01N21/956
CPC classification number: H01L21/67242 , B24B9/065 , B24B49/12 , G01N21/9501 , G01N29/44 , H01L21/67023 , H01L21/67075
Abstract: 投射/接收单元(52)将激光投射到周边部分(30)上并接收反射光,同时液体被馈送给衬底(14)并在周边部分(30)上流动。信号处理控制器(54)处理反射光的电信号,以决定周边部分(30)的状态。监控正被抛光的周边部分的状态。而且,检测抛光结束点。还可以使用激光以外的其他传输波。周边部分(30)还可以用通道形成部件包围,从而适当地形成通道。甚至在液体在衬底周边部分上流动的情况下也能适当地测量周边部分。
-
公开(公告)号:CN1977361A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200680000420.3
申请日:2006-04-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B24B9/00
CPC classification number: H01L21/67219 , B24B9/065 , B24B49/04 , H01L21/302 , H01L21/461 , H01L21/67253 , H01L21/68707 , H01L21/68728
Abstract: 一种基底处理设备,包括用于抛光基底边缘部分的第一和第二抛光单元(70A,70B),用于清洁基底(W)的第一级清洁单元(100),用于干燥已经在第一级清洁单元(100)中清洁的基底(W)的第二级清洁和干燥单元(110),和用于测量基底(W)边缘部分的测量单元(30)。测量单元(30)包括用于第一和第二抛光单元(70A和70B)中抛光要求的测量值的机构,例如:直径测量机构,横截面形状测量机构,或者表面状态测量机构。
-
-
-
-
-
-
-
-
-