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公开(公告)号：CN102617430A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201110463187.5
申请日：2011-11-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C381/12 , C07C309/06 , C07C303/32 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00
Abstract: 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II)(II)，其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。
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公开(公告)号：CN101017326A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710092309.8
申请日：2007-01-29
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C09D201/02
Abstract: 与外涂的光致抗蚀剂组合物一起使用的底层涂料组合物。一方面，涂料组合物是可交联的，并包括一种或多种含有一种或多种对酸不稳定的基团和/或一种或多种碱反应基团的组分，这些基团随后进行交联反应。另一个方面，经处理底层涂料组合物可提供调节的水接触角。优选的底层涂料组合物可在等离子体蚀刻剂中显示出增加的刻蚀速度。另外优选的涂料组合物可提高相关光致抗蚀剂组合物平版印刷的性能。
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公开(公告)号：CN104725558B
公开(公告)日：2018-07-27
申请号：CN201410803837.X
申请日：2014-12-18
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , C09D133/06 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/303 , C08F2220/302 , C08F2220/382
Abstract: 本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。种共聚物,其包含源自下组的重复单元:对酸不稳定的单体;脂族、含内酯单体;(甲基)丙烯酸C烷基酯,其中C烷基包括具体的碱可溶性基团;包含脂族阴离子的光致酸生成单体;以及具有下式的中性芳族单体:其中,R、R、R、X、m和R如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材,以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN103254346B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201310048009.5
申请日：2013-02-06
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/10 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/22 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 一种包含电子敏感的酸可脱保护单体如具有式(XX)的单体与共聚单体的聚合产物的共聚物：(XX)式中Ra是H,F,?CN,C1?10烷基或C1?10氟烷基；Rx和Ry各自独立地是取代或未取代的C1?10烷基或C3?10环烷基；Rz是取代或未取代的C6?20含芳族基团或C6?20含环脂族基团；其中Rx和Ry任选地一起形成环；Rx,Ry和Rz中的至少一个被卤代。还公开了一种包含所述共聚物的光致抗蚀剂和涂覆的基材，以及一种使用所述光致抗蚀剂制备电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN104725558A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410803837.X
申请日：2014-12-18
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/30 , C08F224/00 , C09D133/06 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , C08F2220/303 , C08F2220/302 , C08F2220/382
Abstract: 本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；(甲基)丙烯酸C1-12烷基酯，其中C1-12烷基包括具体的碱可溶性基团；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；以及具有下式的中性芳族单体：其中，R1、R2、R3、X、m和R5如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材，以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104725557A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201410800170.8
申请日：2014-12-18
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F212/08 , C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/004 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2004 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38
Abstract: 本发明涉及光致酸生成共聚物和相关的光刻胶组合物、涂覆的基材以及形成电子器件的方法。一种共聚物，其包含源自下组的重复单元：对酸不稳定的单体；脂族、含内酯单体；(甲基)丙烯酸C1-12烷基酯，其中C1-12烷基包括具体的碱可溶性基团；包含脂族阴离子的光致酸生成单体；以及具有下式的中性芳族单体：其中，R1、R2、R3、X、m和Ar如本文所定义。所述共聚物用作光刻胶组合物的组分。描述了包含所述光刻胶组合物层的涂覆的基材，以及使用所述涂覆的基材形成电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN102718932B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201110461847.6
申请日：2011-11-16
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F293/00 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F212/34 , C08F216/12 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , C08F216/125 , C08F216/165 , C08F216/1466
Abstract: 本发明涉及光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种由下式所示的共聚物，其中，R1-R5独立地为H，C1-6烷基或C4-6芳基，R6为氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团；每个Ar独立地为C6-20的单环、多环或稠合多环芳基基团；每个R7和R8独立地为-OR11或C(CF3)2OR11基团，其中，每个R11独立地为H，氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团，或它们的组合；每个R9独立地为F，C1-10烷基，C1-10氟烷基，C1-10烷氧基或C1-10氟烷氧基；R10为含有光致产酸剂的阳离子-结合C10-40基团，摩尔分数a，b，d独立地为0-0.80，摩尔分数c为0.01-0.80，e为0-0.50，前提是a，b，d均为0时，则e大于0，摩尔分数a+b+c+d+e之和为1，l和m独立地为1-4的整数，且n为0-5的整数。一种光致抗蚀剂，以及一种涂层基材，其均包括所述共聚物。
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公开(公告)号：CN102603579B
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201110463334.9
申请日：2011-12-31
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 陶氏环球技术有限公司
IPC: C07C309/42 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07C25/02 , C07D333/76 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/28 , C08F212/32 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C381/12 , C07D333/76 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126
Abstract: 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。
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公开(公告)号：CN104049463A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201310757186.0
申请日：2013-11-19
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 , 得克萨斯A&M大学系统
CPC classification number: G03F7/2004 , C08F2438/03 , C08G2261/126 , C08G2261/136 , C08G2261/146 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了包含接枝嵌段共聚物、光酸产生剂和交联剂的组合物，上述接枝嵌段共聚物包含第一嵌段聚合物和第二嵌段聚合物，第一嵌段聚合物包含主链聚合物和第一接枝聚合物，其中第一接枝聚合物包含表面能降低的部分，第二嵌段聚合物共价连接到第一嵌段，其中所述第二嵌段包含主链聚合物和第二接枝聚合物；其中第二接枝聚合物包含对交联接枝嵌段共聚物有效的官能团。
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公开(公告)号：CN1900824A
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：CN200610101351.7
申请日：2006-07-05
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/0392 , G03F7/091
Abstract: 提供与外涂的光刻胶组合物一起使用的打底涂料组合物。一方面，所述涂料组合物可被交联并含有一种或多种含有一种或多种酸不稳定基团和/或一种或多种碱活性基团的组分，所述碱活性基团在交联之后是反应性的。另一方面，提供打底涂料组合物，该打底涂料组合物可进行处理，以得到已调节的水接触角。优选的涂料组合物可提高相关的光刻胶组合物的平版印刷性能。
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