公开(公告)号：CN117248177A

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN202310720607.6

申请日：2023-06-16

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金桢国 ,  文英慜 ,  宋昇勇 ,  赵恩翡

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  B22F10/28 ,  B33Y10/00 ,  H10K71/16

摘要： 公开了一种掩模、具有该掩模的掩模组件以及一种修复掩模的方法。所述方法包括：提供掩模，掩模包括母构件、多个第一开口以及与多个第一开口中的一个相邻并且具有与多个第一开口中的每个的尺寸不同的尺寸的过加工开口，多个第一开口中的每个和过加工开口限定在母构件中；通过将第一激光束照射到围绕母构件的过加工开口的区域，在过加工开口的至少一部分中形成补充部分；以及通过将第二激光束照射到补充部分，在母构件中形成彼此间隔开的多个第二开口。

公开(公告)号：CN107424909B

公开(公告)日：2023-12-19

申请号：CN201710064161.0

申请日：2017-02-04

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 文英慜 ,  任星淳

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/77

摘要： 本发明实施方式公开了沉积用掩模的制造方法，该方法使用电铸镀将金属镀层在电极板上来制造包括焊接部、肋部和图案部的沉积用掩模，该方法包括：将第一光致抗蚀剂层涂覆在电极板上；向第一光致抗蚀剂层照射光，其中，半色调掩模布置在光源与第一光致抗蚀剂层之间，以在第一光致抗蚀剂层上形成多个曝光区域，其中，半色调掩模具有阻断区域、透射区域以及一个或多个半透射区域；对多个曝光区域进行显影，以将第一镀层区域暴露至外部；将第一金属层镀层在第一镀层区域上；对第一光致抗蚀剂层进行灰化，以将第二镀层区域暴露至外部；将第二金属层镀层在第一金属层和电极板上的第二镀层区上；以及去除第一光致抗蚀剂层和电极板。

公开(公告)号：CN117070888A

公开(公告)日：2023-11-17

申请号：CN202310552558.X

申请日：2023-05-16

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金桢国 ,  文英慜 ,  宋昇勇 ,  黄圭焕

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H10K71/16

摘要： 本发明提供一种掩模组件。掩模组件包括：框架，包括框架开口部；开放片材，包括与所述框架开口部对应的多个片材开口部及各自包括与所述多个片材开口部中的对应的片材开口部隔开的多个吸附孔的多个孔组，并且与所述框架结合；以及多个掩模，各个所述多个掩模包括多个沉积开口部，并且以与所述多个片材开口部中的对应的片材开口部对齐的方式与所述开放片材结合，其中，所述多个掩模中的每一个与所述多个孔组中的对应的孔组的所述吸附孔重叠。

公开(公告)号：CN114540755A

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN202111313981.1

申请日：2021-11-08

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 李璱 ,  文敏浩 ,  文英慜 ,  孙智熙 ,  宋升勇 ,  任星淳

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L51/56

摘要： 本申请涉及设置沉积掩模的方法、设置显示面板的方法和沉积掩模。设置掩模的方法包括:设置面对第二掩模层的第一掩模层；在第二掩模层中,设置对应于掩模的沉积开口的第一开口；设置辅助层，辅助层面对第一掩模层且第二掩模层位于它们之间并且覆盖第一开口；在辅助层中，设置对应于第一开口并将第一掩模层暴露于辅助层外部的第二开口；在第一掩模层中，通过使用辅助层作为掩模，设置对应于第一开口和第二开口的第三开口；以及设置辅助层与第一掩模层和第二掩模层分离，以设置具有包含第三开口的第一掩模层和包含第一开口的第二掩模层的沉积掩模。

公开(公告)号：CN114438443A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202111247421.0

申请日：2021-10-26

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 孙智熙 ,  文敏浩 ,  文英慜 ,  宋昇勇 ,  李璱 ,  任星淳

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  C23C14/06 ,  C23C14/08 ,  C23C14/14 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C16/06 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40 ,  C23C16/50

摘要： 在此公开了一种掩模、掩模组件和制造掩模的方法。所述掩模包括：聚合物膜，在其中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在聚合物膜上并且包括金属；无机层，设置在聚合物膜和导电层之间并且包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透聚合物膜、导电层和无机层并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。

公开(公告)号：CN114192980A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202111087520.7

申请日：2021-09-16

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 文英慜 ,  文敏浩 ,  宋昇勇 ,  任星淳

IPC分类号： B23K26/21 ,  B23K26/142 ,  B23K26/70 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

摘要： 一种掩模修复装置包括：激光器，朝向设置在掩模框架上的开口片与设置在所述开口片上的单元格掩模之间的焊接部分发射激光束；固定部件，设置在所述开口片下方以固定所述开口片；以及抽吸部件，邻近于所述激光器。所述单元格掩模通过所述激光束与所述开口片分离。

公开(公告)号：CN107541735B

公开(公告)日：2022-01-21

申请号：CN201710484202.1

申请日：2017-06-23

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 任星淳 ,  黃圭焕 ,  文英慜 ,  文敏浩 ,  孔仁浩 ,  金昌燮 ,  金昊泰 ,  陈宰焕 ,  黄东旭

IPC分类号： C23G1/02 ,  C23C14/04

摘要： 本公开内容涉及用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法，所述清洗组合物包括选自有机酸和无机酸的至少一种酸；选自有机盐和无机盐的至少一种盐；氧化剂；表面活性剂；以及水。

公开(公告)号：CN113913741A

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN202110549821.0

申请日：2021-05-20

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 文英慜 ,  文敏浩 ,  任星淳 ,  赵俊豪 ,  宋昇勇

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24

摘要： 公开了一种掩模组件、掩模以及制造显示面板的方法。该掩模组件包括：掩模框架，通过掩模框架限定有多个单元开口；以及多个单元掩模，设置为分别与单元开口对应。单元掩模中的每个包括：掩模主体，与由第一方向和与第一方向交叉的第二方向限定的平面基本上平行，其中，多个孔通过掩模主体限定；结合部，沿着掩模主体的边缘设置；以及拉伸部，从结合部延伸且设置为与掩模主体分隔开。拉伸部包括：第一拉伸部，在第一方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处；以及第二拉伸部，在第二方向上彼此分隔开且设置在掩模主体的相对侧处。

公开(公告)号：CN112864171A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN202011102873.5

申请日：2020-10-15

申请人： 三星显示有限公司

发明人： 金桢国 ,  文英慜

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L27/32 ,  H01L27/15 ,  H01L51/56

摘要： 提供了一种沉积掩模、一种使用该沉积掩模制造显示装置的方法和一种显示装置。沉积掩模包括：主框架，限定第一开口；肋，远离主框架的一侧延伸，肋彼此分开并限定第二开口；以及桥接件，横跨第二开口使肋彼此连接，其中，桥接件和肋形成同一顶表面，并且桥接件中的每个的厚度比肋中的每个肋的厚度小。

公开(公告)号：CN105579618B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201480052773.2

申请日：2014-09-16

申请人： 三星显示有限公司 ,  东进世美肯科技有限公司

发明人： 金仁培 ,  郑锺铉 ,  文英慜 ,  朴弘植 ,  金奎佈 ,  徐源国 ,  申贤哲 ,  李骐范 ,  曹三永 ,  韩胜然

IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/18

CPC分类号： H01L21/30604 ,  C23F1/18 ,  H01L21/32134 ,  H01L27/124 ,  H01L29/45

摘要： 根据本发明的实施例的蚀刻剂组合物包括：基于蚀刻剂组合物的总重量，0.5wt％至20wt％的过硫酸盐、0.01wt％至1wt％的氟化合物、1wt％至大约10wt％的无机酸、0.01wt％至2wt％的吡咯类化合物、0.1wt％至5wt％的氯化合物、0.05wt％至3wt％的铜盐、0.01wt％至5wt％的抗氧化剂或其盐以及水以使蚀刻剂组合物的总重量到100wt％。所述蚀刻剂组合物可以用于通过蚀刻包括铜的金属膜来形成金属布线或制造薄膜晶体管基底。