一种作为溅射靶材的铝靶材与铝合金背板的连接方法

    公开(公告)号:CN104646817A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201410808342.6

    申请日:2014-12-22

    IPC分类号: B23K15/00

    摘要: 一种作为溅射靶材的铝靶材与铝合金背板的连接方法,包括如下步骤:在铝靶材连接面上加工出圆形凸台,在铝合金背板连接面上加工出与该凸台相对应的圆形嵌槽;将铝靶材的凸台嵌合在铝合金背板的嵌槽中;采用真空电子束焊接将靶材与背板边缘进行封焊;将靶材组件进行热处理,加热温度为150-450℃,保温时间0.5-2h;将热处理后的靶材组件直接热压,压强为80~250MPa,保压时间0.2-2h。该方法未使用包套,直接采用真空电子束对靶材与背板进行封焊,封焊后的靶材和背板组件采用加热加压的方法进行连接,加热温度低,连接压力小,对设备要求低,采用新型齿形设计,可保证靶材材料完全填充齿形缝隙,提高了结合强度。

    一种高纯稀土及合金靶材的焊接方法

    公开(公告)号:CN111889869B

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202010702124.X

    申请日:2020-07-21

    IPC分类号: B23K15/06

    摘要: 本发明公开了属于靶材焊接技术领域的一种高纯稀土及合金靶材的焊接方法,步骤如下:将稀土靶坯和背板焊接面进行车齿,在车齿面进行背金处理;在稀土靶坯的非焊接面镀保护层;二者焊接界面设置中间层;制备焊接用包套,在包套内表面涂覆防护层;将稀土靶坯、中间层和背板装配到包套内,将包套进行电子束封焊加工,得到封焊靶材;将封焊靶材进行热等静压扩散焊接,得到高纯稀土靶材。本发明制备的靶材,克服了稀土材料活性高易氧化及与包套材料反应污染的问题,并且所述靶材焊合率≥99%,焊接强度≥60MPa,并且包套与靶材可自动分离,节约成本,提高生产效率。

    一种数控机床夹具
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110935898A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201911335729.3

    申请日:2019-12-23

    IPC分类号: B23B31/02 B23B31/30

    摘要: 本发明属于机械加工领域,尤其涉及一种数控机床夹具,包括活动卡盘、底盘、定位螺纹孔、T形键、齿形槽、液压活动卡爪、主轴组成。所述活动卡盘上有固定产品的固定定位台阶尺寸、三个定位螺纹孔、两个盲孔。底盘包括与活动卡盘耦合的固定定位台阶、与液压活动卡爪耦合的齿形槽、两个用以安装T形键的通孔和一个螺纹孔。底盘主轴的转动会带动底盘、活动卡盘的运动。所述底盘与一个或多个活动卡盘耦合,所述固定定位台阶可根据产品尺寸加工成不同尺寸规格,以适应不同产品。本发明具有更精确的水平定位和轴向定位,提高了机加工的精度,改善了安装和拆卸工作效率,提高了安全系数,且工装结构更简单,成本更低。

    一种氧化物靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN105734508B

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201610217904.9

    申请日:2016-04-08

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本发明公开了属于靶材制备技术领域的一种氧化物靶材及其制备方法。所述氧化物靶材溅射面的边缘加工有倒角或圆角,溅射面的非主溅射区加工有凹槽结构,所有拐角处加工有圆角。所述的氧化物为Al2O3、TiO2、Nb2O5、HfO2、La2O3、ZnO、MgO、ITO、AZO、IGZO的一种或一种以上。将高纯氧化物粉体通过烧结工艺制备成氧化物靶坯,然后通过机械加工,在氧化物靶坯溅射面的边缘加工出倒角或圆角,在非主溅射区加工出凹槽结构,在所有拐角处加工出圆角,形成氧化物靶材。通过对所述氧化物靶材进行结构优化设计,降低了靶材在溅射中开裂的风险,实现了高质量的溅射镀膜。

    一种低气体含量电解钴的制备方法

    公开(公告)号:CN108950598A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201810768334.1

    申请日:2018-07-13

    IPC分类号: C25C1/08

    摘要: 本发明属于电解精炼技术领域,具体涉及一种低气体含量电解钴的制备方法。所述方法包括以下步骤:1)钴氨体系:将质量分数10%~15%的氨水加入氯化钴溶液中发生络合反应,得到钴氨溶液;2)溶液循环:将步骤1)所得溶液通入隔膜电解槽中,单个阴极隔膜区内流速3L/h~4L/h;3)电解:采用脉冲电源电解沉积钴,控制占空比40:1,电沉积钴极板中气体元素氧低于10ppm,碳低于5ppm。本发明能有效防止电沉积过程由于阴极气体含量增大引起极板板面疏松、气孔多、降低电解钴物理质量等不合格问题,大大提高电解钴成品率,且工艺操作简单,便于扩大化规模生产。

    一种靶材组件及其制备方法

    公开(公告)号:CN105220121B

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201510706333.0

    申请日:2015-10-27

    IPC分类号: C23C14/35

    摘要: 本发明属于靶材制备技术领域,具体涉及种靶材组件及其制备方法。所述靶材组件由背板、靶材和垫板组成,制备方法为:在靶材与垫板的组合体上直接冷喷涂背板材质的粉末,以同步实现背板制备及背板与靶材的焊接复合;最后,机加工出成品靶材组件。该制备方法工艺简单,复合后的靶材组件整体变形小、无开裂,背板密度可达到99.5%以上,背板与靶材焊合率99%以上,焊接强度50Mpa以上。

    一种高纯金属溅射靶材的表面处理方法

    公开(公告)号:CN106755891B

    公开(公告)日:2018-06-19

    申请号:CN201611102780.6

    申请日:2016-12-05

    IPC分类号: C21D9/00

    摘要: 本发明属于靶材制备加工技术领域,具体涉及一种高纯金属溅射靶材的表面处理方法。靶材经表面精密机加工、表面研磨、表面清洗后,采用连续波激光热处理法、扫描电子束法或非相干宽带频光源法对靶材表面快速热处理,通过快速热处理的肌肤效应,使靶材表面硬化层发生再结晶,消除硬化层中的应力和位错,得到与基体基本一致的再结晶组织。该方法工艺简单、速度快、通用性高、适用于不同尺寸靶材、制备过程中材料无污染、材料损耗小,且该法绿色环保。