半导体发光器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN102623605A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201210018042.9

    申请日:2012-01-19

    CPC classification number: H01L33/40 H01L33/007 H01L33/16 H01L33/32 H01L33/42

    Abstract: 本发明涉及半导体发光器件及其制造方法。根据一个实施例,半导体发光器件包括第一和第二导电层、第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层、以及发光部件。在第一导电层和第一半导体层之间提供第二半导体层。在第一半导体层和第二半导体层之间提供发光部件。第二导电层在第二半导体层和第一导电层之间并与第二半导体层和第一导电层接触。第一和第二导电层能够透射从发光部件发出的光。第一导电层包括具有第一平均晶粒直径的多晶体。第二导电层包括具有小于等于150纳米的第二平均晶粒直径的多晶体,第二平均晶粒直径小于第一平均晶粒直径。

    半导体发光元件
    75.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101232068B

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN200810008868.0

    申请日:2008-01-25

    CPC classification number: H01L33/32 H01L33/02 H01L33/16

    Abstract: 一种半导体发光元件,包括:由III-V族半导体形成的{0001}n型半导体衬底,其相对于(1-100)方向的倾斜角在0°到45°的范围内,其相对于(11-20)方向的倾斜角在0°到10°的范围内;在所述n型半导体衬底上由III-V族半导体形成的n型层;在所述n型层之上由III-V族半导体形成的n型引导层;在所述n型引导层之上由III-V族半导体形成的有源层;在所述有源层之上由III-V族半导体形成的p型第一引导层;在所述p型第一引导层之上由III-V族半导体形成的p型接触层;以及在所述p型第一引导层和所述p型接触层之间由III-V族半导体形成的凹凸层。所述凹凸层在其顶面上具有交替且规则设置的凹部和凸部,并具有比所述p型接触层低的p型杂质浓度。

    半导体发光器件
    76.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102194953A

    公开(公告)日:2011-09-21

    申请号:CN201010274410.7

    申请日:2010-09-07

    CPC classification number: H01L33/36 H01L33/38

    Abstract: 本发明涉及半导体发光器件。根据一个实施例,一种半导体发光器件包括层叠的结构体、第一电极和第二电极。所述层叠的结构体包括第一导电类型的第一半导体层、第二导电类型的第二半导体层、以及发光部。所述层叠的结构体具有位于所述第二半导体层侧的第一主表面。所述第一电极被设置在所述第一半导体上。所述第二电极被设置在所述第二半导体层上。所述第一电极包括第一衬垫部和从所述第一衬垫部沿第一延伸方向延伸的第一延伸部。所述第一延伸部包括第一宽度增大部。所述第一宽度增大部的沿与所述第一延伸方向正交的方向的宽度从所述第一衬垫部朝向所述第一延伸部的端部增大。

    半导体发光器件
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102157648A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201010275566.7

    申请日:2010-09-08

    CPC classification number: H01L33/12 B82Y20/00 H01L33/04 H01L33/32 H01S5/34333

    Abstract: 本发明涉及半导体发光器件。根据一个实施例,一种半导体发光器件包括:n型和p型半导体层、发光部、多层结构体以及n侧中间层。所述发光部被设置在所述半导体层之间。所述发光部包括包含GaN的势垒层以及被设置在所述势垒层之间的阱层。所述阱层包含Inx1Ga1-x1N。所述体被设置在所述n型半导体层与所述发光部之间。所述体包括:包含GaN的第一层以及被设置在所述第一层之间的第二层。所述第二层包含Inx2Ga1-x2N。第二In组成比x2不小于第一In组成比x1的0.6倍且低于所述第一In组成比x1。所述中间层被设置在所述体与所述发光部之间并包括包含Aly1Ga1-y1N(0<y≤0.01)的第三层。

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