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    掩模板探伤装置及探伤方法
    81.
    发明公开
    掩模板探伤装置及探伤方法 无效

    公开(公告)号：CN108227371A

    公开(公告)日：2018-06-29

    申请号：CN201810004926.6

    申请日：2018-01-03

    申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

    发明人： 张晓妹 ,  王志强 ,  王辉 ,  廖务义

    IPC分类号： G03F1/84

    摘要： 本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

    管路清洁装置
    82.
    发明公开
    管路清洁装置 有权

    公开(公告)号：CN108188118A

    公开(公告)日：2018-06-22

    申请号：CN201810002071.3

    申请日：2018-01-02

    申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

    发明人： 李明龙 ,  王志强 ,  王辉 ,  陈荣龙 ,  殷鹏飞 ,  高鸿飞 ,  马纪艳 ,  鲁顺安

    IPC分类号： B08B9/051

    摘要： 本发明涉及一种管路清洁装置，所述管路清洁装置，包括第一行进单元、清洗单元以及为所述第一行进单元和清洗单元提供动力的动力单元，其中所述动力单元与所述第一行进单元活动连接，且所述第一行进单元在所述管路清洁装置的运动方向上与所述动力单元产生相对位移，而带动所述管路清洁装置移动；所述清洁单元清洗单元包括可转动的清洁毛刷。根据本发明的实施例，可以通过清洁毛刷对管路内壁附着在管路内壁的污渍直接清洗，而且通过清洁毛刷来清洁管路内部的污渍，避免了清洗剂对设备内易腐蚀的零部件的损害。此外，本发明的实施例所提供的管路清洁装置可用于清洁长度较长的管路。

    一种精细图案的制作方法及显示装置
    84.
    发明公开
    一种精细图案的制作方法及显示装置 有权

    公开(公告)号：CN107024833A

    公开(公告)日：2017-08-08

    申请号：CN201710457815.6

    申请日：2017-06-16

    申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

    发明人： 王志强 ,  陈荣龙 ,  李明龙 ,  殷鹏飞 ,  马纪艳 ,  高鸿飞

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/0035

    摘要： 本发明公开了一种精细图案的制作方法及显示装置，采用具有与待形成的精细图案一致的特定凸版图形的金属模板制作精细图案，可以不受曝光机的精度限制。在将待固化胶填充至金属模板的凹槽内后，利用待固化胶倒模的方式将待固化胶转移至待形成精细图案的显示基板的表面，并固化待固化胶，以在显示基板的表面形成固化胶，来替代纳米压印过程中使用压力在显示基板上形成压膜图案，可以避免压力不均导致的电性不良的问题。在具有固化胶的显示基板表面形成整面的待形成精细图案的膜层后，采用去除固化胶以去除位于固化胶之上的膜层区域的方式得到精细图案，可以避免形成图形过程中采用蚀刻工艺而影响精细图案的均匀性。

    一种气体流量控制装置及等离子体刻蚀设备
    85.
    发明公开
    一种气体流量控制装置及等离子体刻蚀设备 有权

    公开(公告)号：CN106653660A

    公开(公告)日：2017-05-10

    申请号：CN201710060764.3

    申请日：2017-01-25

    申请人： 重庆京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

    发明人： 常新园 ,  高才勇 ,  刘浩 ,  常维 ,  王志强 ,  吕俊君 ,  崔镕各

    IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  G05D7/00

    摘要： 本发明公开了一种气体流量控制装置及等离子体刻蚀设备，气体流量控制装置包括内环管道和外环管道；还包括独立的至少两个管路系统；其中，各管路系统包括第一支路和第二支路，第一支路与内环管道相连，第二支路与外环管道相连。本发明实施例提供的气体流量控制装置通过设置包括独立的至少两个管路系统，将不同的气体通过各自的管路系统通入至内环管道和外环管道后进行各自分配，根据工艺需求，调节各种气体的内环管道和外环管道的分配比，并且不同气体的内环管道和外环管道的分配调节互不干扰。因此本发明实施例提供的上述气体流量控制装置用于等离子体刻蚀时，可以很大程度提高刻蚀效果及刻蚀均一性。

    一种曝光机
    86.
    发明公开
    一种曝光机 失效

    公开(公告)号：CN106406038A

    公开(公告)日：2017-02-15

    申请号：CN201610922204.X

    申请日：2016-10-21

    申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

    发明人： 张力舟 ,  高鸿飞 ,  吴彬 ,  马纪艳 ,  高琪 ,  王辉 ,  王志强

    IPC分类号： G03F9/00

    CPC分类号： G03F9/7096 ,  G03F7/70475

    摘要： 本发明提供了一种曝光机，涉及曝光技术领域，以在满足从多个方向对掩膜版和显示基板进行对位的同时，降低曝光机的生产成本。其中，所述曝光机包括两套检出系，所述两套检出系所在的平面平行且高于掩膜版所在的平面，两套所述检出系分别平行且对应于所述掩膜版相对的第一边和第二边，所述曝光机还包括驱动模块、以及通过履带连接的主动轮和从动轮，所述两套检出系固装在所述从动轮的端面上，所述主动轮与所述驱动模块连接，所述驱动模块能够驱动所述主动轮转动，所述从动轮在所述主动轮的带动下转动，所述两套检出系在所在平面内随所述从动轮转动第一角度；其中，所述第一角度为大于零的任一角度值。本发明提供的曝光机用于对显示基板进行曝光。

    一种探针更换装置及方法
    88.
    发明公开
    一种探针更换装置及方法 有权

    公开(公告)号：CN104932135A

    公开(公告)日：2015-09-23

    申请号：CN201510253486.4

    申请日：2015-05-18

    申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

    发明人： 马永增 ,  王志强 ,  张伟 ,  沈庆鹤 ,  刘甲甲 ,  岳兴

    IPC分类号： G02F1/1335 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/13

    CPC分类号： B25H7/02 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133516 ,  G02F1/1333

    摘要： 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种探针更换装置及方法。该探针更换装置包括上下设置的上定位板、下定位板及移动组件，下定位板的探针孔与基底上的探针标记的分布位置相对应，上定位板的探针孔与基底上的探针标记的分布位置相匹配，需要在基底安置新的探针时，推动上定位板，上定位板相对下定位板移动，从而使上定位板上的与所需探针标记相匹配的探针孔对准下定位板上相应的探针孔，此时可以在上定位板上的与所需探针标记相匹配的探针孔中安置新的探针，若发现某一探针与其他探针不一致，则可以确定该探针没有正确安置，进而作出及时调整的处理，可保证探针更换精确，也减少了探针标记不良和产品品质不良的发生。