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    低偏转溅射靶组件及其制造方法
    83.
    发明公开
    低偏转溅射靶组件及其制造方法 无效

    公开(公告)号：CN104125870A

    公开(公告)日：2014-10-29

    申请号：CN201380009377.7

    申请日：2013-02-12

    申请人： 东曹SMD有限公司

    发明人： Y.袁 ,  E.Y.伊瓦诺夫

    IPC分类号： B23K20/12

    CPC分类号： H01J37/3417 ,  B23K1/0008 ,  B23K20/002 ,  B23K20/02 ,  B23K20/122 ,  B23K20/129 ,  B23K2103/08 ,  B23K2103/10 ,  B23K2103/14 ,  B23K2103/18 ,  B23K2103/56 ,  C25D7/00 ,  H01J37/3429

    摘要： 描述的是用于以低偏转生产溅射靶组件的设计和方法，溅射靶组件由焊接结合到复合背衬板的靶材料制成，复合背衬板的热膨胀系数(CTE)匹配靶材料。复合背衬板是由具有不同CTE的至少两种不同材料构成的复合构造。复合背衬板在塑性变形后根据需要具有匹配靶材料的CTE，并在结合过程中具有低且期望的偏转，因此，导致低偏转和低应力的靶材料结合到复合背衬板组件。该方法包括：制造具有平坦结合表面的复合背衬板，对靶坯料和复合背衬板进行热处理以实现结合表面的期望形状，将靶焊接结合到背衬板，以及将组件慢慢冷却至室温。匹配的CTE在靶材料和背衬板两者中均消除了CTE失配的问题，并且防止该组件偏转和产生内应力。

    溅射靶组件
    84.
    发明公开
    溅射靶组件 有权

    公开(公告)号：CN104080942A

    公开(公告)日：2014-10-01

    申请号：CN201280068719.8

    申请日：2012-09-25

    申请人： 吉坤日矿日石金属株式会社

    发明人： 长田幸三 ,  栗原敏也

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： H01J37/3423 ,  C23C14/3407 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3435

    摘要： 本发明涉及一种溅射靶组件，其为将直径100mm以上、长度1000mm以上的圆筒形的靶以分割线沿圆周方向的方式分割成三个以上的靶片A，并将该分割靶片A粘贴或设置在圆筒状或圆柱状的背衬体上而构成溅射靶-背衬接合体B，再使两个以上的该接合体B沿宽度方向对齐排列而得到的溅射靶组件，其特征在于，在将各个接合体B排列成溅射靶组件时，以接合体B中存在的三个靶片间的分割线不与相邻的分割靶片间的分割线位于相同位置的方式进行设置。本发明的课题是提供能够减少由靶片粘贴部引起的粉粒产生所导致的不良的溅射靶组件。

    沉积设备及利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法
    86.
    发明公开
    沉积设备及利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法 无效

    公开(公告)号：CN103981494A

    公开(公告)日：2014-08-13

    申请号：CN201310498599.1

    申请日：2013-10-22

    申请人： 三星显示有限公司

    发明人： 崔修赫

    IPC分类号： C23C14/34 ,  H01L27/32 ,  H01L51/56

    CPC分类号： H01J37/3244 ,  H01J37/3417

    摘要： 公开了一种沉积设备，所述沉积设备包括：腔体，基底放置单元，位于所述腔体中并且在其上放置基底；以及溅射单元，用于在基底上形成薄膜。溅射单元包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元。一对靶材安装在第一靶材单元和第二靶材单元上。氩气直接注入到一对靶材之间。因此，可以更有效且稳定地形成等离子体。还公开了一种利用所述沉积设备制造有机发光显示设备的方法。

    成膜装置
    89.
    发明公开
    成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN103502504A

    公开(公告)日：2014-01-08

    申请号：CN201280020605.6

    申请日：2012-04-16

    申请人： 佳能安内华股份有限公司

    发明人： 梶原雄二 ,  安松保志 ,  小长和也

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： C23C14/564 ,  C23C14/3464 ,  H01J37/32899 ,  H01J37/3417 ,  H01J37/3429 ,  H01J37/3435 ,  H01J37/3447

    摘要： 一种成膜装置，该成膜装置由遮挡装置能够选择靶材，能够防止发生在靶材间的污染。成膜装置（10）具备遮挡装置（54）和被固定于靶材电极（C）的第一遮挡板（65）侧的上部遮蔽板（63），遮挡装置（54）具有分别可旋转的第一遮挡板（65）及第二遮挡板（67）。另外，在第一遮挡板（65）的靶材电极（C）侧的面上，以夹着开口（65a，63a）的方式设置了旋转分离壁（72），在上部遮蔽板（63）的第一遮挡板（65）侧的面上，以夹着开口（65a，63a）的方式设置了固定分离壁（71）。在成膜处理时，通过旋转第一遮挡板（65）以便在旋转分离壁（72）与固定分离壁（71）之间形成迷宫，能够防止靶材（C）间的污染。

    用于溅射的分离靶装置及使用其的溅射方法
    90.
    发明公开
    用于溅射的分离靶装置及使用其的溅射方法 失效

    公开(公告)号：CN102828154A

    公开(公告)日：2012-12-19

    申请号：CN201210154307.8

    申请日：2012-05-17

    申请人： 三星显示有限公司

    发明人： 郑胤谟 ,  李基龙 ,  郑珉在

    IPC分类号： C23C14/34

    CPC分类号： C23C14/352 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/3417

    摘要： 分离靶装置，包括底板和多个源单元，多个源单元包括多个分离靶和多个磁体，多个分离靶附着在底板的一个表面上且形成规则排列，多个磁体附着在底板的另一表面上且分别与多个分离靶成对。多个源单元以第一方向与第二方向之间的角度平行地排列，第一方向是规则排列的方向，第二方向与第一方向垂直。使用具有上述结构的分离靶装置进行溅射。