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    用于形成复合基底结构的方法
    1.
    发明授权
    用于形成复合基底结构的方法 失效

    公开(公告)号：CN101923215B

    公开(公告)日：2012-09-19

    申请号：CN201010248133.2

    申请日：2006-10-26

    申请人： 明锐有限公司

    发明人： 杨晓 ,  王宇翔 ,  乌克·吉 ,  贾斯廷·艾伦·佩恩 ,  王叶 ,  威廉·斯潘塞·沃利三世 ,  陈东敏 ,  霍华德·沃

    IPC分类号： G02B26/08

    CPC分类号： G02B26/0841

    摘要： 本发明涉及用于形成复合基底结构的方法。一种显示系统包括光源和第一光学系统，所述第一光学系统光耦合到所述光源，并且适于沿着照明路径而提供照明光束。所述显示系统还包括位于所述照明路径中的空间光调制器。所述空间光调制器包括半导体基底和铰链结构，所述半导体基底包括多个电极器件，所述铰链结构耦接到所述半导体基底。所述铰链结构包括硅材料。所述空间光调制器还包括镜柱和镜板，所述镜柱耦接到所述铰链结构，并且延伸到离半导体基底预定距离的位置，所述镜板耦接到所述镜柱，并且覆盖所述多个电极器件。所述显示系统还包括第二光学系统，其光耦合到所述空间光调制器，并且适于将图像投影到投影表面上。

    用于制备陀螺仪和加速度计的方法
    2.
    发明公开
    用于制备陀螺仪和加速度计的方法 失效

    公开(公告)号：CN101837944A

    公开(公告)日：2010-09-22

    申请号：CN200910246882.9

    申请日：2009-11-19

    申请人： 明锐有限公司

    发明人： 东敏·陈 ,  贾斯廷·佩恩 ,  力-天·曾

    IPC分类号： B81C1/00 ,  B81C3/00 ,  B81B7/02 ,  G01C19/00 ,  G01P15/125

    摘要： 本发明提供一种用于制备陀螺仪和加速度计的方法。其中，用于制备微机电装置的方法包括提供包括控制电路的第一衬底。该第一衬底具有上表面和下表面。该方法也包括在第一衬底的上表面上形成绝缘层，去除绝缘层的第一部分，从而形成多个突起结构，以及结合第二衬底至第一衬底。该方法进一步包括薄化第二衬底成预定厚度，以及在第二衬底中形成多个沟槽。多个沟槽的每一个延伸至第一衬底的上表面。此外，该方法包括将多个沟槽的每一个的至少一部分填充导电材料，在第二衬底中形成微机电装置，以及结合第三衬底至第二衬底。

    使用划线及折断工艺对光学器件进行晶片级封装的方法
    4.
    发明授权
    使用划线及折断工艺对光学器件进行晶片级封装的方法 失效

    公开(公告)号：CN100524637C

    公开(公告)日：2009-08-05

    申请号：CN200580042247.9

    申请日：2005-12-05

    申请人： 明锐有限公司

    发明人： 杨晓 ,  陈东敏 ,  菲利普·陈

    IPC分类号： H01L21/30 ,  H01L21/46

    CPC分类号： B81C1/00873 ,  B81B2201/047 ,  H01L24/05 ,  H01L33/483 ,  H01L2224/04042 ,  H01L2224/48463 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/1461 ,  H01L2924/00

    摘要： 一种多层集成光学和电路装置具有包括至少一个集成电路芯片的第一衬底(101)，所述集成电路芯片包括单元区域(107)和周边区域(106)。优选地，周边区域具有包括具有一个或多个接合焊盘(115)的接合焊盘区域(109)和围绕所述一个或多个接合焊盘(115)中各个接合焊盘的抗粘着区域(112)。该装置具有耦合到第一衬底(101)的第二衬底(114)，第二衬底上带有至少一个或多个偏转器件(103)。将第一衬底(101)上至少一个或多个接合焊盘(115)暴露。该装置具有透明部件(201)，透明部件覆盖于第二衬底(114)上方并同时形成空腔区域以形成夹层结构，空腔区域允许所述一个或多个偏转器件(103)在部分空腔区域中运动，夹层结构包括至少部分第一衬底(101)、部分第二衬底(114)、以及部分透明部件(201)。使所述一个或多个接合焊盘(115)以及抗粘着区域(112)暴露，而将所述一个或多个偏转器件(103)保持在所述的部分空腔区域中。

    具有隐藏铰链的高填充率反射式空间光调制器的制造
    6.
    发明授权
    具有隐藏铰链的高填充率反射式空间光调制器的制造 失效 转让

    公开(公告)号：CN100410722C

    公开(公告)日：2008-08-13

    申请号：CN200480020946.9

    申请日：2004-02-12

    申请人： 明锐有限公司

    发明人： 潘晓河 ,  杨晓

    IPC分类号： G02B26/00 ,  G02F1/00

    摘要： 一种具有隐藏铰链的微反射镜阵列的制造，该微反射镜阵列可用于例如反射式空间光调制器中。在一种实施例中，微反射镜阵列由衬底制造，该衬底是单晶硅材料的第一衬底。在第一衬底的第一面中形成空腔。在第二衬底的第一面上分开制造电极以及寻址和控制电路。将第一衬底的第一面结合到第二衬底的第一面。将各面对准以使第二衬底上的电极与将要在第一衬底上形成的、电极将要控制的反射镜片处于适当关系。将第一衬底切薄到预定的期望厚度，刻蚀铰链，沉积牺牲材料，将第一衬底的上表面平面化，沉积反射表面以覆盖铰链，通过刻蚀释出反射镜，并去除铰链周围的牺牲层以释出铰链，使铰链可以围绕与铰链共线的轴线旋转。

    反射式空间光调节器的制造
    7.
    发明公开
    反射式空间光调节器的制造 失效

    公开(公告)号：CN1610644A

    公开(公告)日：2005-04-27

    申请号：CN03801744.X

    申请日：2003-05-30

    申请人： 明锐有限公司

    发明人： 晓和.X.潘 ,  杨晓 ,  陈东敏

    IPC分类号： B81B7/04 ,  B81B5/00 ,  H01P3/08

    CPC分类号： G02B26/0833 ,  G02B26/0841

    摘要： 一种包括微镜阵列的反射式空间光调节器的制造。在一个实施例中，微镜阵列是通过仅使用两个主要蚀刻步骤由单晶材料的衬底制造而成的。第一步蚀刻在材料的第一侧中形成空穴。第二步蚀刻形成支持柱、垂直铰链和镜板。在第一和第二步蚀刻之间，可以将衬底压焊到寻址和控制电路上。