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公开(公告)号：CN105308084A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201480032921.4
申请日：2014-06-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C08G10/04 , B32B7/12 , B32B15/08 , B32B15/14 , B32B27/28 , B32B2260/021 , B32B2260/046 , B32B2307/3065 , B32B2457/00 , C08G14/12 , C08G73/0655 , C08J5/24 , C08J2361/34 , C08J2379/04 , C08L61/18 , C08L61/34 , C08L63/00 , C08L71/00 , C08L79/04 , C09D161/18 , C09D161/34 , C09D179/04 , C09J161/18 , C09J161/34 , C09J179/04 , H05K1/0326 , H05K1/0346
Abstract: 本发明的氰酸酯化合物是将改性萘甲醛树脂进行氰酸酯化而得到的。
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公开(公告)号：CN107407884A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680013444.6
申请日：2016-02-19
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G14/12 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08G14/12 , C08G73/0644 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/0276
Abstract: 本发明提供包含将改性萘甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物的光刻用下层膜形成用材料。
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公开(公告)号：CN103733136B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201280039344.2
申请日：2012-08-09
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07D311/96
Abstract: 提供碳浓度高、氧浓度低、耐热性较高、溶剂溶解性也比较高、能够适用湿式工艺的新型光刻用下层膜形成材料等。本发明的光刻用下层膜形成材料的特征在于，其含有下述通式(1)所示的化合物。(式(1)中，X各自独立地是氧原子或硫原子，R1各自独立地是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基，该烃基任选具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团，R2各自独立地是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为2～10的链烯基或羟基，其中，R2的至少一个是羟基，m各自独立地是1～6的整数，n是1～4的整数。)
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公开(公告)号：CN106575083A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580042508.0
申请日：2015-07-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07C261/02 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07C261/02 , C09D7/20 , C09D179/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/027 , H01L21/0274 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31116 , H01L21/31144
Abstract: 本发明的光刻用下层膜形成用组合物含有特定式(1)所示的化合物以及溶剂成分(S)20～99质量％，除前述溶剂成分(S)以外的成分(A)中包含27～100质量％的该式(1)所示的化合物。
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公开(公告)号：CN104220473A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201380007364.6
申请日：2013-01-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G10/02
Abstract: 本发明涉及将由式(1)表示的化合物(A)与甲醛(B)在酸性催化剂的存在下以(A)∶(B)＝1∶1～1∶20的摩尔比反应而得到的萘甲醛树脂，由其所衍生的脱缩醛键萘甲醛树脂以及改性萘甲醛树脂。
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公开(公告)号：CN104114596A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380009715.7
申请日：2013-02-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
CPC classification number: C08G10/04 , C08G14/04 , C09D161/18 , C09D161/34 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供热分解性和在溶剂中的溶解性优异的新型树脂及其前体。一种树脂，其是对单烷基萘甲醛树脂进行酸性处理而得到的，所述单烷基萘甲醛树脂是使下述式(1)所示的化合物与甲醛在催化剂的存在下反应而得到的。(式(1)中，R1表示碳数1～4的烷基)。
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公开(公告)号：CN107430344A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680019414.6
申请日：2016-04-07
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11 , C07C39/15 , C07C261/02 , C07D311/78 , C09D165/00 , C09D173/00 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/3081 , H01L21/3086
Abstract: 一种光刻用下层膜形成用材料，其使用下述式(0)所示的化合物。(式(0)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或无桥接，R1是碳数1～30的2n价基团或单键，R0各自独立地是碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的直链状、支链状或环状的烯基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基或羟基，前述烷基、前述烯基和前述芳基任选含有氰氧基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基、羟基、醚键、酮键或酯键，m1各自独立地是0～4的整数，此处，至少一个m1是1～4的整数，m2各自独立地是0～3的整数，n是1～4的整数，p各自独立地是0或1。)
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公开(公告)号：CN105339402B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201480035156.1
申请日：2014-06-16
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G10/02
Abstract: 一种芳香族烃甲醛树脂，其为使下述式(1)表示的芳香族烃化合物(A)与甲醛(B)在酸性催化剂的存在下反应而得到的。(式(1)中，R表示碳数1～10的有机基团、l表示0～2的整数、m和n表示满足1≤m+n≤10、m≥0、n≥1的整数。)
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公开(公告)号：CN101889247A
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200880119430.8
申请日：2008-12-01
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G8/38 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种赋予光刻用下层膜良好的光学特性和耐蚀刻性的用于形成光刻用下层膜的组合物，以及由该组合物形成的折射率(n)高、消光系数(k)低、透明且耐蚀刻性高、而且升华性成分极其少的下层膜，以及使用了该下层膜的图案形成方法。这样的用于形成下层膜的组合物至少含有使萘和/或烷基萘与甲醛反应而得到的含有特定单元的萘甲醛系聚合物和有机溶剂。
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