光学玻璃阵列透镜微纳热压成型工艺

    公开(公告)号:CN111825311A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201910309977.4

    申请日:2019-04-17

    IPC分类号: C03B23/03 C23C14/35 C23C14/06

    摘要: 本发明提供了光学玻璃阵列透镜微纳热压成型工艺,步骤包括:采用微细电火花加工工艺制备微孔阵列模具,所述微孔匹配于光学玻璃阵列透镜,所述模具采用具有导电性能、符合强度、温度要求的硬质金属材料;采用磁控溅射技术在微孔阵列模具表面制备纳米氮化物基梯度复合涂层;预制玻璃坯料并置于微孔阵列模具表面,加热玻璃坯料,采用玻璃模压机在真空条件下热压坯料,在氮气氛围中冷却后脱模取样。采用本发明工艺不仅能够提高制备的光学玻璃阵列透镜表面质量,而且能够降低光学玻璃阵列透镜制造成本和制造难度。

    一种用于玻璃透镜成型的石英玻璃模具

    公开(公告)号:CN117361849A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311308894.6

    申请日:2023-10-09

    IPC分类号: C03B11/08 C03C17/36

    摘要: 本发明公开了一种用于玻璃透镜成型的石英玻璃模具,涉及模压模具技术领域,包括模具本体、设置在模具本体表面的保护层,所述保护层包括Cr过渡层和CrWN‑Ru涂层;本发明通过设置的CrWN‑Ru涂层,该方法采用磁控溅射技术在石英玻璃基底表面沉积多组分过渡金属氮化物涂层,引入W、Ru、Cr元素,并将氮气作为反应气体,制得多层梯度结构涂层,保证模具本体的硬度、润滑度、抗氧化性、耐磨性。通过设置的石英玻璃模具,石英玻璃不仅能够承受高温,具有高硬度、耐磨性,尤其还具有较低的热膨胀系数,并有着高于普通玻璃的机械性能,使用石英玻璃作为模具减小了模具的膨胀系数,减小温度对模具的影响,增加了玻璃透镜的生产质量。

    一种用于石英玻璃模具用镀膜结构

    公开(公告)号:CN221028642U

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202322762510.X

    申请日:2023-10-13

    IPC分类号: C23C14/32

    摘要: 本实用新型公开了一种用于石英玻璃模具用镀膜结构,涉及模具镀膜技术领域,包括石英玻璃模具,所述石英玻璃模具的表面刻蚀有刻蚀槽,所述石英玻璃模具的表面通过刻蚀槽镀有保护层,所述刻蚀槽包括横槽和竖槽,所述横槽和竖槽垂直相交,所述横槽和竖槽的数量均为若干个,所述横槽和竖槽的宽度为20纳米至50纳米,所述横槽和竖槽的深度为10纳米至50纳米;本实用新型通过在石英玻璃模具的表面增加刻蚀槽,通过刻蚀槽与保护层结合,增加石英玻璃模具与保护层之间的接触面积,以增强石英玻璃模具与保护层之间的结合力,避免保护层的脱落。

    一种下模结构及可温控压边级进成形模具

    公开(公告)号:CN114733951B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN202210299651.X

    申请日:2022-03-25

    申请人: 深圳大学

    IPC分类号: B21D22/22 B21D37/10

    摘要: 本发明属于模具技术设备领域,尤其涉及一种下模结构及可温控压边级进成形模具。下模结构包括:下模板、定位块以及转模板,转模板转动连接下模板,转模板上至少开设有两凹模腔,各凹模腔绕转模板的转动中心间隔布置,定位块可拆卸地连接下模板且限制转模板相对下模板转动,以定位其中一凹模腔。本发明可以在一个凹模结构上进行多级拉深,简化了下模结构的结构且换模效果高。

    增材制造及再制造环境温度调整装置和方法

    公开(公告)号:CN115229214B

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202210829388.0

    申请日:2022-07-15

    申请人: 深圳大学

    摘要: 一种增材制造及再制造环境温度调整装置和方法,该装置包括:第一容器形成有第一腔室,用于盛放第一液体;第二容器形成有第二腔室;第一连通管道连通第一腔室与第二腔室;第三容器形成有第三腔室,第三容器位于第二容器沿竖直方向背向地面的一侧,用于盛放第二液体,第二液体的沸点低于第一液体在常温下的温度;调温管道设置在第二容器和第三容器外,并连通第二腔室和第三腔室;第二连通管道连通第二腔室和第三腔室;换热管道至少部分容置于第二腔室,用于输送惰性气体,惰性气体用于填充在增材制造及再制造环境中。本申请的装置结构简单,对应的操作方法也简单,且能提供稳定的温度环境,控制简单,且可靠性好,不易产生降温失效的情况。

    微光学元件的宏观、微观尺寸测量方法、系统及设备

    公开(公告)号:CN116734729A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202310491392.5

    申请日:2023-05-04

    申请人: 深圳大学

    发明人: 杨高 陈裕杰 龚峰

    摘要: 本申请适用于微光学元件检测技术领域,提供了一种微光学元件的宏观、微观尺寸测量方法、系统及设备,其中,宏观尺寸测量方法包括:通过第一相机获取被测光学元件的初始图像;根据第一相机的标定参数对初始图像进行矫正和预处理,获得目标图像;通过对目标图像进行边缘提取,获得目标图像的边缘轮廓;最后根据边缘轮廓拟合出边缘坐标点,根据第一相机的像素当量和边缘坐标点获得被测光学元件的宏观尺寸测量数据。本申请实施例可以有效降低热压印成型的微光学元件的检测成本,并且可以提高检测效率。

    一种微电极制备方法及微电极

    公开(公告)号:CN110216342B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201910502849.1

    申请日:2019-06-11

    申请人: 深圳大学

    IPC分类号: B23H1/04

    摘要: 本发明实施例提供了一种微电极制备方法及微电极,其中一种微电极制备方法包括:建立三维微电极的几何模型;将所述几何模型切片分层,得到二维分层数据;采用所述二维分层数据制作菲林;采用所述菲林对涂有感光层的铜箔片进行曝光和化学蚀刻处理,得到多个层片;将多个所述层片按照预设顺序叠放并放入真空加热炉加热焊接,得到目标微电极。采用化学蚀刻的方式加工各层铜箔,可一次性蚀刻出不同形状的铜箔片,操作简便,加工效率高,成本低。