一种钨钛靶材坯料的制备方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116970853A

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202310862536.3

    申请日:2023-07-14

    摘要: 本发明涉及一种钨钛靶材坯料的制备方法,包括:1)先通过纯钨粉体和纯钛粉体进行高能球磨增加两者表面缺陷程度,有利于提高烧结阶段的钨钛之间的扩散程度;2)对钨钛混合粉体进行通氢还原降低其表面氧含量;3)添加氢化钛粉体与钨钛混合粉体进行二次均匀化球磨,利用氢化钛在预烧结阶段的分解产氢作用降低块体钨钛靶材坯料内部的含氧量;4)利用预烧结和致密化烧结实现钨钛靶材坯料气体含量降低和微观结构可控性制备;5)利用热压塑性变形处理进一步提高钨钛靶材坯料的致密度和钨钛之间的扩散程度。本发明实现了对于钨钛靶材坯料致密度的提高、含氧量的降低和微观结构的可控性制备,所制备的钨钛靶材服役性能得到了提高。

    一种溅射靶材刻蚀跑道的测量方法

    公开(公告)号:CN118360583A

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202410349572.4

    申请日:2024-03-26

    IPC分类号: C23C14/54 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种溅射靶材刻蚀跑道的测量方法,包括:采用带有三维拍摄模式的共聚焦显微镜拍摄溅射后的靶材溅射表面径向图像;使用图像处理软件处理拍摄得到的三维图像,依次进行校平、填充、提取剖面等步骤,得到靶材刻蚀跑道的轮廓曲线;对轮廓曲线进行距离、高度、面积等几何测量,得到跑道最大宽度、跑道中心处圆周直径、溅射截面面积、跑道最深处高度以及靶材溅射刻蚀体积等几何尺寸参数。由于采用共聚焦显微镜进行拍摄测量,具有操作便捷、图像形态细节清晰等优点,能够得到靶材溅射刻蚀表面的三维真彩图像,测量时对靶材溅射表面不会造成任何破坏,尤其适用于4英寸及以下小尺寸靶材的溅射刻蚀跑道及几何尺寸参数的微米级测量。

    一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法

    公开(公告)号:CN117606330A

    公开(公告)日:2024-02-27

    申请号:CN202311600340.3

    申请日:2023-11-28

    IPC分类号: G01B5/06 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法,主要针对整体原始厚度较薄、分离解绑后容易产生翘曲、靶材边缘不溅射或几乎不溅射的带背板的平面溅射靶材。具体方法是通过升温的方式分离溅射靶材与背板,通过模具硅胶确定溅射靶材最深溅射轨道,以所测边缘厚度最大值与所测最深溅射轨道厚度最小值的差值即最大厚度差作为溅射最大消耗厚度,以此为参考,预估剩余最小厚度消耗完的溅射功耗,进而预估溅射靶材使用寿命。本发明的方法操作简单,适合无三坐标仪、三维扫描仪等精密测量仪器的厂家操作,为带背板的平面靶材使用寿命的预估提供指导,保证溅射靶材的使用安全。

    一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途

    公开(公告)号:CN116875952A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202310839299.9

    申请日:2023-07-10

    IPC分类号: C23C14/35 B22F3/14 B22F3/24

    摘要: 本发明公开了一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途,该溅射靶材氧含量小于50ppm,表面粗晶层厚度小于50um,平均晶粒尺寸2‑8微米,晶界处孔洞呈近球形,直径小于1um,靶材相对密度大于理论密度的99%。制备方法以具有形貌和粒径分布可控的高纯钌粉为原料,通过真空热压烧结法制备钌靶材;通过对真空度控制、加压烧结获得靶材坯料,最终获得具有低氧高密度且具有良好机加工性能的溅射靶材。本发明通对粉末形貌和粒径分布以及真空热压烧结工艺的控制,改善了钌靶氧含量高、表面粗晶层厚、致密度低、机加工性能差等缺点,获得低氧含量和高致密度且加工性能好的溅射靶材,避免常规热压烧结工艺制备的靶材加工困难的缺点。