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公开(公告)号：CN118543948A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410685178.8
申请日：2024-05-30
申请人： 贵研先进新材料(上海)有限公司 , 昆明贵金属研究所 , 云南贵金属实验室有限公司
摘要： 本发明公开了一种镍钒合金靶材的绑定方法，属于溅射靶材技术领域。本发明通过对镍钒合金的焊接端面依次进行机械加工、表面纳米化和电解抛光处理，然后将处理后的镍钒合金与铜或铜背板进行扩散焊连接。本发明所述方法能有效提高靶材的绑定性能，提升靶材的成品率。同时，在扩散焊接时，焊接温度比现有技术的温度大大降低，从而能在几乎不改变镍钒合金结构的条件下实现靶材与背板的有效连接。
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公开(公告)号：CN118360583A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410349572.4
申请日：2024-03-26
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种溅射靶材刻蚀跑道的测量方法，包括：采用带有三维拍摄模式的共聚焦显微镜拍摄溅射后的靶材溅射表面径向图像；使用图像处理软件处理拍摄得到的三维图像，依次进行校平、填充、提取剖面等步骤，得到靶材刻蚀跑道的轮廓曲线；对轮廓曲线进行距离、高度、面积等几何测量，得到跑道最大宽度、跑道中心处圆周直径、溅射截面面积、跑道最深处高度以及靶材溅射刻蚀体积等几何尺寸参数。由于采用共聚焦显微镜进行拍摄测量，具有操作便捷、图像形态细节清晰等优点，能够得到靶材溅射刻蚀表面的三维真彩图像，测量时对靶材溅射表面不会造成任何破坏，尤其适用于4英寸及以下小尺寸靶材的溅射刻蚀跑道及几何尺寸参数的微米级测量。
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公开(公告)号：CN116855789A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202310862518.5
申请日：2023-07-14
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种原位生长石墨烯增强泡沫金属骨架基复合材料的制备方法，是将泡沫金属骨架作为基体，通过化学法结合煅烧的方法在泡沫金属骨架表面原位生长石墨烯，从而制备得到原位生长石墨烯增强泡沫金属骨架基复合材料；步骤包括：1)去除泡沫金属骨架表面的杂质；2)配制含碳有机物和碳量子点的混合溶液，将泡沫金属骨架浸泡于溶液中；3)置于放电等离子烧结系统中进行热处理。本发明在泡沫金属骨架表面原位生长石墨烯，其中石墨烯的微观形貌及含量可控；溶液浸泡法结合热处理工艺可实现石墨烯在泡沫金属骨架内部孔隙中的原位生长，从而可进一步提高泡沫金属骨架的综合服役性能。
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公开(公告)号：CN116970853A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202310862536.3
申请日：2023-07-14
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明涉及一种钨钛靶材坯料的制备方法，包括：1)先通过纯钨粉体和纯钛粉体进行高能球磨增加两者表面缺陷程度，有利于提高烧结阶段的钨钛之间的扩散程度；2)对钨钛混合粉体进行通氢还原降低其表面氧含量；3)添加氢化钛粉体与钨钛混合粉体进行二次均匀化球磨，利用氢化钛在预烧结阶段的分解产氢作用降低块体钨钛靶材坯料内部的含氧量；4)利用预烧结和致密化烧结实现钨钛靶材坯料气体含量降低和微观结构可控性制备；5)利用热压塑性变形处理进一步提高钨钛靶材坯料的致密度和钨钛之间的扩散程度。本发明实现了对于钨钛靶材坯料致密度的提高、含氧量的降低和微观结构的可控性制备，所制备的钨钛靶材服役性能得到了提高。
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公开(公告)号：CN117921021A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202311669336.2
申请日：2023-12-07
申请人： 贵研铂业股份有限公司 , 云南贵金属实验室有限公司
摘要： 本发明公开了一种从铱残靶及其机加工废料中回收制备高纯铱粉的方法，包括如下步骤：(1)铱残靶及其机加工废料预处理；(2)混碱液化；(3)氧化造液；(4)选择性晶化；(5)热分解+高温氢氛围脱氧；(6)酸煮除杂。通过本发明可实现铱残靶及其机加工废料中回收提纯高纯铱粉，粉末粒径小于5μm，纯度大于99.999％，粉末均匀性较好，可用作信息存储用铱溅射靶材原料。
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公开(公告)号：CN118875285A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202411113855.5
申请日：2024-08-14
申请人： 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司 , 云南贵金属实验室有限公司 , 昆明贵研新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种高纯钌基合金靶材的制备方法，属于钌基合金靶材的制备技术领域。所述制备方法包括如下步骤：将氯钌酸铵和其他合金化元素球形颗粒(钽、铬、钨)进行球磨处理，使得氯钌酸铵包覆在合金化元素球形颗粒表面，有利于降低真空热压烧结温度并提高钌基合金靶材的致密度；接着将氯钌酸铵包覆合金化元素的复合粉末进行煅烧及还原处理，有利于调控钌基合金靶材的微观结构；最后将包含纯钌和合金颗粒的复合粉末进行真空热压烧结，得到钌基合金靶材坯料。本发明实现了对于高纯钌基合金靶材致密度的提高和微观结构的有效调控，降低了制备工艺复杂程度及成本，所制备的钌基合金靶材的服役性能得到了改善。
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公开(公告)号：CN117606330A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202311600340.3
申请日：2023-11-28
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种带背板的平面溅射靶材使用寿命的预估方法，主要针对整体原始厚度较薄、分离解绑后容易产生翘曲、靶材边缘不溅射或几乎不溅射的带背板的平面溅射靶材。具体方法是通过升温的方式分离溅射靶材与背板，通过模具硅胶确定溅射靶材最深溅射轨道，以所测边缘厚度最大值与所测最深溅射轨道厚度最小值的差值即最大厚度差作为溅射最大消耗厚度，以此为参考，预估剩余最小厚度消耗完的溅射功耗，进而预估溅射靶材使用寿命。本发明的方法操作简单，适合无三坐标仪、三维扫描仪等精密测量仪器的厂家操作，为带背板的平面靶材使用寿命的预估提供指导，保证溅射靶材的使用安全。
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公开(公告)号：CN118357461A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410465239.X
申请日：2024-04-18
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 云南省贵金属新材料控股集团股份有限公司
IPC分类号： B22F3/14 , C23C14/35 , B22F9/04 , B22F1/145 , B22F1/142 , B22F3/02 , C22C5/04 , C22C32/00 , C22C1/05 , C22C1/059
摘要： 本发明公开了一种铁铂基靶材坯料的制备方法，包括：1)先通过纯铂粉和纯铁粉进行高能球磨增加两者表面缺陷程度，有利于提高烧结阶段铁铂之间的合金化进程；2)添加第三组分粉体与铁铂粉体进行二次均匀化球磨，作为隔离剂使烧结过程中能产生完全相互隔离的铁铂晶粒；3)对混合粉体进行通氢还原降低其表面氧含量；4)利用冷压成型与热压相结合的方式实现铁铂靶材坯料微观结构可控性制备。本发明实现了对于铁铂基靶材坯料致密度的提高、含氧量降低和微观结构的可控性制备，提高了所制备铁铂靶材的服役性能。
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公开(公告)号：CN116875952A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310839299.9
申请日：2023-07-10
申请人： 云南贵金属实验室有限公司 , 贵研铂业股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种低氧高密度Ru溅射靶材、制备方法及其用途，该溅射靶材氧含量小于50ppm，表面粗晶层厚度小于50um，平均晶粒尺寸2‑8微米，晶界处孔洞呈近球形，直径小于1um，靶材相对密度大于理论密度的99％。制备方法以具有形貌和粒径分布可控的高纯钌粉为原料，通过真空热压烧结法制备钌靶材；通过对真空度控制、加压烧结获得靶材坯料，最终获得具有低氧高密度且具有良好机加工性能的溅射靶材。本发明通对粉末形貌和粒径分布以及真空热压烧结工艺的控制，改善了钌靶氧含量高、表面粗晶层厚、致密度低、机加工性能差等缺点，获得低氧含量和高致密度且加工性能好的溅射靶材，避免常规热压烧结工艺制备的靶材加工困难的缺点。
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公开(公告)号：CN116657109A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310631607.9
申请日：2023-05-31
申请人： 昆明贵金属研究所
摘要： 本发明公开了一种抗氧化性的磁控溅射银合金靶材及其制备方法、应用。所述磁控溅射银合金靶材，由Ag、Pt、In组成，其中Pt的质量百分比为0.1~3%，In的质量百分比为1~3.5%，其余为Ag。所得银合金靶材结构均匀，有效提高了其溅射利用率，在相同的溅射时间内体积损失更小，减少了靶材材料的浪费，节约成本，有效缩短了机加工时间，并提高实际生产过程中的经济效益。同时，所制备的银合金靶材在硅片上沉积得到的银合金膜在保证较低电阻率的同时相较于普通Ag薄膜有着更强的抗氧化能力。
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