公开(公告)号：CN111503533B

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202010034430.0

申请日：2020-01-14

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇 ,  大枝洋一

IPC分类号： F21K9/20 ,  F21V5/04 ,  F21V14/06 ,  F21V19/00 ,  G03F7/20 ,  F21Y115/10

公开(公告)号：CN105278258B

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：CN201510336459.3

申请日：2015-06-17

申请人： 佳能株式会社

发明人： 米山义邦 ,  昼间健太郎 ,  大阪昇

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70141 ,  G02B19/0028 ,  G02B19/0047 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70133

摘要： 本发明涉及照明器件、曝光装置、调整方法和用于制造物品的方法。一种照明器件包括：多个光源单元，每个光源单元包含：光源、反射来自光源的光的镜子和阻挡被镜子反射并且向照明表面行进的光的一个或更多个遮光部件；以及在瞳面中形成叠加了来自各光源单元的光的叠加光的光强度分布并且用叠加光照射照明表面的照明光学系统。在照明光学系统的瞳面中的光强度分布中，包含于光源单元中一个中的所有遮光部件的阴影的位置与包含于其余光源单元中的至少一个中的所有遮光部件的阴影的位置分开。

公开(公告)号：CN104122757A

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201410163912.0

申请日：2014-04-23

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇 ,  福冈亮介 ,  吉冈均

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及棱镜光学系统、照明光学系统、曝光设备和装置制造方法。被配置为改变光束的截面形状的棱镜光学系统包括光入射表面、光出射表面以及外侧面。光入射表面包括凹锥面，光出射表面包括凸锥面，并且外侧面包括用于反射从光入射表面进入外侧面的光的反射表面。

公开(公告)号：CN111505908B

公开(公告)日：2024-03-08

申请号：CN202010068085.2

申请日：2020-01-21

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇

IPC分类号： G03F7/20

公开(公告)号：CN110554575A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910443203.0

申请日：2019-05-27

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇 ,  高桥彰宏 ,  坂田峻也

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/683

摘要： 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座(521)，具有间隙；以及反射部件(523)，被设置于该间隙，将透射了基板(510)的光反射到基板侧，在该基板保持装置中，将反射部件(523)相对于基座(521)倾斜地配置。

公开(公告)号：CN107807494B

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201710788152.6

申请日：2017-09-05

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品制造方法。提供在CD一致性这点上有利的曝光波长的控制技术。提供对被照明面进行照明的照明光学系统。照明光学系统具有：遮光板，形成开口部，该开口部规定被照明面中的照明区域的形状；调整部，进行遮光板的调整，以变更被照明面中的照明区域；以及波长选择部，选择对所述被照明面进行照明的光的波长，调整部根据由波长选择部选择的波长，使用遮光板来变更照明区域。

公开(公告)号：CN110554576A

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201910443206.4

申请日：2019-05-27

申请人： 佳能株式会社

发明人： 坂田峻也 ,  高桥彰宏 ,  大阪昇

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本申请涉及基板保持装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种基板保持装置以及包括该基板保持装置的曝光装置，该基板保持装置包括设置有间隙的基座和部署在间隙中并且被配置为将已经透过基板的光向基板侧反射的反射构件。

公开(公告)号：CN108152940A

公开(公告)日：2018-06-12

申请号：CN201711263241.5

申请日：2017-12-05

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇

IPC分类号： G02B17/08 ,  G03F7/20

CPC分类号： G02B17/0836 ,  G03F7/70225

摘要： 本发明涉及反射折射光学系统、照明光学系统、曝光装置。在物面以及像面作为远心光路的反射折射光学系统包括：第1反射面、第2反射面、第3反射面以及第4反射面；以及具有正的屈光力的折射面，该折射面配置于所述物面与所述第1反射面之间，从所述物面出来的光依次经由所述折射面、所述第1反射面、所述折射面、所述第2反射面、所述折射面、所述第3反射面、所述第4反射面到达所述像面。

公开(公告)号：CN105700298A

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：CN201510882884.2

申请日：2015-12-04

申请人： 佳能株式会社

发明人： 昼间健太郎 ,  古泽磨奈人 ,  大阪昇

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/30

CPC分类号： H01J61/526 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70016 ,  G03F7/70891 ,  H01J61/86 ,  H01L21/30

摘要： 本申请涉及冷却装置、照明光学系统、曝光装置和制造物品的方法，并具体提供一种用于冷却光源单元的冷却装置。冷却装置包括：被设置在来自光源单元的光的路径外面的冷却单元；和被配置为连接光源单元的发热部分与冷却单元的热导管。热导管还用作光源单元的电极线。

公开(公告)号：CN110554575B

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN201910443203.0

申请日：2019-05-27

申请人： 佳能株式会社

发明人： 大阪昇 ,  高桥彰宏 ,  坂田峻也

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/683

摘要： 提供一种基板保持装置、曝光装置以及物品的制造方法，能够减少曝光不均匀。基板保持装置包括：基座(521)，具有间隙；以及反射部件(523)，被设置于该间隙，将透射了基板(510)的光反射到基板侧，在该基板保持装置中，将反射部件(523)相对于基座(521)倾斜地配置。