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公开(公告)号：CN108179403A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201810130953.8
申请日：2014-10-16
申请人： 奥野制药工业株式会社
IPC分类号： C23C18/24 , C08J7/14 , C09K13/00 , C09K13/04 , C23C18/16 , C23C18/20 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23F1/14 , C23F3/02 , C25B1/28 , C25D5/14 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
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公开(公告)号：CN118064879A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410208179.3
申请日：2018-05-23
申请人： 奥野制药工业株式会社
摘要： 本发明提供不使用有害的铬酸及昂贵的钯而能够显示出很高的镀敷析出性且能够减少工序的无电解镀的前处理用组合物、前处理方法、及无电解镀方法。本发明提供一种无电解镀的前处理用组合物，其特征在于，含有10mg/L以上的锰离子和10mg/L以上的一价银离子。
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公开(公告)号：CN104254642B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201380022278.2
申请日：2013-04-18
申请人： 奥野制药工业株式会社
摘要： 本发明提供用于黑色Cr-Co合金镀膜的黑化处理方法，所述方法包括使Cr含量为1至15重量％的黑色Cr-Co合金镀膜与包含pH值为-1至5的水溶液的黑化处理溶液接触。根据本发明，形成自含有三价铬的镀浴的较浅带黑色镀膜的微黑颜色被增强从而进一步改善装饰性。此外，所述膜的耐蚀性通过在黑化处理后进行电解铬酸盐处理可以被更多地提高。
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公开(公告)号：CN108179403B
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201810130953.8
申请日：2014-10-16
申请人： 奥野制药工业株式会社
IPC分类号： C23C18/24 , C08J7/14 , C09K13/00 , C09K13/04 , C23C18/16 , C23C18/20 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23F1/14 , C23F3/02 , C25B1/28 , C25D5/14 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
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公开(公告)号：CN110344033A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910680850.3
申请日：2015-04-24
申请人： 奥野制药工业株式会社
摘要： 本发明涉及树脂镀敷方法以及树脂镀敷用蚀刻浴的管理方法，在使用以锰为有效成分的蚀刻浴的树脂镀敷方法中，提供即使在连续使用时也能维持稳定的蚀刻性能的方法。一种树脂镀敷方法，其为将含有树脂材料的物品作为被处理物使用，包括利用含有锰的酸性蚀刻浴的蚀刻工序、使用钯作为催化剂金属的催化剂赋予工序、和无电镀工序的树脂镀敷方法，其特征在于，还包括将该酸性蚀刻浴中的钯浓度维持在100mg/L以下的工序。
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公开(公告)号：CN106471156A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201580036806.9
申请日：2015-04-24
申请人： 奥野制药工业株式会社
CPC分类号： C23C18/24 , C23C18/163 , C23C18/1641 , C23C18/1653 , C23C18/1675 , C23C18/2086 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23C18/42 , C23C18/50 , C25D3/38 , C25D5/14 , C25F1/00
摘要： 在使用以锰为有效成分的蚀刻浴的树脂镀敷方法中，提供即使在连续使用时也能维持稳定的蚀刻性能的方法。一种树脂镀敷方法，其为将含有树脂材料的物品作为被处理物使用，包括利用含有锰的酸性蚀刻浴的蚀刻工序、使用钯作为催化剂金属的催化剂赋予工序、和无电镀工序的树脂镀敷方法，其特征在于，还包括将该酸性蚀刻浴中的钯浓度维持在100mg/L以下的工序。
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公开(公告)号：CN106471156B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201580036806.9
申请日：2015-04-24
申请人： 奥野制药工业株式会社
摘要： 在使用以锰为有效成分的蚀刻浴的树脂镀敷方法中，提供即使在连续使用时也能维持稳定的蚀刻性能的方法。一种树脂镀敷方法，其为将含有树脂材料的物品作为被处理物使用，包括利用含有锰的酸性蚀刻浴的蚀刻工序、使用钯作为催化剂金属的催化剂赋予工序、和无电镀工序的树脂镀敷方法，其特征在于，还包括将该酸性蚀刻浴中的钯浓度维持在100mg/L以下的工序。
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公开(公告)号：CN108179402B
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN201810130955.7
申请日：2014-10-16
申请人： 奥野制药工业株式会社
IPC分类号： C23C18/16 , C08J7/14 , C09K13/00 , C09K13/04 , C23C18/20 , C23C18/24 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23F1/14 , C23F3/02 , C25B1/28 , C25D5/14 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
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公开(公告)号：CN108179402A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201810130955.7
申请日：2014-10-16
申请人： 奥野制药工业株式会社
IPC分类号： C23C18/16 , C08J7/14 , C09K13/00 , C09K13/04 , C23C18/20 , C23C18/24 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/32 , C23C18/38 , C23F1/14 , C23F3/02 , C25B1/28 , C25D5/14 , H01L21/02 , H01L21/306
摘要： 本发明提供了一种树脂材料蚀刻处理用组合物，所述组合物包含具有0.2mmol/L以上的高锰酸根离子浓度和10mol/L以上的总酸浓度的水溶液，并且所述水溶液满足以下条件(1)至(3)中的至少一个：(1)含有量为1.5mol/L以上的有机磺酸，(2)将二价锰离子摩尔浓度设置为高锰酸根离子摩尔浓度的15倍以上，(3)将无水镁盐的添加量设置为0.1至1mol/L。本发明的蚀刻处理用组合物是不含有六价铬并具有出色的蚀刻性能和良好的浴稳定性的组合物。
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公开(公告)号：CN104254642A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：CN201380022278.2
申请日：2013-04-18
申请人： 奥野制药工业株式会社
摘要： 本发明提供用于黑色Cr-Co合金镀膜的黑化处理方法，所述方法包括使Cr含量为1至15重量％的黑色Cr-Co合金镀膜与包含pH值为-1至5的水溶液的黑化处理溶液接触。根据本发明，形成自含有三价铬的镀浴的较浅带黑色镀膜的微黑颜色被增强从而进一步改善装饰性。此外，所述膜的耐蚀性通过在黑化处理后进行电解铬酸盐处理可以被更多地提高。
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