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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108701583B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN201680083129.0
申请日：2016-04-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
Abstract: 一种排气冷却设备(117)，包括至少一个冷却板(314、412、514、614、814、914)，用于将紊流引入到排气冷却设备(117)内排气流动。装置(318、518、618、818、918)可以是多个鳍片(320、322、324、326、328)、具有弯曲顶部(544、644)的圆柱体(518、618)或具有斜角叶片(826、926)的扩散器(824、925)。排气冷却设备(117)内的排气的紊流使颗粒自排气中离开，而最小化排气冷却设备(117)下游的设备中形成颗粒。(56)对比文件US 5427610 A,1995.06.27US 2006162862 A1,2006.07.27US 6308771 B1,2001.10.30JP 2004063866 A,2004.02.26JP 2000114185 A,2000.04.21US 2005003600 A1,2005.01.06JP 2002011319 A,2002.01.15CN 205127670 U,2016.04.06US 2009107091 A1,2009.04.30US 2002066535 A1,2002.06.06US 2015136027 A1,2015.05.21张一鸣.等离子体废物处理技术的工业应用.真空与低温.1995,(第01期),第30-35页.
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公开(公告)号：CN101886254B
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201010219968.5
申请日：2007-10-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 达斯廷·W·胡 , 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 , 亚历山德罗斯·T·迪莫斯 , 凯尔文·陈 , 纳加拉简·雷杰戈帕兰 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉马克里史南
IPC: C23C16/455 , C23C16/448
CPC classification number: H01L21/31695 , C23C16/401 , H01L21/02126 , H01L21/02203 , H01L21/02216 , H01L21/02274 , H01L21/0234 , H01L21/02348 , H01L21/02351
Abstract: 本发明公开了一种用于沉积有机硅酸盐介质层的方法，所述方法通过将衬底定位在具有功率供给的电极的处理腔室中，将一种或多种氧化气体流入处理腔室，将有机硅化合物从第一大容量储存容器中以第一有机硅流速经过第一数字式液体流量计流到第一蒸发注射阀，将有机硅化合物蒸发并将该有机硅化合物和一种载气流到处理腔室中，保持第一有机硅流速以在RF功率存在下沉积初始层，将致孔剂化合物从第二大容量储存容器中以第一致孔剂流速经过第二数字式液体流量计流到第二蒸发注射阀，将致孔剂化合物蒸发并将该致孔剂化合物和一种载气流到处理腔室中，在RF功率存在下沉积一过渡层的同时，增加第一有机硅流速和第一致孔剂流速，并保持第二有机硅流速和第二致孔剂流速以在RF功率存在下沉积含有致孔剂的有机硅酸盐介质层。
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公开(公告)号：CN102136411B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201010534873.2
申请日：2007-03-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 , 托马斯·诺瓦克 , 戴尔·R·杜·博伊斯 , 萨尼夫·巴鲁贾 , 斯科特·A·亨德里克森 , 达斯廷·W·胡 , 安德兹·卡祖巴 , 汤姆·K·乔 , 希姆·M·萨德 , 恩德卡·O·米科蒂
IPC: H01L21/00 , H01L21/3105 , C23C16/56
CPC classification number: B05D3/067 , B29C71/04 , B29C2035/0827 , F26B3/28 , H01L21/67115
Abstract: 本发明的实施方式主要涉及一种用于固化沉积于衬底上的介电材料的紫外固化腔室以及利用紫外辐射固化介电材料的方法。根据本发明实施方式的一种衬底处理设备包括限定衬底处理区的主体；在所述衬底处理区内支撑衬底的衬底支架；与所述衬底支架间隔设置的紫外辐射灯，所述灯设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射；以及运转耦合的电机使所述紫外辐射灯或衬底支架的至少其中之一相对彼此旋转至少180度。所述衬底处理设备还可包括一个或多个反射器，其用于在衬底上产生紫外辐射的泛光图案，所述图案具有高亮度区域和低亮度区域，当旋转时，所述区域结合而产生基本均匀的辐射图案。在本发明中还公开了其他实施方式。
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公开(公告)号：CN108701583A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680083129.0
申请日：2016-04-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32844 , H01J2237/002 , H01J2237/18 , H01J2237/31701 , H01L21/67069 , Y02C20/30
Abstract: 一种排气冷却设备(117)，包括至少一个冷却板(314、412、514、614、814、914)，用于将紊流引入到排气冷却设备(117)内排气流动。装置(318、518、618、818、918)可以是多个鳍片(320、322、324、326、328)、具有弯曲顶部(544、644)的圆柱体(518、618)或具有斜角叶片(826、926)的扩散器(824、925)。排气冷却设备(117)内的排气的紊流使颗粒自排气中离开，而最小化排气冷却设备(117)下游的设备中形成颗粒。
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公开(公告)号：CN106298421A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201510350247.0
申请日：2015-06-23
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: C23C16/0245 , C23C16/4412
Abstract: 本文公开的实施方式大体涉及等离子体消除工艺和装置。等离子体消除工艺从诸如注入腔室之类的处理腔室获得前级管道流出物，且使流出物与反应物反应。所述流出物包含自燃副产物。放置在前级管道路径之内的等离子体发生器可将流出物和反应物离子化以促进流出物与反应物之间的反应。在排出气流路径之内的条件下，离子化的物种反应以形成保持在气相的化合物。在另一实施方式中，离子化的物种可反应以形成从气相凝结的化合物。然后通过收集器将凝结的颗粒物质从流出物中去除。所述装置可包括注入腔室、等离子体发生器、一个或多个泵和洗涤器。
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