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公开(公告)号：CN117943972A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202310359795.4
申请日：2023-04-06
申请人： 应用材料公司
摘要： 一种化学机械抛光装置具有：压板，所述压板支撑抛光垫；载体头，所述载体头包括刚性外壳并被配置为将基板的表面固持抵靠所述抛光垫；电动机，所述电动机用于产生在所述压板与所述载体头之间的相对运动，以便抛光所述基板；原位载体头监测系统，所述原位载体头监测系统包括传感器，所述传感器被定位成与所述外壳相互作用并且检测所述外壳的振动运动并基于检测到的振动运动来生成信号；以及控制器。所述控制器被配置为基于从所述原位载体头监测系统接收的信号来生成载体头状态参数的值，以及基于所述载体头状态参数来改变抛光参数或生成警报。
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公开(公告)号：CN115087518A
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202180014450.4
申请日：2021-06-22
申请人： 应用材料公司
摘要： 一种用于在抛光系统中固持基板的承载头具有：包括承载板的外壳、紧固至外壳的第一柔性膜、以及紧固至承载板的多个第二可独立操作的压电致动器。第一柔性膜具有上表面，并且具有提供基板安装表面的下表面。压电致动器定位在第一柔性膜上方，以便独立地调整第一柔性膜的上表面上的压缩压力。
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公开(公告)号：CN114173991A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202080055434.5
申请日：2020-08-11
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B37/00 , B24B37/015 , B24B37/04 , B24B37/34 , B24B55/02
摘要： 一种化学机械抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；冷却剂源；配给器，所述配给器具有悬吊在工作台之上的一个或多个孔，以将冷却剂从冷却剂源引导至抛光垫的抛光表面上；以及控制器，所述控制器耦合至冷却剂源，并且配置成在抛光操作的选定步骤期间，使冷却剂源通过喷嘴将冷却剂传输至抛光表面上。
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公开(公告)号：CN107075411A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580049930.9
申请日：2015-08-21
申请人： 应用材料公司
CPC分类号： C11D1/146 , C11D3/3753 , C11D3/3773 , C11D11/0047 , C11D17/003 , H05K3/0085
摘要： 本设备及方法的实施例用于后CMP清洗。更具体地，实施例提供用于移除纳米尺寸颗粒的设备及方法。一个实施例提供一种用于清洗基板的方法。该方法包括使基板暴露于黏弹性流体以自基板移除小颗粒。该黏弹性流体包含黏度调节剂及水性基底。
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公开(公告)号：CN115026715B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202210225634.1
申请日：2022-03-07
申请人： 应用材料公司
摘要： 生成用于抛光工艺的配方，包括：接收目标移除曲线，所述目标移除曲线包括针对围绕基板中心成角度地间隔开的位置的要移除的目标厚度；存储提供随时间变化的相对于承载头的基板方向的第一函数；存储将所述区域中的区域下方的抛光速率定义为因变于承载头的一个或多个区域的一个或多个压强的第二函数；以及对于所述多个区域中的每个特定区域，计算定义该特定区域的随时间变化的压强的配方。计算所述配方包括：从定义抛光速率的第二函数和提供随时间变化的相对于该区域的基板方向的第一函数来计算抛光后的预期厚度曲线；以及应用最小化算法以减小预期厚度曲线和目标厚度曲线之间的差异。
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公开(公告)号：CN114901427A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080087342.5
申请日：2020-11-19
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B37/04 , B24B37/26 , B24B37/30 , H01L21/67 , H01L21/306
摘要： 化学机械抛光系统包括：压板，用以保持抛光垫；载体头，用以将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；以及控制器。抛光垫具有抛光控制沟槽。载体通过第一致动器而可跨抛光垫横向移动，并且通过第二致动器而可旋转。控制器使载体头的横向振动与载体头的旋转同步，使得在载体头的多个连续振动上，使得当基板的边缘部分的第一角度幅面在围绕载体头的旋转轴线的方位角位置处时，第一角度幅面覆盖抛光表面，并且当基板的边缘部分的第二角度幅面在方位角位置处时，第二角度幅面覆盖抛光控制沟槽。
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公开(公告)号：CN114434320A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202111293339.1
申请日：2021-11-03
申请人： 应用材料公司
摘要： 本公开内容总体涉及基板边缘清洁和基板承载头间隙清洁的设备和方法。本公开内容涉及装载杯，所述装载杯包括环形基板站，所述环形基板站被配置为接收基板。环形基板站包围位于装载杯内的喷雾器。喷雾器包括一组激励流体喷嘴，所述一组激励流体喷嘴邻近在环形基板站与喷雾器之间的界面设置在喷雾器的上表面上。一组激励流体喷嘴被配置为相对于上表面以向上角度释放激励流体。
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公开(公告)号：CN107210249B
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201580074176.4
申请日：2015-12-14
申请人： 应用材料公司
摘要： 示例瀑布设备包括：(1)具有第一宽度的第一部分，该第一部分具有：(a)第一容室、第二容室、和介于该第一与第二容室之间的受限流体路径；(b)第一耦接表面；和(c)入口开口，该入口开口产生介于该第一耦接表面与该第一容室之间的流体路径；以及(2)具有第二宽度的第二部分，该第二宽度大于该第一宽度，且该第二部分具有：(a)第二耦接表面；和(b)入口，该入口与该第一部分的入口开口对齐。该第一与第二耦接表面形成沟槽，该沟槽沿着该瀑布设备的长度的至少一部分延伸且连接到该第二容室。被引进到该第二部分的入口的流体填充该第一容室，行进通过该受限流体路径至该第二容室，并且离开介于该第一与第二部分之间的沟槽，以形成冲洗流体瀑布。
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公开(公告)号：CN109715342A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201780057451.0
申请日：2017-08-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： B24B37/005 , B24B49/10 , B24B49/12
CPC分类号： B24B37/005 , B24B53/017 , G01B7/10
摘要： 一种用于化学机械抛光的装置包括：压板，所述压板具有表面以支撑抛光垫；承载头，所述承载头用以保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；垫调节器所述垫调节器包括要抵靠抛光表面上被按压的导电体；原位抛光垫厚度监测系统，所述原位抛光垫厚度监测系统包括传感器，所述传感器设置在压板中用以产生通过抛光垫的磁场；以及控制器，所述控制器经配置以从监测系统接收信号并基于对应于传感器在垫调节器的导电体下方的时间的信号的一部分来生成抛光垫厚度的测量。
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公开(公告)号：CN105722641A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480057214.0
申请日：2014-10-24
申请人： 应用材料公司
摘要： 在一些实施例中，提供一种用于清洁基板的装置，所述装置包含：(1)基板卡盘，经配置以利用可接取的基板的前侧来支撑所述基板；(2)抛光衬垫组件，经配置以支撑抛光衬垫，所述抛光衬垫的直径小于所述基板的直径；以及(3)摆动手臂，所述摆动手臂耦接至所述抛光衬垫，并且经配置以：沿所述基板的前侧定位并旋转所述抛光衬垫；以及控制在清洁期间由所述抛光衬垫抵靠所述基板的前侧而施加的力的量。所述基板卡盘、所述抛光衬垫组件与所述摆动手臂经配置以抛光清洁所述基板。公开了众多附加的方面。
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