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公开(公告)号：CN102686367B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201080059894.1
申请日：2010-12-22
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B25J9/06 , B65G49/07 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67742 , B25J9/003 , B25J9/043 , B25J9/1065
Abstract: 本发明提供一种刚性高的驱动装置及具有所述驱动装置的输送装置，所述驱动装置及驱动装置能耐受由于在驱动臂单元时产生的反作用而施加的应力。驱动装置(50)具有框架(60)和安装于所述框架(60)的致动器(70)。所述框架(60)通过铸造一体成型地形成。所述框架(60)具有可连接至输送腔的分隔壁的连接部(61)、作为与所述连接部(61)相向配置的对置部的底板部(62)和联接所述连接部(61)和所述底板部(62)的多个联接部(63)。所述致动器(70)具有三个共轴的传动轴(75)(两个旋转传动轴(71、72)和一个回转传动轴(73))、三个电动机(74)，以及将这三个所述电动机(74)产生的旋转驱动力传递至三个所述传动轴(75)的传递机构。由于所述框架(60)一体成型地形成，从而可以实现刚性高的驱动装置(70)。
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公开(公告)号：CN102460674A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080025769.9
申请日：2010-06-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/677 , B25J9/06
CPC classification number: B25J9/107 , H01L21/67742
Abstract: 本发明提供了一种基板传输装置，可实现机构部的薄型化，该机构部用于使基板直线运动。本发明的实施方式涉及的基板传输装置包括：驱动部(2)、与驱动部(2)连接的一对公共臂(11a、11b)、与公共臂连接的一对工作臂(12a、12b)、承载板(14)、以及转换机构部(13)。该转换机构部(13)将臂的旋转运动转换为该承载板(14)的直线运动。该转换机构部(13)包括：一对轴构件(131a、131b)、以及形成于工作臂(12a、12b)的远端的环部(42a、42b)。该环部围绕轴构件旋转。通过形成于环部外周面的齿轮部(50a、50b)的相互啮合，各环部连动旋转。环部和轴构件之间配置有轴承构件(60a、60b)。该轴承构件和齿轮部在轴构件的直径方向上互相相对地并列排列。
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公开(公告)号：CN109423602B
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201810788659.6
申请日：2018-07-18
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
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公开(公告)号：CN108239744A
公开(公告)日：2018-07-03
申请号：CN201711430447.2
申请日：2017-12-26
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/54
Abstract: 一种间隙计量方法，包含：以从掩膜板向基板的方向为上，使基板和掩膜板上下对齐并重叠，并借助接触板将保持装置配置在基板上，从而以夹持该基板的方式将掩膜板保持在接触板上；以在基板的一面内彼此正交的两个方向为X轴方向和Y轴方向，将具有发光元件和受光元件的计量部隔开配置在计量对象物下方；以发光元件发出的光在基板下表面反射的位置为起点，从该起点开始使计量部对计量对象物在X向和Y向中的至少一个方向上相对进行扫描，在发光元件发出的光在掩膜板发生反射的计量位置从发光元件照射光并由受光元件接收该反射的光，从而取得掩膜板相对于计量部的位移量所对应的扫描数据；以及根据扫描数据和掩膜板的厚度计量基板和掩膜板间的间隙。
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公开(公告)号：CN101454888A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019765.8
申请日：2007-05-28
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 中尾裕利
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , B25J9/06
CPC classification number: B25J9/107 , B25J9/104 , B65G49/061 , B65G49/064 , B65G49/067 , B65G2249/02 , H01L21/67742 , Y10T74/20305 , Y10T74/20323
Abstract: 本发明提供构成不复杂、具有稳定且高精度的输送性的基板输送装置。本发明的基板输送装置(30)具有：一端设置在基台而另一端与基板支撑用的手部(32)连接的多关节臂(31)，引导手部(32)的直线移动的线性导向件(36)，沿线性导向件(36)的导轨(37a)使手部(32)移动的带驱动机构(38)。这样构成的基板输送装置(30)由多关节臂(31)支撑作用于手部(32)的负荷，由线性导向件(36)保证手部(32)的直接输送性。因此，由于不需要用于通过止点的特别机构，所以可防止构成的复杂化。另外，由于负荷不直接作用在线性导向件(36)上，所以可得到高的输送精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111748786A
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN202010656823.5
申请日：2016-12-16
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 中尾裕利
IPC: C23C14/56 , C23C14/34 , C23C14/50 , H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种在通过型的真空处理装置中、能够充分地进行省空间化的技术。本发明的真空处理装置（1）具有形成有单一的真空气氛的真空槽（2）；第1以及第2处理区域（4、5），设置于真空槽（2）内，具有在基板（10）的平面的处理面上进行处理的处理源；以及输送驱动部件（33），构成以通过第1以及第2处理区域（4、5）的方式输送基板（10）的输送路径。该输送路径以相对于下述平面（铅垂面）投影时为一连串的环状的方式形成，该平面包括输送的基板（10）的处理面上的任意点的法线、以及直线地通过第1以及第2处理区域（4、5）时基板（10）的处理面上的任意点所描绘的轨迹线段。
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公开(公告)号：CN109423602A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810788659.6
申请日：2018-07-18
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明提供一种掩膜板，其在通过磁铁阵列的吸引力将掩膜板紧密贴合在基板的下表面以使基板(Sw)夹隔在接触板(Tp)和掩膜板(MP)之间时，可尽量抑制在图案掩膜部(1)的透孔(11)周边的突起，并可防止已形成的薄膜上发生掩膜失效。本发明的掩膜板(MP)具有：图案掩膜部(1)，其由以规定的图案开设并贯通板厚度方向的多个透孔(11)构成；以及遮挡部(2)，其位于图案掩膜部的周围。至少在磁铁的并列设置方向上与图案掩膜部相邻的遮挡部的部分(21)形成为与图案掩膜部的磁导率相同。
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公开(公告)号：CN108239744B
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201711430447.2
申请日：2017-12-26
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 一种间隙计量方法，包含：以从掩膜板向基板的方向为上，使基板和掩膜板上下对齐并重叠，并借助接触板将保持装置配置在基板上，从而以夹持该基板的方式将掩膜板保持在接触板上；以在基板的一面内彼此正交的两个方向为X轴方向和Y轴方向，将具有发光元件和受光元件的计量部隔开配置在计量对象物下方；以发光元件发出的光在基板下表面反射的位置为起点，从该起点开始使计量部对计量对象物在X向和Y向中的至少一个方向上相对进行扫描，在发光元件发出的光在掩膜板发生反射的计量位置从发光元件照射光并由受光元件接收该反射的光，从而取得掩膜板相对于计量部的位移量所对应的扫描数据；以及根据扫描数据和掩膜板的厚度计量基板和掩膜板间的间隙。
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公开(公告)号：CN104904002B
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480004760.8
申请日：2014-01-15
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67092 , H01L21/682
Abstract: 本发明提供一种使加工掩模和基板位置对准并且精度高地紧贴的技术。在使在分离的状态下进行了位置对准的加工掩模（31）和基板（32）靠近移动来紧贴时，一边进行位置对准一边进行靠近移动。因此，即使在靠近移动中产生位置对准的误差，也能够消除该误差。即使基板（32）的垂下部分与加工掩模（31）接触，也一边进行位置对准一边进一步进行靠近移动。
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公开(公告)号：CN113302332B
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202080007249.9
申请日：2020-08-06
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及稳定的蒸镀速度的控制。本发明的成膜装置具有真空容器、成膜源、收容容器、膜厚传感器以及膜厚控制器。所述成膜源收容在所述真空容器。所述收容容器收容在所述真空容器，能够维持比所述真空容器内的压力高的压力。所述膜厚传感器包含具有共振频率的振荡器，在所述膜厚传感器中，在所述振荡器堆积由从所述成膜源释放的成膜材料。所述膜厚控制器收容在所述收容容器，基于所述成膜材料的堆积引起的所述振荡频率的变化，计算从所述成膜源释放的所述成膜材料的释放量。
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