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公开(公告)号：CN104379804A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380034843.7
申请日：2013-06-12
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/48 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/562 , C23C16/4401 , C23C16/4409 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/545
Abstract: 本发明提供一种在真空槽内，一边运送薄膜一边以高的成膜速度在薄膜上形成均匀的膜厚的有机化合物膜的技术。在真空槽（2）内，将从原料卷材（41）上送出的薄膜（10）与中央滚筒（3）相接触地运送，在薄膜（10）上形成有机化合物膜。具有蒸汽排放装置（8）和能量线射出装置（9），所述蒸汽排放装置（8）配置在设在真空槽（2）内的成膜室（6）内，具有排放有机化合物单体的蒸汽并向中央滚筒（3）上的薄膜（10）吹喷的蒸汽排放部（82），所述能量线射出装置（9）相对于形成在中央滚筒（3）上的有机化合物单体层照射能量线，使有机化合物单体层硬化。蒸汽排放装置（8）以及成膜室（6）分别与能够独立控制的第5以及第3真空排气装置（80、60）相连，使蒸汽排放装置（8）内的圧力比成膜室（6）内的圧力大，且使蒸汽排放装置（8）内的圧力与成膜室（6）内的圧力的差为一定。
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公开(公告)号：CN104040023A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201380005648.1
申请日：2013-01-15
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 杨一新 , 三桥善之 , 饭岛正行 , 若松贞次 , 斋藤和彦 , 藤井智晴 , 吉元刚 , 细矢东豪 , 广野贵启 , 林信博 , 角谷宣昭 , 砂川直纪 , 多田勋 , 平野裕之
CPC classification number: C23C16/52 , B05D1/34 , B05D1/62 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/4405
Abstract: 提供对薄层状的成膜对象物体持续成膜，并且能够在使成膜空间与清洗气体气氛分离的状态下清洗放出装置的成膜装置。具有：清洗室(20a～20d)，其构成为若打开闸门(22a～22d)则连接于成膜空间(16)，若关闭闸门(22a～22d)则与成膜空间(16)分离，并且对内部空间放出清洗气体；移动单元(28a～28d)，其使放出装置(13a～13d)在清洗室(20a～20d)内的清洗位置与和清洗位置相比距圆筒部件(12)近的成膜位置之间移动；以及控制装置(18)，其使放出装置(13a～13d)移动至成膜位置时放出原料气体，在使其移动至清洗位置时关闭闸门(22a～22d)并使清洗室(20a～20d)内充满清洗气体。
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公开(公告)号：CN1340634A
公开(公告)日：2002-03-20
申请号：CN01125390.8
申请日：2001-07-24
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3438 , C23C14/088 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供了即使利用溅射法在多个连续基板上形成电解质膜也能使成膜速度和Sr/Ti组成比一定的技术。本发明的溅射装置1在真空槽11内底上设计有位于载置台15周围的对置电极21。在对置电极21的表面上形成有多个孔23,从而使表面积变大。并且,溅射的电解质材料附着在对置电极21表面上,即使其表面上使电解质膜分布正电荷,对置电极21表面上分布的电荷密度也比现有技术中的小,结果对置电极表面电压基本保持接地电压。并且,由于对置电极21表面电压基本保持接地电压,使真空槽11内的放电稳定,不会产生现有技术中膜厚度分布及成膜速度变动及放电不稳定的问题。
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公开(公告)号：CN108291292B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201680069977.6
申请日：2016-11-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24 , C23C16/448
Abstract: 本发明目的在于提供一种能够在真空中基体材料膜上形成有机化合物膜时使有机化合物单体的蒸汽按一定的比例产生并使成膜速率稳定的技术。本发明是一种在真空中释放有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放装置，具有：将液体状的有机化合物单体气化的气化部21；以及与气化部21连通并释放气化部21中气化的有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放部22。在气化部21内设有中空的蒸发器40。该蒸发器40构成为使液体状的有机化合物单体成为雾状而导入，并加热雾状的有机化合物单体34而使之蒸发，将有机化合物单体的蒸汽向气化部21内导出。
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公开(公告)号：CN108291292A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680069977.6
申请日：2016-11-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24 , C23C16/448
Abstract: 本发明目的在于提供一种能够在真空中基体材料膜上形成有机化合物膜时使有机化合物单体的蒸汽按一定的比例产生并使成膜速率稳定的技术。本发明是一种在真空中释放有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放装置，具有：将液体状的有机化合物单体气化的气化部21；以及与气化部21连通并释放气化部21中气化的有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放部22。在气化部21内设有中空的蒸发器40。该蒸发器40构成为使液体状的有机化合物单体成为雾状而导入，并加热雾状的有机化合物单体34而使之蒸发，将有机化合物单体的蒸汽向气化部21内导出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104379797B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201380034632.3
申请日：2013-06-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/228 , C23C14/562 , C23C14/58 , H01J37/32761 , H01J37/3277
Abstract: 本发明利用通过加热生成的有机化合物的蒸气以高成膜速率形成有机薄膜。将成膜室（43）配置到缓冲室（42）的内部，将中央辊（17）的一部分侧面从成膜室开口（54）插入到成膜室（43）内，使基材膜（23）一边紧贴在该部分的侧面上一边行进。从连接在成膜室（43）上的蒸气生成装置26）将蒸气通过载气运输，通过冷却装置（30）将中央辊（17）冷却，将基材膜（23）冷却到蒸气的冷凝温度以下的温度，通过释放到成膜室（43）内的蒸气在基材膜（23）的表面上形成有机原料层35），使中央辊（17）旋转，在硬化室（44）中照射能量线而使其硬化。缓冲室（42）真空排气到低压力，使得从成膜室开口（54）流出的载气和蒸气不流入到硬化室（44）及卷室（41）中。
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公开(公告)号：CN104040023B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201380005648.1
申请日：2013-01-15
Applicant: 株式会社爱发科
Inventor： 杨一新 , 三桥善之 , 饭岛正行 , 若松贞次 , 斋藤和彦 , 藤井智晴 , 吉元刚 , 细矢东豪 , 广野贵启 , 林信博 , 角谷宣昭 , 砂川直纪 , 多田勋 , 平野裕之
CPC classification number: C23C16/52 , B05D1/34 , B05D1/62 , C23C14/12 , C23C14/562 , C23C16/4405
Abstract: 提供对薄层状的成膜对象物体持续成膜，并且能够在使成膜空间与清洗气体气氛分离的状态下清洗放出装置的成膜装置。具有：清洗室(20a～20d)，其构成为若打开闸门(22a～22d)则连接于成膜空间(16)，若关闭闸门(22a～22d)则与成膜空间(16)分离，并且对内部空间放出清洗气体；移动单元(28a～28d)，其使放出装置(13a～13d)在清洗室(20a～20d)内的清洗位置与和清洗位置相比距圆筒部件(12)近的成膜位置之间移动；以及控制装置(18)，其使放出装置(13a～13d)移动至成膜位置时放出原料气体，在使其移动至清洗位置时关闭闸门(22a～22d)并使清洗室(20a～20d)内充满清洗气体。
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公开(公告)号：CN104379804B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201380034843.7
申请日：2013-06-12
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C16/48 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/562 , C23C16/4401 , C23C16/4409 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/545
Abstract: 本发明提供一种在真空槽内，一边运送薄膜一边以高的成膜速度在薄膜上形成均匀的膜厚的有机化合物膜的技术。在真空槽（2）内，将从原料卷材（41）上送出的薄膜（10）与中央滚筒（3）相接触地运送，在薄膜（10）上形成有机化合物膜。具有蒸汽排放装置（8）和能量线射出装置（9），所述蒸汽排放装置（8）配置在设在真空槽（2）内的成膜室（6）内，具有排放有机化合物单体的蒸汽并向中央滚筒（3）上的薄膜（10）吹喷的蒸汽排放部（82），所述能量线射出装置（9）相对于形成在中央滚筒（3）上的有机化合物单体层照射能量线，使有机化合物单体层硬化。蒸汽排放装置（8）以及成膜室（6）分别与能够独立控制的第5以及第3真空排气装置（80、60）相连，使蒸汽排放装置（8）内的圧力比成膜室（6）内的圧力大，且使蒸汽排放装置（8）内的圧力与成膜室（6）内的圧力的差为一定。
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公开(公告)号：CN104379797A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201380034632.3
申请日：2013-06-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/12 , B05D1/60 , B05D3/06 , B05D2252/02 , C23C14/228 , C23C14/562 , C23C14/58 , H01J37/32761 , H01J37/3277
Abstract: 本发明利用通过加热生成的有机化合物的蒸气以高成膜速率形成有机薄膜。将成膜室（43）配置到缓冲室（42）的内部，将中央辊（17）的一部分侧面从成膜室开口（54）插入到成膜室（43）内，使基材膜（23）一边紧贴在该部分的侧面上一边行进。从连接在成膜室（43）上的蒸气生成装置（26）将蒸气通过载气运输，通过冷却装置（30）将中央辊（17）冷却，将基材膜（23）冷却到蒸气的冷凝温度以下的温度，通过释放到成膜室（43）内的蒸气在基材膜（23）的表面上形成有机原料层（35），使中央辊（17）旋转，在硬化室（44）中照射能量线而使其硬化。缓冲室（42）真空排气到低压力，使得从成膜室开口（54）流出的载气和蒸气不流入到硬化室（44）及卷室（41）中。
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公开(公告)号：CN1172021C
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：CN01125390.8
申请日：2001-07-24
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34
CPC classification number: H01J37/3438 , C23C14/088 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供了即使利用溅射法在多个连续基板上形成电解质膜也能使成膜速度和Sr/Ti组成比一定的技术。本发明的溅射装置1在真空槽11内底上设计有位于载置台15周围的对置电极21。在对置电极21的表面上形成有多个孔23，从而使表面积变大。并且，溅射的电解质材料附着在对置电极21表面上，即使其表面上使电解质膜分布正电荷，对置电极21表面上分布的电荷密度也比现有技术中的小，结果对置电极表面电压基本保持接地电压。并且，由于对置电极21表面电压基本保持接地电压，使真空槽11内的放电稳定，不会产生现有技术中膜厚度分布及成膜速度变动及放电不稳定的问题。
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