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    卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置
    2.
    发明授权
    卷绕式真空成膜方法及卷绕式真空成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN101501237B

    公开(公告)日：2011-04-13

    申请号：CN200780030016.5

    申请日：2007-11-16

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 广野贵启 ,  野村常仁 ,  多田勋 ,  中塚笃

    IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/56

    CPC分类号： C23C14/564 ,  C23C14/562

    摘要： 高效保持清洁单元对罐辊的清洁机能，进行高质量的成膜处理。本发明中，在向基膜(12)进行成膜前，使清洁单元(30)与冷却用罐辊(14)接触，一边使罐辊(14)在非冷却状态下转动一边进行清洁，可以防止清洁单元(30)的过冷却，阻止已除去的灰尘的脱离，能够高效进行清洁单元(30)对罐辊(14)的除尘处理。另外，在完成清洁后，解除清洁单元(30)与罐辊(14)的接触状态，可防止成膜时的罐辊(14)的冷却操作对清洁单元(30)进行冷却，从罐辊(14)的周面除去的灰尘不会脱离而被保持着。

    卷绕式真空处理装置
    3.
    发明授权
    卷绕式真空处理装置 有权

    公开(公告)号：CN102197159B

    公开(公告)日：2013-07-10

    申请号：CN200980142299.1

    申请日：2009-10-27

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 广野贵启 ,  多田勋

    IPC分类号： C23C16/509

    CPC分类号： C23C16/545 ,  C23C16/505 ,  H01J37/3277

    摘要： 本发明提供一种卷绕式真空处理装置，其可防止因发热而损坏或绝缘失效的情况出现，因此有利于延长使用寿命。RF电极(6)设置在真空室(15)内。因此，与例如电容耦合器等转动传递单元设置在标准大气压环境中的情况相比，只要真空室(15)内保持着规定的真空度，就能够防止辊子电极(18)和RF电极(6)之间产生绝缘失效的情况。另外，还不存在现有技术中的旋转连接器等转动传递单元因发热而损坏的问题。还有，由于RF电极(6)以隔开辊子电极(18)一定间隔的方式设置，即与辊子电极(18)在非接触状态下接通交流电，所以它们不会因相互接触而磨损，因此这有助于延长电极的使用寿命。

    卷绕式真空蒸镀装置
    5.
    发明公开
    卷绕式真空蒸镀装置 有权

    公开(公告)号：CN101484608A

    公开(公告)日：2009-07-15

    申请号：CN200780023547.1

    申请日：2007-06-07

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 林信博 ,  广野贵启 ,  多田勋 ,  中塚笃 ,  小松研二

    IPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/24

    CPC分类号： C23C14/562 ,  C23C14/02 ,  C23C14/5826

    摘要： 本发明提供一种能够在不降低生产效率的情况下抑制薄膜上产生受热影响区域的卷绕式真空蒸镀装置。本发明涉及的卷绕式真空蒸镀装置(10)包括放卷辊(13)、卷绕从放卷辊(13)放出的薄膜(12)的卷绕辊(15)、配置在放卷辊(13)和卷绕辊(15)之间紧贴薄膜(12)以便对该薄膜进行冷却的冷却辊(14)、与冷却辊(14)相向配置将蒸镀材料蒸镀于薄膜(12)上的蒸发源(16)以及配置在放卷辊(13)和蒸发源(16)之间向行走的薄膜(12)照射电子束的电子束照射器(21)；电子束照射器(21)具有通过通电加热放出电子的丝极(31)和向该丝极(31)供应直流电流的直流发生机构。

    真空处理装置
    7.
    发明授权
    真空处理装置 有权

    公开(公告)号：CN103154311B

    公开(公告)日：2014-12-17

    申请号：CN201180048272.3

    申请日：2011-09-07

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 广野贵启 ,  多田勋

    IPC分类号： C23C14/56

    CPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/562

    摘要： 提供一种实现装置小型化且生产率高、成本低的真空处理装置。传送长的带状基材S使其通过真空处理室（1），在该真空处理室（1）内对带状基材实施规定处理。在真空处理室（1）中设置单个的处理单元（3），设置有送出辊（6）和卷取辊（7）的真空辅助室（2）与真空处理室（1）相连设置。在真空处理室内跨处理单元的两侧上具有一对第一辊单元（4），每个第一辊单元具有等间隔配置的多个辊（42），将各辊在轴向上彼此错开配置，带状基材以螺旋状缠绕在两辊单元的各辊上。还具有移位装置（5），以与处理单元相对的带状基材的一面为表面，当带状基材的里面与处理单元相对时所述移位装置（5）将该带状基材的一部分以规定幅度向该处理单元侧移动。

    真空处理装置
    8.
    发明公开
    真空处理装置 有权

    公开(公告)号：CN103180484A

    公开(公告)日：2013-06-26

    申请号：CN201180050821.0

    申请日：2011-10-14

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 藤本信也 ,  林信博 ,  广野贵启 ,  多田勋

    IPC分类号： C23C14/56

    CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/562 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32788 ,  H01J2237/3325

    摘要： 提供一种真空成膜装置，为便于运输等而将真空处理室和真空辅助室分开设置，易于在安装现场组装且可维护性好。相连设置有真空处理室（1）、向真空处理室传送片状基材的上游侧的真空辅助室（2）以及卷取回收片状基材的下游侧的真空辅助室（3），所述真空处理室（1）具有卷有长的片状基材（S）的一部分的滚筒（15）、配置在该滚筒的下方且从上游侧传送来片状基材的多个辊（16c）、以及处理单元（4）。上述真空处理室及真空辅助室构成为在设置于地面的架台上载置基板，将下面开口的箱体从其下面侧设置在该基板上。多个辊一体构成为辊单元，设置为在真空处理室内可在滚筒的下方空间内自由取放。

    卷绕式真空成膜装置
    9.
    发明授权
    卷绕式真空成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN101501239B

    公开(公告)日：2012-03-07

    申请号：CN200780030031.X

    申请日：2007-09-28

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 林信博 ,  藤井智晴 ,  多田勋 ,  中塚笃

    IPC分类号： C23C14/24 ,  C23C14/04

    CPC分类号： C23C14/042 ,  B05C1/0834 ,  B41F31/002 ,  B41F31/15 ,  C23C14/562

    摘要： 抑制油墨凝结效率的降低及相对印刷辊的油墨转印精度的下降，并且实现油墨凝结辊的结构简单化及组装作业性能提高。本发明的卷绕式真空成膜装置的掩模形成单元(20)具有将形成掩模图案(25)的油墨保持在外周的油墨凝结辊(31)、在薄膜(12)的成膜面上将油墨作为掩模图案(25)进行转印的印刷辊(33)、及配置在油墨凝结辊(31)和印刷辊(33)之间并从油墨凝结辊(31)向印刷辊(33)转印油墨的转印辊(32)，并且具备冷却油墨凝结辊(31)的冷却机构、及使转印辊相对于油墨凝结辊(31)、印刷辊(33)在轴方向上周期性摆动的摆动机构。