曝光装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105474104A

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201480046673.9

    申请日:2014-08-18

    IPC分类号: G03F9/00 H01L21/027 H05K3/00

    摘要: 提供一种曝光装置,即便是设于工件的背面的对准标记,也能可靠地使其与掩模对准标记对位,并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括:掩模(13),该掩模(13)设有掩模对准标记(131);掩模保持件(12),该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持;平台(15),该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定,该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141),该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件,当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时,该光学零件使光在内部奇数次反射,以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像,平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。