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公开(公告)号:CN101939812B
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN200780101172.6
申请日:2007-10-19
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 一种用于激活工艺气体的等离子体室,包括:形成环形等离子体通道的至少四段,每一段具有一横截面积;以及在一段上形成的出口,该出口的横截面积大于其它段的横截面积。该等离子体室还包括:用于接收工艺气体的入口;以及压力通风室,用于在与出口相对的段的宽阔区域上引入工艺气体,以降低局部高等离子体阻抗和气流不稳定性,其中与出口相对的段限定多个孔以在等离子体通道中提供螺旋状气旋。
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公开(公告)号:CN102471914A
公开(公告)日:2012-05-23
申请号:CN200980160926.4
申请日:2009-11-16
Applicant: MKS仪器股份有限公司
CPC classification number: C25D11/04 , C25D11/026 , C25D11/18 , C25D11/30 , H01J37/32477
Abstract: 本发明揭示一种在半导体处理系统中使用的包括铝和镁的物体的表面上产生保护层的方法,该方法包含使用等离子体电解氧化方法来氧化该物体的该表面。该方法也包含通过激发包含卤素的气体来产生包含卤素的等离子体。该方法也包含将该经氧化的表面暴露于该包含卤素的等离子体或受激发气体。
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公开(公告)号:CN102217028A
公开(公告)日:2011-10-12
申请号:CN200980124933.9
申请日:2009-06-17
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/32871 , Y10S55/15 , Y10T29/4935
Abstract: 一种用于远程等离子源的颗粒捕集器,包括本体结构,该本体结构具有用于联接到远程等离子源的腔室的入口和用于联接到处理腔室入口的出口。用于远程等离子源的颗粒捕集器还包括形成在本体结构内并与本体结构入口和本体结构出口流体连通的气体通道。气体通道可形成穿过本体结构的路径,使得来自通道的第一部分的气体中的颗粒以相对于壁的表面的一定角度撞击该壁,该壁形成气体通道的第二部分。冷却剂件可与气体通道热连通。
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公开(公告)号:CN102365705B
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN200980158583.8
申请日:2009-04-13
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/321
Abstract: 描述了包括计算机程序产品的用于在活性气体发生器中激发和/或维持等离子体的方法和装置。从激发电源向等离子体激发电路提供功率。测量等离子体激发电路的预激发信号。基于测得的预激发信号与可调整的预激发控制信号之间的差异来调整提供给等离子体激发电路的功率。在经过一时段之后调整可调整的预激发控制信号。
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公开(公告)号:CN102365705A
公开(公告)日:2012-02-29
申请号:CN200980158583.8
申请日:2009-04-13
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/321
Abstract: 描述了包括计算机程序产品的用于在活性气体发生器中激发和/或维持等离子体的方法和装置。从激发电源向等离子体激发电路提供功率。测量等离子体激发电路的预激发信号。基于测得的预激发信号与可调整的预激发控制信号之间的差异来调整提供给等离子体激发电路的功率。在经过一时段之后调整可调整的预激发控制信号。
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公开(公告)号:CN101939812A
公开(公告)日:2011-01-05
申请号:CN200780101172.6
申请日:2007-10-19
Applicant: MKS仪器股份有限公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32449
Abstract: 一种用于激活工艺气体的等离子体室,包括:形成环形等离子体通道的至少四段,每一段具有一横截面积;以及在一段上形成的出口,该出口的横截面积大于其它段的横截面积。该等离子体室还包括:用于接收工艺气体的入口;以及压力通风室,用于在与出口相对的段的宽阔区域上引入工艺气体,以降低局部高等离子体阻抗和气流不稳定性,其中与出口相对的段限定多个孔以在等离子体通道中提供螺旋状气旋。
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