荧光X射线分析装置和其所采用的程序

    公开(公告)号:CN101151524B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN200580049351.0

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: G01N23/223

    摘要: 一种荧光X射线分析装置等,其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析,针对各种试样,可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度,足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10),该计算机构(10)根据假定的组分,计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度,按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式,逐次近似地修正计算假定的组分,计算试样(13)的组分,上述计算机构(10)每当计算理论强度时,将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数,针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。

    荧光X射线分析装置和其所采用的程序

    公开(公告)号:CN101151524A

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN200580049351.0

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: G01N23/223

    摘要: 一种荧光X射线分析装置等,其通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析,针对各种试样,可按照简便、并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度,足够正确地进行定量分析。包括计算机构(10),该计算机构(10)根据假定的组分,计算从试样(13)的各元素产生的二次X射线(6)的理论强度,按照该理论强度与通过上述检测机构(9)测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式,逐次近似地修正计算假定的组分,计算试样(13)的组分,上述计算机构(10)每当计算理论强度时,将试样(13)的大小与照射到试样表面(13a)的各位置的一次X射线(2)的强度和入射角φ作为参数,针对各光路模拟计算二次X射线(6)的理论强度。

    X射线分析的操作引导系统和操作引导方法

    公开(公告)号:CN106442581A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610637846.5

    申请日:2016-08-05

    发明人: 佐佐木明登

    IPC分类号: G01N23/20

    摘要: 本发明提供能够使用户容易地决定作为分析对象的试料的测定条件的X射线分析操作引导系统和操作引导方法。X射线分析操作引导系统包括:试料信息取得单元,其取得在X射线测定部进行规定分析目的测定的试料的试料信息;测定条件取得单元,其取得相互不同的多个测定条件;虚拟结果取得单元,其通过对所述试料信息进行分别基于所述多个测定条件的模拟,取得所述规定分析目的测定所产生的多个虚拟测定结果;以及比较结果输出单元,其将所述多个虚拟测定结果中的两个以上的虚拟测定结果和分别与该两个以上的虚拟测定结果对应的两个以上的所述测定条件作为比较结果输出。