增大多光子成像分辨率的方法

    公开(公告)号:CN103492951A

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201280019462.7

    申请日:2012-04-17

    发明人: R·J·德沃埃

    摘要: 本发明提供了使得允许具有增大成像分辨率的三维微米结构的形成的方法和多光子光致固化型组合物。所述方法包括提供多光子光致固化型组合物体系,其具有丙烯酸预聚物和包括至少一个二苯乙烯基苯染料或苯并噻唑基氟衍生物的多光子光引发剂体系。所述方法包括在有效地使具有体积的三维微米结构的至少一个固体体素可光确定地形成的条件下将所述光致固化型组合物的至少一个体素成像暴露于一定剂量的电磁能,其中所述固体体素的体积随所述剂量成反比变化。

    制作平版印刷印版的方法

    公开(公告)号:CN101331433A

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200680042261.3

    申请日:2006-11-09

    发明人: M·范达姆

    IPC分类号: G03F7/20 G03F7/32

    摘要: 一种制作平板印刷印版的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供一种平版印刷印版前体,所述前体包括:(i)具有亲水表面或提供有亲水层的载体,(ii)在所述载体上包括可光聚合层和任选的在可光聚合层和载体之间的中间层的涂层,其中所述可光聚合层包含可聚合化合物、聚合引发剂和连接料,b)在印版记录机中按图像暴露所述涂层,c)在步骤(b)后少于10分钟的时间期间内将所述前体在预热单元中加热,d)在上胶站中处理所述前体,所述上胶站包括至少一个上胶单元,其中将胶溶液施用到所述前体,其中在单个步骤中从载体上除去可光聚合层的非暴露区并对所述印版上胶。

    飞秒激光直写抗氧化铜微结构的方法以及铜离子墨水

    公开(公告)号:CN109270798A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811011753.7

    申请日:2018-08-31

    IPC分类号: G03F7/20 C09D11/52

    摘要: 本发明提供一种飞秒激光直写抗氧化铜微结构的方法以及铜离子墨水,该方法用飞秒激光在铜离子薄膜上直写形成铜微结构以制造微电子器件,包括如下步骤:(a)提供铜离子墨水,该铜离子墨水包括铜盐、聚乙烯吡咯烷酮、以及长链醇,溶剂为水;(b)制备铜离子薄膜:待用基片经有机溶剂清洗、去离子水浸泡后,铜离子墨水滴涂或旋涂在清洗过的基片上,经烘干得到厚度为100-500μm的铜离子薄膜;(c)用飞秒激光直写装置直写铜导线,从而在薄膜上直写预期的电极电路;(d)去除未被飞秒激光辐照的区域:依次采用有机溶剂、水清洗基片,最终得到印有电极电路的基片。本发明的方法以及铜离子墨水能够简化微电子器件的制造工艺,降低制造成本,提高产品性能。