摘要:
Procédé d'encapsulation d'un dispositif microélectronique (102.1, 102.2), comportant les étapes de : - réalisation du dispositif microélectronique sur un premier substrat (104) ; - réalisation d'une portion (118.1, 118.2) d'un premier matériau non perméable à l'atmosphère ambiante et perméable à un gaz noble dans un deuxième substrat (108) à base d'un deuxième matériau non perméable à l'atmosphère ambiante et au gaz noble ; - solidarisation du deuxième substrat au premier substrat, formant au moins une cavité (120.1, 120.2) dans laquelle est encapsulé le dispositif microélectronique telle que ladite portion du premier matériau forme une partie d'une paroi de la cavité ; - injection du gaz noble dans la cavité à travers la portion du premier matériau ; - fermeture hermétique de la cavité vis-à-vis de l'atmosphère ambiante et du gaz noble; le ou les gaz de l'atmosphère ambiante étant différents du gaz noble.
摘要:
Structure d'encapsulation (100) d'au moins un dispositif électronique (102), comportant au moins une première cavité (106) délimitée par un support (104) et au moins un capot (108) disposé sur le support et dans laquelle est encapsulé le dispositif électronique, le capot étant traversé par au moins une ouverture (110) faisant communiquer l'intérieur de la première cavité avec au moins une portion de matériau getter (112) disposée dans au moins une deuxième cavité (115), la deuxième cavité étant disposée sur le support et adjacente à la première cavité, au moins une partie de ladite portion de matériau getter étant disposée sur le support et/ou contre au moins une paroi latérale extérieure de la première cavité, la première cavité et la deuxième cavité formant ensemble un volume fermé hermétiquement.
摘要:
A method and system for providing a MEMS device with a portion exposed to an outside environment are disclosed. The method comprises bonding a handle wafer to a device wafer to form a MEMS substrate with a dielectric layer disposed between the handle and device wafers. The method includes lithographically defining at least one standoff on the device wafer and bonding the at least one standoff to an integrated circuit substrate to form a sealed cavity between the MEMS substrate and the integrated circuit substrate. The method includes defining at least one opening in the handle wafer, standoff, or integrated circuit substrate to expose a portion of the to expose a portion of the device wafer to the outside environment.
摘要:
Composant (100) comportant un élément actif (106) encapsulé hermétiquement dans une cavité (116) formée entre un support (102) et un capot (114), dans lequel le support et le capot sont en un matériau électriquement conducteur et isolés électriquement l'un par rapport à l'autre, et comprenant une première liaison électrique entre l'élément actif et le support, et une deuxième liaison électrique, distincte de la première liaison, entre l'élément actif et le capot, et dans lequel : - l'élément actif est solidarisé au support par l'intermédiaire d'une couche diélectrique (104) disposée entre le support et l'élément actif, et entre le support et le capot ; - la deuxième liaison électrique comporte une deuxième portion (210) de matériau électriquement conducteur reliée électriquement au capot, disposée sur la couche diélectrique et en contact électriquement avec un cordon de scellement (118) électriquement conducteur assurant une solidarisation hermétique du capot au support.
摘要:
Procédé d'encapsulation d'un micro-dispositif (100) dans une cavité (108) formée entre un premier (102) et un deuxième substrat (106), comportant les étapes de : - réalisation du micro-dispositif dans et/ou sur le premier substrat, - report et solidarisation du deuxième substrat au premier substrat, formant la cavité dans laquelle est disposé le micro-dispositif, - réalisation d'au moins un trou (112) à travers l'une des deux substrats (106), appelé substrat percé, et débouchant dans la cavité en regard d'une partie (113) de l'autre des deux substrats (102), appelé substrat d'accueil, - dépôt d'au moins une portion de matériau getter (114) sur ladite partie du substrat d'accueil à travers le trou tel que le matériau getter n'obstrue pas le trou, - fermeture hermétique de la cavité par obturation du trou.