Structure d'encapsulation de dispositif électronique et procédé de réalisation d'une telle structure
    96.
    发明公开
    Structure d'encapsulation de dispositif électronique et procédé de réalisation d'une telle structure 有权
    的电子器件的封装和制造这种结构的方法

    公开(公告)号:EP2581339A3

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:EP12187748.4

    申请日:2012-10-09

    IPC分类号: B81C1/00

    CPC分类号: B81C1/00285 B81C2203/0145

    摘要: Structure d'encapsulation (100) d'au moins un dispositif électronique (102), comportant au moins une première cavité (106) délimitée par un support (104) et au moins un capot (108) disposé sur le support et dans laquelle est encapsulé le dispositif électronique, le capot étant traversé par au moins une ouverture (110) faisant communiquer l'intérieur de la première cavité avec au moins une portion de matériau getter (112) disposée dans au moins une deuxième cavité (115), la deuxième cavité étant disposée sur le support et adjacente à la première cavité, au moins une partie de ladite portion de matériau getter étant disposée sur le support et/ou contre au moins une paroi latérale extérieure de la première cavité, la première cavité et la deuxième cavité formant ensemble un volume fermé hermétiquement.

    Procédé d'encapsulation de micro-dispositif par report de capot et depot de getter à travers le capot
    100.
    发明公开
    Procédé d'encapsulation de micro-dispositif par report de capot et depot de getter à travers le capot 审中-公开
    通过发动机罩的应用和Getterdepot通过该发动机罩的微型装置的封装

    公开(公告)号:EP2581338A1

    公开(公告)日:2013-04-17

    申请号:EP12187740.1

    申请日:2012-10-09

    IPC分类号: B81C1/00 H01L23/26

    摘要: Procédé d'encapsulation d'un micro-dispositif (100) dans une cavité (108) formée entre un premier (102) et un deuxième substrat (106), comportant les étapes de :
    - réalisation du micro-dispositif dans et/ou sur le premier substrat,
    - report et solidarisation du deuxième substrat au premier substrat, formant la cavité dans laquelle est disposé le micro-dispositif,
    - réalisation d'au moins un trou (112) à travers l'une des deux substrats (106), appelé substrat percé, et débouchant dans la cavité en regard d'une partie (113) de l'autre des deux substrats (102), appelé substrat d'accueil,
    - dépôt d'au moins une portion de matériau getter (114) sur ladite partie du substrat d'accueil à travers le trou tel que le matériau getter n'obstrue pas le trou,
    - fermeture hermétique de la cavité par obturation du trou.

    摘要翻译: 该方法包括形成微装置(100)和/或在基片(102),即 无聊基板。 另一基板(106),即 接收基板,传送和用于形成该微器件被放置在空腔(108)前的基板固定。 的孔(112)是通过钻孔基板形成,并出现成相对于接收基板的一部分(113)的空腔中。 吸气材料部(114)被沉积在通过所述孔的接收基板的一部分。 该空腔被气密地通过通孔的堵塞封闭。