公开(公告)号：EP2275459B1

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：EP09717608.5

申请日：2009-03-03

申请人： Nippon Steel Chemical Co., Ltd.

发明人： KAWABE, Masanao ,  KITAJIMA, Hiroko ,  NISHIO, Natsuko

IPC分类号： C08F220/30 ,  C08F212/36 ,  C08F212/12 ,  C08F212/08 ,  C08F290/12 ,  G03F7/033 ,  C08L33/14 ,  C09D133/14

CPC分类号： C08F290/124 ,  C08F212/00 ,  C08F212/08 ,  C08F212/12 ,  C08F212/36 ,  C08F220/30 ,  G03F7/033 ,  C08F4/14 ,  C08F212/04 ,  C08F2220/301

公开(公告)号：EP2527380A1

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：EP12180283.9

申请日：2010-12-29

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： Thackeray, James W. ,  Aqad, Emad

IPC分类号： C08F220/38 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F28/02 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  C08F2220/301 ,  C08F220/22

摘要： Provided are radiation-sensitive polymers and compositions which may be used in photolithographic processes. The polymers and compositions provide enhanced sensitivity to activating radiation.

公开(公告)号：EP1200492B1

公开(公告)日：2004-12-15

申请号：EP00950961.3

申请日：2000-08-03

申请人： E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

发明人： MA, Sheau-Hwa ,  MCBRIDE, Edward, Francis

IPC分类号： C08F230/02 ,  C09D11/00

CPC分类号： C08F265/04 ,  C08F2/22 ,  C08F230/02 ,  C08F299/065 ,  C08F2220/301 ,  C09D11/326 ,  C08F2220/286 ,  C08F220/14 ,  C08F220/06

公开(公告)号：EP1294674A1

公开(公告)日：2003-03-26

申请号：EP00953920.6

申请日：2000-08-10

申请人： 3M Innovative Properties Company

发明人： OLSON, David, B.

IPC分类号： C07C69/54 ,  C08F220/30 ,  G02B1/04

CPC分类号： C08F20/30 ,  C07C69/54 ,  C08F2220/301 ,  G02B1/04 ,  C08L33/14 ,  C08F220/06

摘要： Naphthyloxyalkyl(meth)acrylate monomers having a high refractive index and whose respective homopolymer has a low glass transition temperature.

公开(公告)号：EP2935472B1

公开(公告)日：2018-09-12

申请号：EP13818946.9

申请日：2013-12-20

申请人： 3M Innovative Properties Company

发明人： OLSON, David, B. ,  SAVU, Patricia, M. ,  HEBRINK, Timothy, J. ,  NORTH, Diane

IPC分类号： C09D5/00

CPC分类号： C08J5/18 ,  B29C47/0021 ,  B29K2027/16 ,  C08F220/24 ,  C08J2327/16 ,  C08J2433/12 ,  C08J2433/16 ,  C08L33/16 ,  H01L31/048 ,  Y02E10/50 ,  C08F2220/301 ,  C08F220/36 ,  C08F220/58

摘要： A composition that includes a blend of a fluoropolymer and an ultraviolet light-absorbing oligomer. The oligomer has a first divalent unit having a pendent ultraviolet absorbing group and at least one of a second divalent unit that is non-fluorinated or a third divalent unit that is fluorinated. The pendent ultraviolet absorbing group can include a triazine group. The composition can be an extruded film. A method of making such an extruded film is also disclosed.

公开(公告)号：EP3334767A1

公开(公告)日：2018-06-20

申请号：EP16837578.0

申请日：2016-08-12

申请人： Arrow International, Inc.

发明人： ZHANG, Zheng ,  TOROK, Fanni ,  LI, Jun ,  BOUCHARD, Michael ,  VICTOR, John

IPC分类号： C08F2/38 ,  C08J7/04 ,  C07C323/12

CPC分类号： C08F2/48 ,  C08F2/38 ,  C08F2/50 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/303 ,  C08F2220/382 ,  C08J7/047 ,  C08J7/123 ,  C08J2375/04 ,  C08J2433/14 ,  C08F2220/385 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/387

摘要： A photoactivatable fouling-resistant copolymer composed of a photoactivatable monomer and a hydrophilic monomer is disclosed. The photoactivatable monomer includes an aryl ketone derivative having one or more polar groups or alkyl groups.

公开(公告)号：EP3203319B1

公开(公告)日：2018-06-20

申请号：EP17000111.9

申请日：2017-01-23

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Domon, Daisuke ,  Hasegawa, Koji ,  Masunaga, Keiichi ,  Kotake, Masaaki

IPC分类号： G03F7/038

CPC分类号： C08F212/14 ,  C07C381/12 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/301 ,  C08F2500/03 ,  C08F2800/10 ,  G03F1/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382

摘要： The present invention provides a polymer compound containing a repeating unit shown by the following general formula (1). There can be provided a polymer compound usable in a negative resist composition that can achieve high resolution of 50 nm or less and small LER and cause very few defects, a negative resist composition using the polymer compound, and a patterning process using the negative resist composition.

公开(公告)号：EP3202798A4

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：EP15846656

申请日：2015-09-30

申请人： LG CHEMICAL LTD

发明人： PARK NO JIN ,  KIM JUNG KEUN ,  LEE JE GWON ,  YOON SUNG SOO ,  KU SE JIN ,  LEE MI SOOK ,  CHOI EUN YOUNG ,  RYU HYUNG JU

IPC分类号： C08F293/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F212/08 ,  C08F220/10 ,  C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： C09D153/00 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B81C1/00428 ,  B82Y40/00 ,  C01P2002/70 ,  C07B2200/00 ,  C08F2/14 ,  C08F32/06 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F299/024 ,  C08F2220/301 ,  C08F2438/03 ,  C08G61/08 ,  C08G61/128 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1426 ,  C08G2261/332 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/40 ,  C08G2261/418 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J2353/00 ,  C08L53/00 ,  C08L53/005 ,  C08L53/02 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  H01L21/027 ,  C08F214/182

摘要： The present application relates to a block copolymer and uses thereof. The present application can provide a block copolymer - which exhibits an excellent self-assembling property and thus can be used effectively in a variety of applications - and uses thereof.

公开(公告)号：EP2762503B1

公开(公告)日：2017-11-08

申请号：EP12835136.8

申请日：2012-09-25

申请人： Maruzen Petrochemical Co., Ltd.

发明人： HAYASHIDA, Yoshihisa ,  SATSUKA, Takuro ,  IKEDA, Teruyo

IPC分类号： C08F226/12 ,  C08F2/50 ,  C08F16/32 ,  C08F220/10 ,  G02B1/04 ,  G02B5/30

CPC分类号： C09D139/04 ,  C08F2/50 ,  C08F222/1006 ,  C08F226/12 ,  G02B1/04 ,  G02B1/10 ,  G02B1/12 ,  C08L39/00 ,  C08L45/00 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2222/1026 ,  C08F226/08 ,  C08F2220/301

公开(公告)号：EP3203496A1

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：EP15845720.0

申请日：2015-09-30

申请人： LG Chem, Ltd.

发明人： KU, Se Jin ,  LEE, Mi Sook ,  RYU, Hyung Ju ,  KIM, Jung Keun ,  YOON, Sung Soo ,  PARK, No Jin ,  LEE, Je Gwon ,  CHOI, Eun Young

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： C08L53/005 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B81C1/00428 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C01P2002/70 ,  C07B2200/00 ,  C08F2/14 ,  C08F32/06 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F299/024 ,  C08F2220/301 ,  C08F2438/03 ,  C08G61/08 ,  C08G61/128 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1426 ,  C08G2261/332 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/40 ,  C08G2261/418 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J2353/00 ,  C08L53/00 ,  C08L53/02 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  C08F214/182

摘要： Provided is a method of manufacturing a patterned substrate. The method may be applied to a process of manufacturing a device such as an electronic device or integrated circuit, or another use, for example, to manufacture an integrated optical system, a guidance and detection pattern of a magnetic domain memory, a flat panel display, a LCD, a thin film magnetic head or an organic light emitting diode, and used to construct a pattern on a surface to be used to manufacture a discrete tract medium such as an integrated circuit, a bit-patterned medium and/or a magnetic storage device such as a hard drive.

摘要翻译： 提供一种制造图案化基板的方法。 该方法可以应用于制造诸如电子设备或集成电路的设备的过程或者例如用于制造集成光学系统，磁畴存储器的引导和检测图案，平板显示器 ，LCD，薄膜磁头或有机发光二极管，并且用于在要用于制造离散区域介质（诸如集成电路，位图形介质和/或磁体）的表面上构建图案 存储设备，如硬盘。