DISPOSITIF A MATRICE DE DIODES PHOTO-EMETTRICES ET/OU PHOTO-RECEPTRICES

    公开(公告)号:EP3893281A1

    公开(公告)日:2021-10-13

    申请号:EP21166778.7

    申请日:2021-04-01

    摘要: Dispositif (100) à matrice de diodes (102) photo-émettrices et/ou photo-réceptrices, comportant :
    - un empilement de première (106) et deuxième (108) couches semiconductrices dopés selon des types différents ;
    - des premières tranchées (112) traversant l'empilement et entourant une région de l'empilement dans laquelle sont formées plusieurs diodes ;
    - des portions diélectriques (114) disposées dans les premières tranchées et recouvrant des flancs latéraux de ladite région sur toute l'épaisseur de la deuxième couche et une première partie de l'épaisseur de la première couche ;
    - des premières portions électriquement conductrices (116) disposées dans les premières tranchées et recouvrant les flancs latéraux de ladite région sur une deuxième partie de l'épaisseur de la première couche, et formant des premières électrodes des diodes de ladite région ;
    - au moins une deuxième tranchée (118) traversant partiellement la première couche et séparant les portions de la première couche des diodes de ladite région.

    PROCEDE DE REALISATION D'UNE COUCHE DE MATERIAU STRUCTUREE

    公开(公告)号:EP3836235A1

    公开(公告)日:2021-06-16

    申请号:EP20211084.7

    申请日:2020-12-01

    摘要: Procédé de réalisation d'une couche de matériau (100) structurée, comprenant :
    - réalisation d'un premier substrat (102) comportant une face structurée (104) ;
    - réalisation, contre la face structurée du premier substrat, d'un empilement de couches (110) comprenant une couche intermédiaire (112) et la couche à structurer, la couche intermédiaire étant disposée entre la couche à structurer et le premier substrat, une première face (114) de la couche intermédiaire disposée du côté du premier substrat étant structurée conformément à un motif inverse de celui de la face structurée du premier substrat ;
    - retrait du premier substrat ;
    - gravure anisotrope de la couche intermédiaire mise en œuvre depuis la première face de la couche intermédiaire, et gravure d'au moins une partie de l'épaisseur de la couche à structurer, structurant une face (119) de la couche à structurer conformément au motif de la première face de la couche intermédiaire.

    PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF PHOTO-EMETTEUR ET/OU PHOTO-RECEPTEUR A GRILLE DE SEPARATION OPTIQUE METALLIQUE

    公开(公告)号:EP3731285A1

    公开(公告)日:2020-10-28

    申请号:EP20170995.3

    申请日:2020-04-23

    摘要: Procédé de réalisation d'un dispositif photo-émetteur et/ou photo-récepteur (100) à grille de séparation optique métallique (140), comprenant au moins :
    - réalisation d'au moins un composant photo-émetteur et/ou photo-récepteur (102), dans lequel au moins une première électrode métallique (110) du composant photo-émetteur et/ou photo-récepteur recouvre des flancs latéraux d'au moins un empilement semi-conducteur (104, 106, 108) du composant photo-émetteur et/ou photo-récepteur et s'étend jusqu'à au moins une face émettrice et/ou réceptrice (112) du composant photo-émetteur et/ou photo-récepteur ;
    - traitement d'au moins une face de la première électrode métallique localisée au niveau de la face émettrice et/ou réceptrice, rendant mouillable ladite face de la première électrode métallique ;
    - réalisation de la grille de séparation optique métallique sur au moins un support (142) ;
    - solidarisation de la grille de séparation optique métallique contre ladite face de la première électrode métallique par brasage ;
    - retrait du support.