Patent search ap:("エア・ウォーター株式会社") AND inv:"敬志横山" Page 2

11.

发明专利
Manufacturing method of thin film transistor 有权

公开(公告)号：JP4565928B2

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：JP2004239724

申请日：2004-08-19

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 敬志横山 , 孝洋白幡

IPC: H01L21/336 , H01L21/205 , H01L21/28 , H01L29/417 , H01L29/786

12.

发明专利
Method of forming a single crystal SiC layer using an SOI substrate 有权

公开(公告)号：JP4511378B2

公开(公告)日：2010-07-28

申请号：JP2005037039

申请日：2005-02-15

Applicant: エア・ウォーター株式会社 , 公立大学法人大阪府立大学

Inventor： 基中尾 , 純夫小林 , 敬志横山 , 勝俊泉

IPC: H01L21/205 , C23C16/42 , H01L21/20 , H01L27/12

13.

发明专利
Deposition system 有权

公开(公告)号：JP4133911B2

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：JP2004114159

申请日：2004-04-08

Applicant: エア・ウォーター株式会社 , スタンレー電気株式会社

Inventor： 道宏佐野 , 直史堀尾 , 和馬山本 , 敬志横山 , 孝洋白幡 , 徹稲垣

IPC: C23C16/40 , C23C16/455

14.

发明专利
Preparation and equipment to be used in it of crystal thin film 失效

公开(公告)号：JP3913850B2

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：JP21315797

申请日：1997-08-07

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 孝博三島 , 茂樹伊藤 , 政人山本 , 敬志横山

IPC: C30B19/08 , H01L21/208 , C30B19/06 , C30B19/10 , H01L21/20

15.

发明专利
Manufacturing method of the solar cell module 有权

公开(公告)号：JP3766248B2

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：JP36338099

申请日：1999-12-21

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 孝博三島 , 茂樹伊藤 , 敬志横山

IPC: H01L31/04

CPC classification number: Y02E10/50

16.

发明专利
Processing method and apparatus for use therein of nitrogen trifluoride gas 失效

公开(公告)号：JP3723332B2

公开(公告)日：2005-12-07

申请号：JP25096797

申请日：1997-09-16

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 賢一井上 , 洋実木山 , 敬志横山 , 徹也濱口

IPC: B01D53/34 , B01D53/54 , B01D53/68 , H01L21/3065

17.

发明专利
Method for producing a single crystal SiC substrate 有权

公开(公告)号：JP5394632B2

公开(公告)日：2014-01-22

申请号：JP2007298752

申请日：2007-11-19

Applicant: エア・ウォーター株式会社 , 公立大学法人大阪府立大学

Inventor： 勝俊泉 , 敬志横山

IPC: C30B29/36 , C23C14/48 , H01L21/02 , H01L21/20 , H01L21/205 , H01L21/265 , H01L21/31 , H01L27/12 , H01L33/32

CPC classification number: H01L21/265 , C30B1/10 , C30B29/36 , H01L21/02381 , H01L21/02488 , H01L21/02529 , H01L21/02614 , H01L21/76251

18.

发明专利
Film forming method and apparatus 有权

公开(公告)号：JP4369824B2

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：JP2004234065

申请日：2004-08-11

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 敬志横山

IPC: H01L21/205 , C23C16/02 , C30B29/38 , H01L21/677

19.

发明专利
Deposition system 有权

公开(公告)号：JP3869778B2

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：JP2002265452

申请日：2002-09-11

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 和馬山本 , 敬志横山 , 孝洋白幡 , 徹稲垣

IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , H01L21/31

CPC classification number: C23C16/45574

20.

发明专利
Deposition system 有权

公开(公告)号：JP3663400B2

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：JP2002320128

申请日：2002-11-01

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 和馬山本 , 敬志横山 , 孝洋白幡 , 徹稲垣

IPC: C23C16/455 , H01L21/31

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