公开(公告)号：JPWO2014080838A1

公开(公告)日：2017-01-05

申请号：JP2014548541

申请日：2013-11-15

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 米澤　裕之 ,  裕之 米澤

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  C08F236/04 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22

CPC分类号： C08F220/26 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02118 ,  H01L27/3258

摘要： 高い感度を維持しつつ、誘電率が低く吸湿性が低い層間絶縁膜を得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。(A)下記(A1)および(A2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む重合体成分、(A1)(a1)酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位、および(a4)下記一般式(S)で表される構成単位、を有する重合体、(A2)(a1)酸基が酸分解性基で保護された残基を有する構成単位を有する重合体、および(a4)下記一般式(S)で表される構成単位を有する重合体、(B)光酸発生剤、および(C)溶剤を含有する感光性樹脂組成物。(式(S)中、R1およびR2はそれぞれ水素原子、炭素数1〜3の無置換のアルキル基または炭素数1〜3のパーフルオロアルキル基を表す。)

摘要翻译： 同时保持高灵敏度，提供一种能够介电常数的光敏树脂组合物获得低吸湿性是下部层间绝缘膜。 （A）以下（A1）和含有它们中的至少一个满足聚合物的聚合物组分（A2），（A1）（a1）的结构单元酸基用具有酸可分解基团保护的残基，和（ A4）聚合物，其具有的结构单元，由下述通式（S），其具有具有（A2的结构单元的聚合物）表示的（a1）的基团被酸分解性基团的残基的保护，和（ A4）具有）由下述通式（S表示的结构单元，（B）光产酸剂，和（C）含有溶剂的感光性树脂组合物的聚合物。 （其中，（在S），各自为氢原子，R1和R2，未取代的烷基或具有具有1至3个碳原子数1〜3个碳原子的全氟烷基。）

公开(公告)号：JP5998050B2

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：JP2012509493

申请日：2011-03-29

申请人： JSR株式会社

发明人： 田守 功二 ,  安陪 毅由 ,  岡野 友亮 ,  籾山 昌輝 ,  川井 洋 ,  日向寺 慧 ,  塩谷 知範 ,  一久 和弘 ,  王 勇

IPC分类号： G01N30/50 ,  G01N30/88

CPC分类号： B01D15/3804 ,  B01J20/265 ,  B01J20/286 ,  C08F220/26 ,  C08F8/00 ,  Y10T428/2982

公开(公告)号：JP5923852B2

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：JP2010289984

申请日：2010-12-27

申请人： 東レ株式会社

发明人： 藤澤 和彦 ,  中村 正孝

IPC分类号： A61L29/00 ,  A61L31/00 ,  G02C7/04 ,  C08L101/02 ,  C08F290/04 ,  A61L27/00

CPC分类号： C08L39/06 ,  C08F220/26 ,  C08F220/36 ,  C08F220/38 ,  C08L33/26 ,  C08L43/04

公开(公告)号：JP2016508172A

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：JP2015549418

申请日：2013-11-26

申请人： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ,  スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

发明人： ケビン， エム． レヴァンドフスキ， ,  ケビン， エム． レヴァンドフスキ， ,  コリーヌ， イー． リプスコム， ,  コリーヌ， イー． リプスコム， ,  ジョナサン， イー． ジャノスキ， ,  ジョナサン， イー． ジャノスキ，

IPC分类号： C09J133/06 ,  C08F120/28 ,  C09J7/02 ,  C09J133/02 ,  C09J133/08

CPC分类号： C09J133/10 ,  C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C09J4/00 ,  C09J133/02 ,  C09J133/06

摘要： 典型的な使用条件下で良好な性能特性を有し、且つ後に塩基性条件下で容易に分解及び/又は除去され得る感圧性接着剤を提供する。より具体的には、感圧性接着剤は、(メタ)アクリロイル基と(メタ)アクリロイル基の一部ではないエステル結合とを有する(メタ)アクリレートモノマーを含有する重合性材料から調製される共重合(メタ)アクリル系エラストマー材料を含有する。【選択図】なし

摘要翻译： 有在典型的使用条件下良好的性能特性，提供压敏粘合剂，其可以和后可以容易地分解和/或除去在碱性条件下。 更具体地，由含有丙烯酰基的聚合材料的（甲基）具有酯键不属于（甲基）的一部分丙烯酰基和（甲基）丙烯酸酯单体制备的压敏粘合剂共聚物 含（甲基）丙烯酸系弹性体材料。 系统技术领域

公开(公告)号：JP5861336B2

公开(公告)日：2016-02-16

申请号：JP2011194890

申请日：2011-09-07

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 菅藤 有将 ,  角田 真一 ,  前田 一彦

IPC分类号： C08F220/24 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  C08F220/26

CPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/26 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：JP2016500726A

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：JP2015537731

申请日：2013-10-09

申请人： ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  ヘンケル アイピー アンド ホールディング ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

发明人： チンイエン ジュウ、 ,  チンイエン ジュウ、 ,  デイビッド ピー． ドボラク、 ,  デイビッド ピー． ドボラク、 ,  ジョン ジー． ウッズ、 ,  ジョン ジー． ウッズ、 ,  アンソニー エフ． ジャコビン、 ,  アンソニー エフ． ジャコビン、

IPC分类号： C08F20/10 ,  C08F4/40 ,  C09D133/00 ,  C09J133/00

CPC分类号： C08F20/18 ,  C08F2/38 ,  C08F4/00 ,  C08F4/06 ,  C08F20/14 ,  C08F220/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/20 ,  C08F220/26 ,  C08F2438/01

摘要： リビングラジカル重合方法、そのような方法の反応生成物、およびそのような反応生成物を含む組成物を提供する。さらに詳細には、反応物質の所定の導入順序および/または特定の一連の反応条件を用いた(メタ)アクリル酸モノマーのリビングラジカル重合を提供する。

摘要翻译： 活性自由基聚合方法中，以提供该过程的这样的反应产物，以及包括这种反应产物的组合物。 更具体地，它提供了使用引入和/或特定的一组反应条件下的反应物的（甲基）丙烯酸单体中的预定顺序的活性自由基聚合。

公开(公告)号：JP5818785B2

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：JP2012513247

申请日：2010-05-27

申请人： コーニング インコーポレイテッド

发明人： デゼイェ,ソフィー ,  アンリ,ダヴィッド ,  エルヴィ,マルスィアル

IPC分类号： C08F220/28 ,  C08F220/56 ,  C07K17/08 ,  C12M1/00

CPC分类号： C08F289/00 ,  C08F2/32 ,  C08F220/26 ,  C12N5/0075 ,  C12N5/0606 ,  C08F222/16 ,  C08F222/38 ,  C12N2531/00 ,  C12N2533/30 ,  C12N2533/50

公开(公告)号：JP5787753B2

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：JP2011513999

申请日：2009-06-10

申请人： コンストラクション リサーチ アンド テクノロジー ゲーエムベーハー ,  Construction Research & Technology GmbH

发明人： クラウス ローレンツ ,  アレクサンダー クラウス ,  バーバラ ヴィマー ,  ペトラ ヴァーグナー ,  クリスティアン ショルツ ,  マンフレート ビヒラー

IPC分类号： C04B24/26 ,  C08F2/00 ,  C08F290/06

CPC分类号： C04B28/02 ,  C04B24/2647 ,  C04B24/2694 ,  C08F216/1416 ,  C08F220/26 ,  C04B2103/308 ,  Y10S526/915

公开(公告)号：JP2015524573A

公开(公告)日：2015-08-24

申请号：JP2015520503

申请日：2013-06-27

申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation

发明人： チェン，クァンジャン ,  ホルムス，スティーブン ,  ファン，ウソン ,  クォン，ラーニ，ワイリン ,  リュー，セン

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F20/26 ,  G03F7/095

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F220/26 ,  C08L33/066 ,  C08L33/16 ,  C08L2312/00 ,  C09D133/066 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/265 ,  C08L2205/025

摘要： 【課題】発明は、現像可能な底部反射防止膜(BARC)組成物およびBARC組成物を用いたパターン形成方法に関する。【解決手段】 BARC組成物は、第1のカルボン酸部分、水酸基含有脂環式部分および第1の発色団部分を含む第1のポリマーと;第2のカルボン酸部分、水酸基含有非環式部分および第2の発色団部分を含む第2のポリマーと;架橋剤と;感放射性酸生成剤とを含む。上記第1および第2の発色団部分は、それぞれ、100nm〜400nmの範囲の波長の光を吸収する。パターン形成方法においては、フォトレジスト層が、BARC組成物のBARC層を覆って形成される。露光後、フォトレジスト層およびBARC層の露光されていない部分が現像剤によって選択的に除去されて、パターン化された構造をフォトレジスト層に形成する。BARC組成物およびパターン形成方法は、特に注入レベルにおいて有用である。

摘要翻译： 甲发明中，使用可显影底部抗反射涂层（BARC）的组成和BARC组合物的图案化过程。 甲BARC组合物包含第一羧酸部分，第一聚合物和含有含羟基的脂环族部分和第一发色团部分;第二羧酸部分，非环部分含羟基的 和和包含第二发色团部分的第二聚合物;和放射线敏感性酸发生剂;交联剂和。 它在所述第一和第二发色团部分，分别在波长范围为100nm的吸收光至400nm。 在图案形成方法中，光致抗蚀剂层经在BARC组合物中的BARC层形成。 曝光之后，通过显影剂选择性地除去光致抗蚀剂层和BARC层的未曝光部分，以形成在光致抗蚀剂层的图案化结构。 BARC组合物和图案形成方法是注塑级特别有用的。

公开(公告)号：JP5727688B2

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：JP2008093897

申请日：2008-03-31

申请人： リンテック株式会社

发明人： 前田 淳 ,  田中 圭子

IPC分类号： C09J201/02 ,  C08F20/36 ,  H01L21/304 ,  H01L21/301 ,  C09J7/02

CPC分类号： C09J7/02 ,  C08F220/18 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  C08F220/14 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C09J2203/326 ,  C09J2205/31 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T428/2852 ,  Y10T428/2891