樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法
    44.
    发明专利
    樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法 有权
    树脂组合物,聚合物和形成耐力图案的方法

    公开(公告)号:JP2015025879A

    公开(公告)日:2015-02-05

    申请号:JP2013154046

    申请日:2013-07-24

    Abstract: 【課題】LWR性能、CD均一性、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れた樹脂組成物を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィーによるレジストパターン形成方法に用いられる樹脂組成物であって、下記式(1)で表される構造単位を有する第1重合体、及び溶媒を含有する樹脂組成物。式(1)中、R1は、炭素数1〜30の1価の有機基である。Yは、単結合、炭素数1〜30の2価の炭化水素基又は炭素数1〜30のヘテロ原子を含む2価の基である。R4は、水素原子又は炭素数1〜30の1価の有機基である。【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供LWR(线宽粗糙度)性能,CD(临界尺寸)均匀性,分辨率,截面形状的矩形度,焦深,曝光宽容度和MEEF(掩模误差增强因子 )性能。解决方案:树脂组合物用于通过光刻形成抗蚀剂图案的方法,并且包括具有由下式(1)表示的结构单元和溶剂的第一聚合物。 式(1)中,R表示碳原子数为1〜30的1价有机基团, Y表示单键,碳原子数1〜30的二价烃基或碳原子数1〜30的二价基团,且含有杂原子; R表示氢原子或碳原子数为1〜30的一价有机基团。

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