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公开(公告)号:JP5668324B2
公开(公告)日:2015-02-12
申请号:JP2010111993
申请日:2010-05-14
IPC: H01L27/14 , H01L21/312 , H01L21/60
CPC classification number: H01L24/03 , H01L24/05 , H01L2224/05571 , H01L2224/45124 , H01L2924/00014 , H01L2924/0002 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01013 , H01L2924/01014 , H01L2924/01021 , H01L2924/01033 , H01L2924/01046 , H01L2924/01082 , H01L2924/10253 , H01L2924/00 , H01L2224/48 , H01L2224/05552
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公开(公告)号:JP2015025879A
公开(公告)日:2015-02-05
申请号:JP2013154046
申请日:2013-07-24
Inventor: SATO MITSUHISA , ODA TOMOHIRO
IPC: G03F7/039 , C08F246/00 , G03F7/038 , G03F7/075 , G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 【課題】LWR性能、CD均一性、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れた樹脂組成物を提供する。【解決手段】フォトリソグラフィーによるレジストパターン形成方法に用いられる樹脂組成物であって、下記式(1)で表される構造単位を有する第1重合体、及び溶媒を含有する樹脂組成物。式(1)中、R1は、炭素数1〜30の1価の有機基である。Yは、単結合、炭素数1〜30の2価の炭化水素基又は炭素数1〜30のヘテロ原子を含む2価の基である。R4は、水素原子又は炭素数1〜30の1価の有機基である。【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题:为了提供LWR(线宽粗糙度)性能,CD(临界尺寸)均匀性,分辨率,截面形状的矩形度,焦深,曝光宽容度和MEEF(掩模误差增强因子 )性能。解决方案:树脂组合物用于通过光刻形成抗蚀剂图案的方法,并且包括具有由下式(1)表示的结构单元和溶剂的第一聚合物。 式(1)中,R表示碳原子数为1〜30的1价有机基团, Y表示单键,碳原子数1〜30的二价烃基或碳原子数1〜30的二价基团,且含有杂原子; R表示氢原子或碳原子数为1〜30的一价有机基团。
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公开(公告)号:JP5663959B2
公开(公告)日:2015-02-04
申请号:JP2010123392
申请日:2010-05-28
IPC: G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/3205 , H01L21/768
CPC classification number: B05D1/322 , C09D183/06 , G03F7/0392 , G03F7/094 , G03F7/38 , G03F7/405 , H01L21/02126 , H01L21/02137 , H01L21/0337 , H01L21/311 , H01L21/76801 , H01L21/76802 , H01L21/76807
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公开(公告)号:JP5660055B2
公开(公告)日:2015-01-28
申请号:JP2011553837
申请日:2011-02-08
IPC: C23C16/18 , H01L21/28 , H01L21/285
CPC classification number: H01L21/28556 , C23C16/18 , H01L21/76843 , H01L21/76873
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