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公开(公告)号：JP6323456B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2015536505
申请日：2014-08-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11 , C09D1/00 , G03F7/091 , H01L21/0276 , H01L21/0332 , H01L21/3065 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31116 , H01L21/31144
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公开(公告)号：JP2015194703A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2015002710
申请日：2015-01-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C09K3/00 , C08F20/12 , C08F12/22 , C07D493/08 , C07D495/08 , C07D309/10 , C07D307/33 , C07D317/72 , G03F7/004
CPC classification number: C07C309/19 , C07C309/23 , C07D307/33 , C07D317/72 , C07D327/04 , C07D333/50 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度、MEEF性能及び感度に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式(A)で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、R x は、脂環式炭化水素基、上記脂環式炭化水素基の炭素−炭素間に−O−、−COO−、−OCOO−、−S−、−SO 2 O−、−NHCOO−、−SiR S 2 −を含む脂肪族複素環基、又は上記脂環式炭化水素基及び上記脂肪族複素環基が有する水素原子を−OH、−CN、炭化水素基、オキシ炭化水素基、ハロゲン原子で置換した基であり、R t 及びR y は、R x の環構造上の同一炭素原子又は互いに隣接する2つの炭素原子にそれぞれ結合している。M + は、感放射線性オニウムカチオンである。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供LWR（线宽粗糙度）性能优异的辐射敏感性树脂组合物，CDU（临界尺寸均匀性）性能，分辨率，截面轮廓的矩形度，焦深，曝光宽容度，MEEF（ 掩模误差增强因子）性能和灵敏度。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物和辐射敏感性酸发生剂。 辐射敏感发生器包含由下式（A）表示的化合物。 在式（A）中，R代表脂环族烃基，在碳 - 碳上含有-O-，-COO-，-OCOO-，-S-，-SOO - ， - NHCOO-或-SiR-的脂族杂环基 或上述脂环族烃基或上述脂肪族杂环基的氢原子取代-OH，-CN，烃基，羟基烃基或卤原子取代的基团; Rand Rare各自键合到相同的碳原子上或分别键合在R的环状结构中的相邻的两个碳原子上; 并且M表示辐射敏感的阳离子。
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公开(公告)号：JP2015189839A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014067280
申请日：2014-03-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】レジスト組成物のブリッジ欠陥抑制性に優れる重合体を容易に製造することができるレジスト用重合体の製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、ラクトン構造を含む構造単位を有する第1重合体及び有機溶媒を含有する溶液を、多環のラクトン構造を含む構造単位を有しかつ比表面積が0.001m 2 /g以上100m 2 /g以下である第2重合体に接触させる工程を備えるレジスト用重合体の製造方法である。上記第2重合体におけるラクトン構造の環員数としては7以上20以下が好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造の環員数と上記第2重合体におけるラクトン構造の環員数との差としては5以下が好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造は多環であることが好ましい。上記第1重合体におけるラクトン構造と上記第2重合体におけるラクトン構造とは同一であることが好ましい。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供抗蚀剂用聚合物的制造方法，能够容易地制造抑制抗蚀剂组合物的桥接缺陷的优异的聚合物。解决方案：抗蚀剂用聚合物的制造方法包括： 使含有有机溶剂的溶液和具有含有内酯结构的结构单元的第一聚合物与具有包含多环内酯结构的结构单元并且比表面积为0.001m 2 / g以上且100以下的第二聚合物接触 m / g以下。 第二聚合物中的内酯结构的环成员的数目优选为7以上且20以下。 第一聚合物中的内酯结构体的数量与第二聚合物中的内酯结构的环成分的数量之间的差优选为5以下。 第一聚合物中的内酯结构优选为多环结构。 第一聚合物中的内酯结构和第二聚合物中的内酯结构优选相同。
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公开(公告)号：JP6569221B2
公开(公告)日：2019-09-04
申请号：JP2015002710
申请日：2015-01-08
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C09K3/00 , C08F20/12 , C08F12/22 , C07D493/08 , C07D495/08 , C07D309/10 , C07D317/72 , G03F7/004
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公开(公告)号：JP5729307B2
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：JP2011541879
申请日：2010-11-05
Applicant: JSR株式会社
IPC: C23C16/16
CPC classification number: C23C16/18 , C07F15/06 , C23C16/16 , H01L21/28556 , H01L21/76843 , H01L21/76873
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：JP2017068049A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2015193751
申请日：2015-09-30
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】アルカリ溶液によるポジ現像、有機溶媒によるネガ現像のどちらのプロセスにおいてもレジスト組成物の溶媒に対する耐性に優れ、レジスト膜に対する反射防止性や密着性に優れ、エッチングによる高いパターン転写性を有し、レジストパターンの形状が良好で倒れが少ない多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、ポリシロキサン、及び有機溶媒を含有し、上記ポリシロキサンが、環状カーボネート構造を含む基及びラクトン構造を含む基の少なくとも一方を有する第1シラン化合物を含有する化合物の加水分解縮合物を含み、上記第1シラン化合物に由来する構造単位の上記ポリシロキサンを構成する全構造単位に対する含有割合が0.1モル%以上30モル%以下である多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成組成物である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2015197612A
公开(公告)日：2015-11-09
申请号：JP2014075851
申请日：2014-04-01
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , C08F220/18 , H01L21/027 , G03F7/038
Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 【解決手段】下記式(1)で表される部分構造を含む第1構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物。下記式(1)中、a及びbは、それぞれ独立して、0〜5の整数である。但し、a+bは1以上である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供LWR性能，CDU性能，分辨率，截面形状的矩形度，焦深，曝光宽容度和MEEF性能优异的辐射敏感性树脂组合物。解决方案：辐射敏感树脂组合物 包括具有包含由下式（1）表示的部分结构的第一结构单元和辐射敏感性酸产生剂的聚合物。 在式（1）中，a和b各自独立地表示0〜5的整数，a + b为1以上。
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公开(公告)号：JP5754377B2
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：JP2011538370
申请日：2010-10-20
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/28 , H01L21/285 , H01L21/288 , H01L21/8242 , H01L27/108 , C07F15/00 , C07C49/92 , C23C16/18
CPC classification number: C23C16/18 , C07C49/92 , C07F15/0046 , H01L21/76843 , H01L28/65
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