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1.

发明专利
Resist composition 有权

公开(公告)号：JP5516384B2

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：JP2010284207

申请日：2010-12-21

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 裕子山下 , 信雄安藤

IPC分类号： G03F7/004 , C08F8/34 , C08F12/24 , C08L25/02 , G03F7/039 , H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397

摘要： The present invention provides a photoresist composition comprising a resin which comprises a structural unit represented by the formula (I): wherein Q1 and Q2 independently represent a fluorine atom etc., U represents a C1-C20 divalent hydrocarbon group etc., X1 represents -O-CO- etc., and A+ represents an organic counter ion, and a compound represented by the formula (D'): wherein R51, R52, R53 and R54 independently represent a C1-C20 alkyl group etc., and A11 represents a C1-C36 saturated cyclic hydrocarbon group which may have one or more substituents and which may contain one or more heteroatoms.

2.

发明专利
Novel compounds, resist composition and pattern forming method 有权

公开(公告)号：JP5580674B2

公开(公告)日：2014-08-27

申请号：JP2010155689

申请日：2010-07-08

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 幸司市川 , 昌子杉原 , 裕子山下

IPC分类号： C07C381/12 , C07C53/10 , C07C62/24 , C07C63/08 , C07D333/76 , C08F20/38 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039

CPC分类号： G03F7/066 , C07C62/22 , C07C63/08 , C07C69/63 , C07C69/712 , C07C69/753 , C07C69/757 , C07C205/57 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/76 , C08F8/12 , C08F12/24 , C08F20/38 , C08F28/02 , C08F28/06 , C08F212/14 , C08F220/18 , C09D125/18 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/38 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , C08F12/22 , C08F2220/1883 , C08F2220/1891 , C08F220/20 , C08F2220/283 , C08F220/38

3.

发明专利
新規化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法有权
标题翻译：新颖化合物，抗蚀剂组合物和图案形成方法

公开(公告)号：JP5658932B2

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：JP2010155687

申请日：2010-07-08

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 市川　幸司 , 幸司市川 , 昌子杉原 , 昌子杉原 , 裕子山下 , 裕子山下

IPC分类号： C07C381/12 , C07C25/02 , C07C57/055 , C07C63/64 , C07C69/54 , C08F20/38 , G03F7/004 , G03F7/039

CPC分类号： C08F22/02 , C07C25/18 , C07C57/03 , C07C57/28 , C07C63/64 , C07C63/66 , C07C69/54 , C07C309/17 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C08F20/38 , C08F32/08 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/30 , Y10S430/122 , Y10S430/123

4.

发明专利
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法有权

公开(公告)号：JP6119283B2

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：JP2013024161

申请日：2013-02-12

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 昌子杉原 , 昌子杉原 , 裕子山下 , 裕子山下 , 釜淵　明 , 明釜淵

IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039

5.

发明专利
レジスト組成物有权

公开(公告)号：JP5640709B2

公开(公告)日：2014-12-17

申请号：JP2010273302

申请日：2010-12-08

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 釜淵　明 , 明釜淵 , 裕子山下 , 裕子山下

IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/00 , G03F7/039 , H01L21/027