公开(公告)号：JP2020189930A

公开(公告)日：2020-11-26

申请号：JP2019096207

申请日：2019-05-22

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  太宰 尚宏 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也

IPC: C08F293/00 ,  B05D7/24 ,  C08J5/18 ,  C08L53/00

Abstract: 【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びこれに用いる相分離構造形成用樹脂組成物の提供。 【解決手段】スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、メタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、且つ少なくとも一方の末端部に前記ブロック(b2)が配置されたブロックコポリマー、を含有する、相分離構造形成用樹脂組成物であって、前記ブロックコポリマーは、少なくとも一方の主鎖末端に、一般式(e1)で表される構造(e1)を有し、前記ブロックコポリマーの末端部に配置される前記ブロック(b2)の主鎖末端に結合している、相分離構造形成用樹脂組成物。R e0 は、ヘテロ原子を含む炭化水素基を表し、R e1 は、水素原子又はハロゲン原子を表す。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6811957B2

公开(公告)日：2021-01-13

申请号：JP2016179028

申请日：2016-09-13

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也

IPC: C08F8/32 ,  B05D7/24 ,  C08L53/00

公开(公告)号：JP2021116343A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：JP2020010090

申请日：2020-01-24

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  太宰 尚宏 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也 ,  田中 舜馬

IPC: C08F8/02 ,  C08J7/00 ,  C08L53/00

Abstract: 【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及び前記相分離構造形成用樹脂組成物の製造に用いるブロックコポリマーの提供。 【解決手段】一部が下記一般式(c1)で表される構成単位で置換されたスチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、メタクリル酸メチル単位の繰り返し構造を含むブロック(b2)とを有するブロックコポリマーを含有する、相分離構造形成用樹脂組成物。式中、Rは、水素原子又はメチル基である。R c0 は、疎水性官能基である。 [化1] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018044055A

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：JP2016179028

申请日：2016-09-13

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也

IPC: C08F8/32 ,  B05D7/24 ,  C08L53/00

CPC classification number: B81C1/00031 ,  B05D3/02 ,  B05D3/148 ,  B05D7/56 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0149 ,  C08F8/32 ,  C08F212/08 ,  C08F230/08 ,  C08F297/026 ,  G03F7/0002

Abstract: 【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びこれに用いる相分離構造形成用樹脂組成物を提供する。 【解決手段】スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、一部が一般式(h1)で表される構成単位で置換されたメタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、かつ、数平均分子量が28000未満であるブロックコポリマーを含有する相分離構造形成用樹脂組成物。一般式(h1)中、R h0 は、親水性官能基である。 [化1] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6446195B2

公开(公告)日：2018-12-26

申请号：JP2014149247

申请日：2014-07-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  太宰 尚宏 ,  前橋 貴哉 ,  宮城 賢 ,  内海 義之

IPC: B05D3/00 ,  C08J7/00 ,  C08J5/18 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  C08F212/08 ,  B05D7/24

公开(公告)号：JP5885143B2

公开(公告)日：2016-03-15

申请号：JP2012537737

申请日：2011-10-05

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立研究開発法人理化学研究所

Inventor： 先崎 尊博 ,  太宰 尚宏 ,  宮城 賢 ,  藤川 茂紀 ,  小泉 真里 ,  早川 晴美

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/038 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/165 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  G03F7/422

公开(公告)号：JP5752388B2

公开(公告)日：2015-07-22

申请号：JP2010233844

申请日：2010-10-18

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 太宰 尚宏 ,  塩野 大寿

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  G03F7/039

公开(公告)号：JPWO2018062157A1

公开(公告)日：2019-07-11

申请号：JP2017034702

申请日：2017-09-26

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  川上 晃也 ,  宮城 賢

IPC: C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  C08J7/00

Abstract: ブロックコポリマー、及びカチオン部とアニオン部とを有する化合物(IL)を含むイオン液体を含有する相分離構造形成用樹脂組成物を用いて、基板1上にブロックコポリマーを含む層(BCP層)3を形成する工程と、化合物(IL)の少なくとも一部を気化させ、かつ、BCP層3を相分離させて、相分離構造を含む構造体3’を得る工程と、を有する、相分離構造を含む構造体の製造方法。

公开(公告)号：JP6404132B2

公开(公告)日：2018-10-10

申请号：JP2015011647

申请日：2015-01-23

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  内海 義之 ,  松宮 祐 ,  宮城 賢 ,  塩野 大寿 ,  黒澤 剛志

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/40 ,  B82Y40/00 ,  B05D7/24 ,  B05D3/02 ,  B05D1/36 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C08G18/61 ,  C09D153/00 ,  C09D183/10 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/11 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38

公开(公告)号：JP6106470B2

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：JP2013041066

申请日：2013-03-01

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 太宰 尚宏 ,  新井 雅俊 ,  内海 義之

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0397