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公开(公告)号：JP2018044055A
公开(公告)日：2018-03-22
申请号：JP2016179028
申请日：2016-09-13
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 国立大学法人北海道大学
CPC classification number: B81C1/00031 , B05D3/02 , B05D3/148 , B05D7/56 , B81C1/00531 , B81C2201/0149 , C08F8/32 , C08F212/08 , C08F230/08 , C08F297/026 , G03F7/0002
Abstract: 【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びこれに用いる相分離構造形成用樹脂組成物を提供する。 【解決手段】スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、一部が一般式(h1)で表される構成単位で置換されたメタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、かつ、数平均分子量が28000未満であるブロックコポリマーを含有する相分離構造形成用樹脂組成物。一般式(h1)中、R h0 は、親水性官能基である。 [化1] 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2020132694A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019024619
申请日：2019-02-14
Applicant: 東京応化工業株式会社 , 国立大学法人東京工業大学
IPC: B05D1/36 , B05D7/24 , H01L21/312 , C08G77/442
Abstract: 【課題】自己組織化リソグラフィにより複雑な構造が形成できるブロック共重合体、相分離構造を含む構造体の製造方法の提供。 【解決手段】ケイ素原子を含まない構成単位(u1)の繰り返し構造を有する重合体からなる第1ブロック、及び、ケイ素原子を含む構成単位(u2)の繰り返し構造を有する重合体からなる第2ブロックを備え、第2ブロックは、一般式(u2−1)で表される構成単位(u21)の繰り返し構造を有する重合体からなるブロック(b21)を含み、ブロック共重合体を構成する全ブロックに対する第1ブロックの体積比は、42〜44体積%である、ブロック共重合体(R P211 は、極性基を有する有機基、アルキル基、ハロゲン化アルキル基又はHであり、R P21 2 は、SHR t1 で表される化合物から誘導される基である。R t1 は、置換基を有してもよい炭素数1〜5の炭化水素基である)。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP6446195B2
公开(公告)日：2018-12-26
申请号：JP2014149247
申请日：2014-07-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: B05D3/00 , C08J7/00 , C08J5/18 , G03F7/40 , H01L21/027 , C08F212/08 , B05D7/24
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公开(公告)号：JP2018092159A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2017225206
申请日：2017-11-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/039 , C07D327/04 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0046 , C07C25/18 , C07C307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07C2603/86 , C07C2603/88 , C08F10/00 , G03F7/0045 , G03F7/0125 , G03F7/0397
Abstract: 【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物と、を含有するレジスト組成物。式(b1)中、R 01 〜R 014 は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は2個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも2個は相互に結合して環構造を形成する。また、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも1個はアニオン基を有し、アニオン部全体でn価のアニオンとなる。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016108444A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014247108
申请日：2014-12-05
Applicant: 東京応化工業株式会社
Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、疎水性ポリマーブロック(b11)と親水性ポリマーブロック(b21)とが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、疎水性ポリマーブロック(b12)の構成単位、又は親水性ポリマーブロック(b22)の構成単位を有し、かつ、主鎖の少なくとも一つの末端部にチオール基(−SH)を有することを特徴とする下地剤。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于 含有形成在基材上的疏水性聚合物嵌段（b11）和亲水性聚合物嵌段（b21）的嵌段共聚物的层的相分离，含有具有疏水性聚合物嵌段（b12）的结构单元的树脂成分， 或亲水性聚合物嵌段（b22）的结构单元，并且在主链的至少一个末端部分上具有硫醇基（-SH）。选择图：无
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公开(公告)号：JP2016108436A
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：JP2014246812
申请日：2014-12-05
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: H01L21/027 , C08F12/04 , C08F8/00 , C09D5/00 , C09D125/04
Abstract: 【課題】ブロックコポリマーの相分離性能が高められ、簡便に用いることができる下地剤、及びこれを用いた相分離構造を含む構造体の製造方法を提供する。 【解決手段】基板上に形成した、複数種類のブロックが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分は、式(u1−1)で表される置換基を有するポリスチレン誘導体である下地剤。 [RはH、C1〜5のアルキル基又はC1〜5のハロゲン化アルキル基;R 1 はハロゲン原子、又はO、ハロゲン原子或いはケイ素原子を含んでいてもよいC1〜20の直鎖状、分岐鎖状、環状或いはこれらの組み合わせによる炭化水素基;pは1〜5の整数] 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种提高嵌段共聚物的相分离性能并能够简单使用的底物，以及含有使用其的相分离结构的结构体的制造方法。溶液：提供了用于 包含嵌段共聚物的层的相分离，其中在基材上形成的几种嵌段结合，其含有具有由式（u1-1）表示的取代基的聚苯乙烯衍生物的树脂组分。 （u1-1），其中R是H，C1至5的烷基或C1至5的卤代烷基，R是卤素原子或O，C1至20的直链，支链，环状或组合的烃基，其可以含有 卤素原子或硅原子，p为1〜5的整数。选择图示：无
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公开(公告)号：JP6789024B2
公开(公告)日：2020-11-25
申请号：JP2016144949
申请日：2016-07-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: G03F7/20 , C08F212/14 , C08F220/10 , G03F7/039
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公开(公告)号：JP6735171B2
公开(公告)日：2020-08-05
申请号：JP2016144933
申请日：2016-07-22
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C08F220/12 , C08F212/14 , C08F8/12
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公开(公告)号：JP6516459B2
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：JP2014247109
申请日：2014-12-05
Applicant: 東京応化工業株式会社
IPC: C09D133/04 , C08F112/04 , C08F120/12 , H01L21/027 , C09D125/04
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