公开(公告)号：JP6811957B2

公开(公告)日：2021-01-13

申请号：JP2016179028

申请日：2016-09-13

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也

IPC: C08F8/32 ,  B05D7/24 ,  C08L53/00

公开(公告)号：JP2018044055A

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：JP2016179028

申请日：2016-09-13

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 宮城 賢 ,  瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  山野 仁詩 ,  佐藤 敏文 ,  磯野 拓也

IPC: C08F8/32 ,  B05D7/24 ,  C08L53/00

CPC classification number: B81C1/00031 ,  B05D3/02 ,  B05D3/148 ,  B05D7/56 ,  B81C1/00531 ,  B81C2201/0149 ,  C08F8/32 ,  C08F212/08 ,  C08F230/08 ,  C08F297/026 ,  G03F7/0002

Abstract: 【課題】新たなモノマーを必要とせずに相分離性能をより高められる、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びこれに用いる相分離構造形成用樹脂組成物を提供する。 【解決手段】スチレン単位の繰り返し構造からなるブロック(b1)と、一部が一般式(h1)で表される構成単位で置換されたメタクリル酸メチル単位の繰り返し構造からなるブロック(b2)と、を有し、かつ、数平均分子量が28000未満であるブロックコポリマーを含有する相分離構造形成用樹脂組成物。一般式(h1)中、R h0 は、親水性官能基である。 [化1] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020101769A

公开(公告)日：2020-07-02

申请号：JP2018241671

申请日：2018-12-25

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 廖 曰淳 ,  瀬下 武広 ,  野田 国宏

IPC: C09K11/08 ,  G02B5/20

Abstract: 【課題】所望する量子収率を示す量子ドット含有被膜を形成し得る、量子ドット含有被膜を製造する方法と、当該方法に好適に使用し得る量子ドット含有被膜形成用の組成物とを提供すること。 【解決手段】表面の材質としてカルコゲン化物を含む量子ドット(A)と、基材成分(C)と、溶媒(S)とを含む組成物を用いて量子ドット含有被膜を製造する方法において、表面の材質としてカルコゲン化物を含む量子ドット(A)を用い、溶媒(S)としてカルコゲン元素を有する有機溶媒(S1)を用い、大気中よりも低い酸素濃度雰囲気下で量子ドット含有被膜を加熱する加熱工程を実施する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6446195B2

公开(公告)日：2018-12-26

申请号：JP2014149247

申请日：2014-07-22

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  太宰 尚宏 ,  前橋 貴哉 ,  宮城 賢 ,  内海 義之

IPC: B05D3/00 ,  C08J7/00 ,  C08J5/18 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  C08F212/08 ,  B05D7/24

公开(公告)号：JP6027912B2

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：JP2013033563

申请日：2013-02-22

Applicant: 東京応化工業株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学

Inventor： 松宮 祐 ,  瀬下 武広 ,  大森 克実 ,  宮城 賢 ,  塩野 大寿 ,  宮下 健一郎 ,  黒澤 剛志 ,  早川 晃鏡

IPC: B32B27/30 ,  C08J7/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F220/00 ,  C09D153/00 ,  C09D133/14 ,  C09D183/04 ,  B05D7/24 ,  B32B27/00

CPC classification number: C09D183/10 ,  B81C1/00031 ,  B82Y40/00 ,  C08G18/61 ,  C08L53/00 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  B81C2201/0149 ,  C08G77/045 ,  C08G77/442

公开(公告)号：JP2021008550A

公开(公告)日：2021-01-28

申请号：JP2019122246

申请日：2019-06-28

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  武内 弘明 ,  井上 朋之

IPC: C08K7/22 ,  C08L33/14

Abstract: 【課題】高い耐溶剤性を有する低屈折材料を実現できる硬化性樹脂組成物を提供すること。 【解決手段】硬化性樹脂組成物として、特定の2種の構造単位を組み合わせて有する(A)樹脂と、(B)シェル部分が樹脂により構成される中空粒子と、(S)有機溶媒とを含ませる。(B)中空粒子の平均粒径は、20nm以上300nm以下であるのが好ましい。硬化性樹脂組成物中の全固形分における(A)樹脂の含有割合は、30質量%以上90質量%以下であるのが好ましい。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6393546B2

公开(公告)日：2018-09-19

申请号：JP2014153199

申请日：2014-07-28

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 松宮 祐 ,  瀬下 武広 ,  宮城 賢 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  内海 義之

IPC: B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C08L53/00 ,  B05D1/185 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B82B3/00 ,  C09D153/00

公开(公告)号：JP6325320B2

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：JP2014080353

申请日：2014-04-09

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  内海 義之

IPC: B05D3/02 ,  B05D7/24 ,  B05D1/36

公开(公告)号：JP2015199290A

公开(公告)日：2015-11-12

申请号：JP2014080352

申请日：2014-04-09

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 瀬下 武広 ,  前橋 貴哉 ,  太宰 尚宏 ,  内海 義之

IPC: H01L21/027 ,  B32B27/24 ,  B05D7/02 ,  B05D7/24 ,  B32B27/08

CPC classification number: C09D153/00 ,  C09D183/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/11 ,  B82Y40/00

Abstract: 【課題】相分離構造を含む構造体の製造方法及びトップコート膜の成膜方法の提供。 【解決手段】支持体1上に、ブロックコポリマーを含む層2を形成する工程と、ブロックコポリマーを含む層2上に、トップコート材料を塗布し、トップコート膜3を形成する工程と、トップコート膜3が形成されたブロックコポリマーを含む層2を、熱アニールによって相分離させる工程とを含み、前記トップコート材料が、ジカルボン酸又はジカルボン酸の塩を含む高分子化合物と、有機溶剤成分(S)を含有し、前記有機溶剤成分(S)は、水と、炭素数3以上のアルコールとを含有する相分離構造を含む構造体の製造方法。 【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种制备包含相分离结构的结构的方法和形成顶涂膜的方法。解决方案：制备包含相分离结构的结构的方法包括形成含有 在基材1上的嵌段共聚物，将顶涂层涂布在含有嵌段共聚物的层2上以形成顶涂层3的步骤，以及对设置有顶涂层3并含有 该嵌段共聚物通过热退火进行相分离。 面漆材料包含含有二羧酸或二羧酸盐和有机溶剂成分（S）的高分子化合物，有机溶剂成分（S）含有水和3〜3元醇。

公开(公告)号：JP5696195B2

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：JP2013215068

申请日：2013-10-15

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 川上 晃也 ,  内海 義之 ,  松沢 賢介 ,  瀬下 武広

IPC: C07C317/10