-
公开(公告)号：JP2005524962A
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：JP2004504585
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ
IPC分类号： B01J7/00 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 様々なプラズマ・プロセスおよびプラズマ処理に用いるプラズマを点火し、調整し、維持する方法および装置が提供される。 一実施形態では、能動型または受動型とし得るプラズマの存在下で、マルチモード処理キャビティ内のガスに、約３３３GHz未満の周波数の電磁放射を当てることによってプラズマを点火する。 コントローラは、１つの放射供給源を起動させてから、別の放射供給源を遅らせて駆動させる。
-
公开(公告)号：JP2005526359A
公开(公告)日：2005-09-02
申请号：JP2004504264
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ , ドゥガーティー，マイケル，エル．，シニア
IPC分类号： B01J7/00 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 製造ラインにおいて、複数の加工物にプラズマ支援処理を行うための方法及び装置を提供する。 一実施形態として、移動可能なキャリアに加工物を配置し、該配置されキャリアを照射ゾーンまでコンベアで搬送し、照射ゾーンにガスを流し、（例えば、プラズマ触媒が存在する電磁放射にこのガスを晒すなど）プラズマを形成すべく照射ゾーン内でガスを点火し、照射ゾーン内で前記加工物の少なくとも１つを少なくとも部分的にプラズマ処理するのに十分な時間、前記プラズマを維持し、コンベアを前方に進めて、照射ゾーンの外に前記少なくとも１つのプラズマ処理された加工物を移動させる。 また、多様な種類のプラズマ触媒も提供される。
-
公开(公告)号：JP2005524963A
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：JP2004504588
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ
IPC分类号： B01J7/00 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： 様々なプラズマ・プロセスおよびプラズマ処理に用いるプラズマを点火し、調整し、維持する方法および装置が提供される。 一実施形態では、能動型または受動型とし得るプラズマの存在下で、マルチモード処理キャビティ内のガスに、約1MHz〜約333GHzの周波数の電磁放射を当てることによってプラズマを点火する。 受動型プラズマ触媒は、例えば、局所的な電界を歪ませることによってプラズマを誘起し得る任意の物体を含み得る。 能動型プラズマ触媒は、電磁放射の存在下で、気体原子または気体分子に十分な量のエネルギーを伝達して、この気体原子または気体分子から少なくとも１つの電子を分離し得る任意の粒子または高エネルギー波束を含み得る。
-
公开(公告)号：JP5209174B2
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：JP2004504585
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ
IPC分类号： B01J7/00 , H05H1/24 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： Methods and apparatus are provided for igniting, modulating, and sustaining a plasma for various plasma processes and treatments. In one embodiment, a plasma is ignited by subjecting a gas in a multi-mode processing cavity to electromagnetic radiation having a frequency between about 1 MHz and about 333 GHz in the presence of a plasma catalyst, which may be passive or active. A passive plasma catalyst may include, for example, any object capable of inducing a plasma by deforming a local electric field. An active plasma catalyst can include any particle or high energy wave packet capable of transferring a sufficient amount of energy to a gaseous atom or molecule to remove at least one electron from the gaseous atom or molecule, in the presence of electromagnetic radiation.
-
公开(公告)号：JPS59500655A
公开(公告)日：1984-04-19
申请号：JP50131583
申请日：1983-04-25
CPC分类号： B01J19/0053 , B01J19/0073 , B01J2219/00193 , F27D21/00 , F27D2003/169
-
公开(公告)号：KR102233751B1
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：KR1020190027932A
申请日：2019-03-12
申请人： 주식회사 카보넥스
发明人： 김석진
IPC分类号： B01J19/00 , B01J12/00 , C01B32/963
CPC分类号： B01J19/0053 , B01J12/00 , B01J19/0006 , C01B32/963 , B01J2219/00162 , B01J2219/00184 , B01J2219/00193
摘要： 챔버 및 상기 챔버 내부로 소정의 반응가스를 공급하는 가스공급부를 포함하는 탄화규소 제조장치에 있어서, 상기 가스공급부는, 반응가스 용액을 저장하는 메인 저장소; 상기 반응가스 용액에 비활성 기체 또는 수소를 혼합하며 기포를 발생시킴으로써 제조한 반응가스를 상기 챔버에 제공하는 반응가스 혼합기; 및 상기 반응가스 혼합기로 투입되는 반응가스 용액의 양을 모니터링하고 조절하는 반응가스 제어 시스템;을 포함하는 것을 특징으로 하는 탄화규소 제조장치를 제공한다.
-
公开(公告)号：JP2005525234A
公开(公告)日：2005-08-25
申请号：JP2004504253
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ
IPC分类号： B01J7/00 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： プラズマ支援ガス生成を行うための方法および装置が提供される。 一実施形態では、少なくとも、１つの原子または分子種を含むガスをキャビティ内に流す。 このガスは、プラズマ(３１０)が、キャビティ(３０５)内に形成されるように、（選択的にプラズマ触媒が存在しる）約３３０GHz未満の周波数を有した電磁放射に晒される。 他のものを通過させることなく、原子又は分子種を通過することができるフィルタ(３１５)は、キャビティ(３０５)に流体がなれることが可能なように連通されている。 このように、選択された化学種は、保存またはすぐに使用できるように、抽出されて、収集することができる。
-
公开(公告)号：JP2005524799A
公开(公告)日：2005-08-18
申请号：JP2004503782
申请日：2003-05-07
发明人： クマール，サティヤンドラ , クマール，デヴェンドラ , チェリアン，クルヴィラ，エー．
IPC分类号： B01J7/00 , A62D3/00 , B01D53/86 , B01D53/92 , B01J19/08 , B01J19/12 , B01J37/34 , B22F3/105 , C01B3/02 , C21D1/06 , C21D1/09 , C21D1/38 , C22B4/00 , F01N3/08 , F01N3/10 , F01N3/20 , F01N3/24 , F01N3/28 , F01N3/30 , F01N9/00 , F01N13/10 , F27B17/00 , F27D3/12 , F27D11/08 , F27D11/12 , G21K5/00 , H01J37/32 , H01M8/06 , H05B6/68 , H05B6/78 , H05B6/80 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： H05B6/68 , B01D53/92 , B01D2258/01 , B01D2259/818 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J2219/00063 , B01J2219/00193 , B01J2219/002 , B01J2219/00213 , B01J2219/0024 , B01J2219/0892 , B01J2219/0894 , B01J2219/1269 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , C22B4/005 , F01N3/202 , F01N3/206 , F01N13/10 , F01N2240/28 , F01N2610/08 , H01J37/32009 , H01J37/32192 , H01J37/32302 , H01J37/32366 , H01J2237/0206 , H01J2237/33 , H01J2237/336 , H01J2237/338 , H05B6/6402 , H05B6/806 , H05B2206/044 , H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2001/4652 , Y02B40/143 , Y02T10/26
摘要： エンジンの排気ガスを処理する方法および装置を提供する。 一実施形態において、エンジンの排気ガス処理システムは、吸入部（２１５）、排出部（２１６）、中間部（２０５）、及び少なくとも１つのプラズマ・キャビティ（２１０）を有した導管を少なくとも１つ含んでいる。 吸入部は、エンジンブロック（５１０）と接続されるべく形成されており、排気ガスを受け入れている。 排出部は、プラズマ処理後の排気ガスを放出する。 中間部は、吸入部から排出部まで排気ガスを搬送する。 一実施形態において、１つ又は複数のプラズマキャビティ（３４２，３４４，３４６）は、排気ガスを処理するために、吸入部の近傍に配置されている。 本システムは、キャビティに放射を供給するためにキャビティに接続された電磁放射供給源（３４０）も含んでおり、そこでは、この放射は、約３３３GHz未満の周波数を有している。 排気ガスの処理において、プラズマ触媒（７０，１７０）の使用を行ってもよい。
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
8 条记录 (耗时 0.014 秒)
