公开(公告)号：JP5857194B2

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：JP2015511842

申请日：2014-07-14

申请人： パナソニックIPマネジメント株式会社

发明人： 二口 龍太郎 ,  山本 正樹 ,  山田 由佳 ,  四橋 聡史

IPC分类号： C25B1/00 ,  C25B3/04 ,  G02B7/08 ,  G02B7/28 ,  G03B15/00 ,  B01J19/12

CPC分类号： B01J19/127 ,  C25B1/003 ,  C25B9/08 ,  G01N27/416 ,  G02B7/08 ,  G02B7/287 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00211 ,  B01J2219/0024 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0042 ,  G02B7/023

公开(公告)号：JP5209174B2

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：JP2004504585

申请日：2003-05-07

申请人： ビーティーユー インターナショナル,インコーポレーテッド

发明人： クマール，サティヤンドラ ,  クマール，デヴェンドラ

IPC分类号： B01J7/00 ,  H05H1/24 ,  A62D3/00 ,  B01D53/86 ,  B01D53/92 ,  B01J19/08 ,  B01J19/12 ,  B01J37/34 ,  B22F3/105 ,  C01B3/02 ,  C21D1/06 ,  C21D1/09 ,  C21D1/38 ,  C22B4/00 ,  F01N3/08 ,  F01N3/10 ,  F01N3/20 ,  F01N3/24 ,  F01N3/28 ,  F01N3/30 ,  F01N9/00 ,  F01N13/10 ,  F27B17/00 ,  F27D3/12 ,  F27D11/08 ,  F27D11/12 ,  G21K5/00 ,  H01J37/32 ,  H01M8/06 ,  H05B6/68 ,  H05B6/78 ,  H05B6/80 ,  H05H1/46

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： Methods and apparatus are provided for igniting, modulating, and sustaining a plasma for various plasma processes and treatments. In one embodiment, a plasma is ignited by subjecting a gas in a multi-mode processing cavity to electromagnetic radiation having a frequency between about 1 MHz and about 333 GHz in the presence of a plasma catalyst, which may be passive or active. A passive plasma catalyst may include, for example, any object capable of inducing a plasma by deforming a local electric field. An active plasma catalyst can include any particle or high energy wave packet capable of transferring a sufficient amount of energy to a gaseous atom or molecule to remove at least one electron from the gaseous atom or molecule, in the presence of electromagnetic radiation.

公开(公告)号：JP4623916B2

公开(公告)日：2011-02-02

申请号：JP2001587894

申请日：2001-05-18

申请人： エミテック ゲゼルシヤフト フユア エミツシオンス テクノロギー ミツト ベシユレンクテル ハフツング

发明人： コニークツニー、イエルク‐ロマーン ,  ブリュック、ロルフ

IPC分类号： F01N3/08 ,  H05H1/24 ,  B01D53/00 ,  B01D53/56 ,  B01D53/74 ,  B01D53/92 ,  B01J19/08 ,  B01J19/24 ,  B01J35/04 ,  F01N13/02

CPC分类号： F01N3/0892 ,  B01D53/002 ,  B01D53/92 ,  B01J19/088 ,  B01J19/2485 ,  B01J35/04 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00195 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0894 ,  F01N13/009 ,  F01N2570/14

公开(公告)号：JP4425133B2

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：JP2004517543

申请日：2003-05-07

申请人： シーイーエム・コーポレーション

发明人： コリンズ，マイケル・ジェイ ,  ヘイーズ，ブリタニー・エル

IPC分类号： B01J19/12 ,  C07B61/00 ,  C40B60/14 ,  H05B6/64 ,  H05B6/66 ,  H05B6/68 ,  H05B6/80

CPC分类号： H05B6/806 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/0006 ,  B01J2219/00094 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/00306 ,  B01J2219/00495 ,  B01J2219/00601 ,  B01J2219/00698 ,  B01J2219/00716 ,  B01J2219/1275 ,  C07B61/00 ,  C40B60/14

公开(公告)号：JP2003534498A

公开(公告)日：2003-11-18

申请号：JP2001587894

申请日：2001-05-18

申请人： エミテック ゲゼルシヤフト フユア エミツシオンス テクノロギー ミツト ベシユレンクテル ハフツング

发明人： コニークツニー、イエルク‐ロマーン ,  ブリュック、ロルフ

IPC分类号： H05H1/24 ,  B01D53/00 ,  B01D53/56 ,  B01D53/74 ,  B01D53/92 ,  B01J19/08 ,  B01J19/24 ,  B01J35/04 ,  F01N3/08 ,  F01N13/02

CPC分类号： F01N3/0892 ,  B01D53/002 ,  B01D53/92 ,  B01J19/088 ,  B01J19/2485 ,  B01J35/04 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00195 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0894 ,  F01N13/009 ,  F01N2570/14

摘要： (57)【要約】 希薄燃焼作動の内燃機関（１）の排ガス中の有害物質濃度を低減する、特に酸化触媒と組合せてコンパクトに形成されたプラズマ反応器を提供する。 第１と第２の構造部材（２、３）が、夫々２つの端面（６）を持ち、第１の構成部材の端面の少なくとも１つと、第２の構成部材の端面の少なくとも１つが、凸部（８）と凹部（９）とから成る所定のプロファイル（７）を持ち、第１の構成部材の端面の凸部が、第２の構成部材の端面の凹部内に、またその逆に達し、こうして１つの貫通区間（１０）を形成した、ジャケット（４）と排ガス貫流可能な芯部（５）を夫々に持ち、第１と第２の構成部材とから成る、内燃機関の排ガス浄化装置を形成する。 第１の構成部材は、第２の構成部材と電気的に絶縁して配置されており、構成部材の相互間に電位差（１１）を与え、貫通区間内でプラズマを生成する。

公开(公告)号：JPWO2013132847A1

公开(公告)日：2015-07-30

申请号：JP2014503489

申请日：2013-03-06

申请人： パナソニックIpマネジメント株式会社

发明人： 繁樹 保田 ,  繁樹 保田 ,  龍井　洋 ,  洋 龍井 ,  麻生　智倫 ,  智倫 麻生 ,  尾関　正高 ,  正高 尾関

IPC分类号： C01B3/38 ,  C01B3/48 ,  H01M8/04 ,  H01M8/06

CPC分类号： C01B3/38 ,  B01J19/0013 ,  B01J2208/00061 ,  B01J2208/00088 ,  B01J2208/00548 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00069 ,  B01J2219/00164 ,  B01J2219/00198 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00209 ,  B01J2219/00216 ,  B01J2219/00231 ,  B01J2219/0024 ,  C01B3/48 ,  C01B2203/0233 ,  C01B2203/0283 ,  C01B2203/044 ,  C01B2203/047 ,  C01B2203/066 ,  C01B2203/0822 ,  C01B2203/1619 ,  C01B2203/169 ,  C01B2203/1695 ,  H01M8/04022 ,  H01M8/04082 ,  H01M8/04425 ,  H01M8/04776 ,  H01M8/0612 ,  Y02P20/128

摘要： 水素生成装置(1)は、改質器(7)、原料供給器(12)、質量流量計測器(10)、体積流量計測器(11)、水供給器(13)、燃焼器(15)、燃焼空気供給器(16)、酸化器(9)、酸化剤ガス供給器(14)および制御器(17)を備え、前記制御器は、原料ガスの質量流量と原料ガスの体積流量との第2比率が変化した場合に、燃焼空気の供給量および酸化剤ガスの供給量のうちの少なくとも一方の量を変更するように構成されている。

摘要翻译： 氢生成装置（1）是一个重整器（7），所述原料供给器（12），质量流量计（10），容积式流量计（11），所述水供给装置（13），燃烧器（15） 燃烧用空气供给装置（16），氧化剂（9），氧化性气体供给单元（14），并配有一个（17）的控制器，其中所述控制器，所述质量流量的体积流量和原料气体的原料气体 如果第二速度发生了变化，并且被配置为改变所述进给速率的进给量和所述氧化剂气体中的燃烧空气的量中的至少一个。

公开(公告)号：JP2011518880A

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：JP2011507417

申请日：2009-04-23

申请人： セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション

发明人： パット，ジェレミー・ジェイ

IPC分类号： C07C51/12 ,  B01J31/20 ,  C07B61/00 ,  C07C53/08

CPC分类号： C07C51/12 ,  B01D3/06 ,  B01J14/005 ,  B01J19/0013 ,  B01J31/0231 ,  B01J31/20 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/00164 ,  B01J2219/00202 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2531/822 ,  B01J2531/827 ,  C07C51/445 ,  C07C53/08

摘要： A carbonylation process for producing acetic acid including: (a) carbonylating methanol or its reactive derivatives in the presence of a Group VIII metal catalyst and methyl iodide promoter to produce a liquid reaction mixture including acetic acid, water, methyl acetate and methyl iodide; (b) feeding the liquid reaction mixture at a feed temperature to a flash vessel which is maintained at a reduced pressure; (c) heating the flash vessel while concurrently flashing the reaction mixture to produce a crude product vapor stream, wherein the reaction mixture is selected and the flow rate of the reaction mixture fed to the flash vessel as well as the amount of heat supplied to the flash vessel is controlled such that the temperature of the crude product vapor stream is maintained at a temperature less than 90° F. cooler than the feed temperature of the liquid reaction mixture to the flasher and the concentration of acetic acid in the crude product vapor stream is greater than 70% by weight of the crude product vapor stream.

公开(公告)号：JP4245298B2

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：JP2002051797

申请日：2002-02-27

申请人： ダイセル化学工業株式会社

发明人： 英彦 中島 ,  嘉行 原野 ,  学 山田

IPC分类号： B01J3/02 ,  B01J3/00 ,  B01J4/00 ,  B01J4/02 ,  B01J8/22 ,  B01J10/00 ,  B01J19/00 ,  C07C51/12 ,  C07C53/08

CPC分类号： B01J19/0006 ,  B01J4/02 ,  B01J10/002 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/00065 ,  B01J2219/00162 ,  B01J2219/00164 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00207 ,  B01J2219/00216 ,  B01J2219/0022 ,  B01J2219/00231 ,  B01J2219/0024 ,  C07C51/12 ,  Y02P20/142 ,  C07C53/08

公开(公告)号：JP2008513317A

公开(公告)日：2008-05-01

申请号：JP2007519250

申请日：2005-06-14

申请人： シェル・ハイドロジェン・エルエルシー

发明人： エリック・エー．・ロールバッハ ,  ジョン・エー．・トレラ ,  ジンギュ・キュイ ,  ピーター・エフ．・クロウリー ,  ピーター・エフ．・フォレイ

IPC分类号： C01B3/38 ,  C01B3/48 ,  H01M8/04 ,  H01M8/06

CPC分类号： B01J12/007 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/0004 ,  B01J2219/00198 ,  B01J2219/00209 ,  B01J2219/00231 ,  B01J2219/0024 ,  C01B3/382 ,  C01B3/386 ,  C01B2203/0244 ,  C01B2203/0261 ,  C01B2203/127 ,  C01B2203/1633 ,  C01B2203/169

摘要： 【課題】触媒の寿命向上等のため接触部分酸化器(CPO)のような水素脱硫器(HDS)付き炭化水素燃料改質器でのO
2 ：C比を精密に制御する。
【解決手段】CPO 19はHDS 15からオリフィス13a経由で脱硫炭化水素燃料を受ける。 差圧変換器13bは燃料流差圧対応表部13cに信号24aを与え、燃料指令26から差引いた(25)燃料流信号24bを与え、比例／積分ゲイン29からバルブ位置信号30aとし、燃料バルブ12を制御するため直線化される(58)。 実燃料流24b及び燃料流指令59の最小量59を空気／燃料対応表部33に適用する。 得られた空気流指令を実空気流41bと比較して空気流指令48bを送風機49に与えるため、比例／積分ゲイン47の後に直線化される流れ制御信号48bを与える。 オリフィス42aの前後の差圧42bは、実空気流フィードバック41bに変換する対応表部42cに与える。 層流制限部42bはCPO19で暖めてよい。
【選択図】図１

公开(公告)号：JP2005525234A

公开(公告)日：2005-08-25

申请号：JP2004504253

申请日：2003-05-07

申请人： ダナ・コーポレーションDana Corporation

发明人： クマール，サティヤンドラ ,  クマール，デヴェンドラ

IPC分类号： B01J7/00 ,  A62D3/00 ,  B01D53/86 ,  B01D53/92 ,  B01J19/08 ,  B01J19/12 ,  B01J37/34 ,  B22F3/105 ,  C01B3/02 ,  C21D1/06 ,  C21D1/09 ,  C21D1/38 ,  C22B4/00 ,  F01N3/08 ,  F01N3/10 ,  F01N3/20 ,  F01N3/24 ,  F01N3/28 ,  F01N3/30 ,  F01N9/00 ,  F01N13/10 ,  F27B17/00 ,  F27D3/12 ,  F27D11/08 ,  F27D11/12 ,  G21K5/00 ,  H01J37/32 ,  H01M8/06 ,  H05B6/68 ,  H05B6/78 ,  H05B6/80 ,  H05H1/24 ,  H05H1/46

CPC分类号： H05B6/68 ,  B01D53/92 ,  B01D2258/01 ,  B01D2259/818 ,  B01J19/088 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/00063 ,  B01J2219/00193 ,  B01J2219/002 ,  B01J2219/00213 ,  B01J2219/0024 ,  B01J2219/0892 ,  B01J2219/0894 ,  B01J2219/1269 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C22B4/005 ,  F01N3/202 ,  F01N3/206 ,  F01N13/10 ,  F01N2240/28 ,  F01N2610/08 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32366 ,  H01J2237/0206 ,  H01J2237/33 ,  H01J2237/336 ,  H01J2237/338 ,  H05B6/6402 ,  H05B6/806 ,  H05B2206/044 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4607 ,  H05H2001/4652 ,  Y02B40/143 ,  Y02T10/26

摘要： プラズマ支援ガス生成を行うための方法および装置が提供される。 一実施形態では、少なくとも、１つの原子または分子種を含むガスをキャビティ内に流す。 このガスは、プラズマ(３１０)が、キャビティ(３０５)内に形成されるように、（選択的にプラズマ触媒が存在しる）約３３０GHz未満の周波数を有した電磁放射に晒される。 他のものを通過させることなく、原子又は分子種を通過することができるフィルタ(３１５)は、キャビティ(３０５)に流体がなれることが可能なように連通されている。 このように、選択された化学種は、保存またはすぐに使用できるように、抽出されて、収集することができる。