公开(公告)号：JP2016510071A

公开(公告)日：2016-04-04

申请号：JP2015561995

申请日：2014-02-13

申请人： エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG ,  エボニック インダストリーズ アクチエンゲゼルシャフトEvonik Industries AG

发明人： レナート　カディロフ ,  カディロフ レナート ,  ドゥムラート クリスタ ,  ドゥムラート クリスタ ,  ドゥムラート アンドレアス ,  ドゥムラート アンドレアス ,  ノイマン ヘルフリート ,  ノイマン ヘルフリート ,  マティアス　ベラー ,  ベラー マティアス

IPC分类号： C07C67/475 ,  B01J31/22 ,  B01J31/24 ,  B01J31/26 ,  C07C6/04 ,  C07C15/52 ,  C07C41/18 ,  C07C43/188 ,  C07C67/333 ,  C07C69/74 ,  C07C69/75

CPC分类号： C07D313/08 ,  B01J31/2265 ,  B01J31/2295 ,  B01J31/24 ,  B01J2531/821 ,  C07C6/04 ,  C07C41/18 ,  C07C67/333 ,  C07C2527/14 ,  C07C2531/20 ,  C07C2531/22 ,  C07C2531/28 ,  C07C2601/10 ,  C07C2601/16 ,  C07D207/48 ,  C07C43/188 ,  C07C69/75 ,  C07C69/74 ,  C07C15/52

摘要： 本発明は、次の工程a.少なくとも1つのオレフィンを有するオレフィン反応混合物を準備する工程、b.一般式[RuX2L1xL2y]z(I)(前記式中、X=アニオン性配位子;L1=中性のπ結合する配位子;L2=中性の電子供与体配位子;x=0、1;y=1、2、3;z=1、2)のルテニウム化合物を添加する工程、c.ルイス酸及び/又はアニオン性の配位しない塩を添加する工程、d.30℃〜140℃の範囲内の温度で反応させる工程を有し、その際、アルキン又はアルキノールの添加は行わない、メタセシスによるオレフィンの製造方法製造方法に関する。更に、本発明はこの方法のメタセシス反応での使用に関する。

摘要翻译： 本发明包括与烯烃制备烯烃反应混合物，b与通式[RuX2L1xL2y] Z（I）的至少一个步骤的步骤：（式中，X =阴离子配体中; .. L1 =中 性π键配位体; L 2 =电子给体配体的中性; X = 0,1; Y = 1,2,3;加入z的钌化合物= 1,2），C 中，加入路易斯酸和/或阴离子配位不盐，包括：在温度在〜140℃，此时，不进行炔烃或炔醇的添加草30℃的范围内进行反应的步骤， 一种生产烯烃复分解的制造方法的过程。 本发明还涉及使用该方法的复分解反应的。

公开(公告)号：JP5737242B2

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：JP2012177800

申请日：2012-08-10

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 提箸 正義 ,  畠山 潤 ,  長谷川 幸士

IPC分类号： G03F7/32 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  C08F220/18

CPC分类号： G03F7/0382 ,  C07C57/26 ,  C07C69/54 ,  C07C69/74 ,  C07C69/75 ,  C07C69/78 ,  C08F220/10 ,  C08F220/14 ,  C08F220/16 ,  C08F220/24 ,  C08F222/10 ,  C08F222/14 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

公开(公告)号：JP5603487B2

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：JP2013513814

申请日：2011-06-09

申请人： テクニオン リサーチ アンド ディベラップメント ファウンデイション リミテッド

发明人： ジェナディ ニスネビッチ ,  マーク ガンデルマン ,  クセニヤ クルビトスキ

IPC分类号： C07B39/00 ,  C07C17/093 ,  C07C19/07 ,  C07C19/075 ,  C07C19/16 ,  C07C22/00 ,  C07C22/04 ,  C07C23/18 ,  C07C23/46 ,  C07C25/02 ,  C07C25/22 ,  C07C41/22 ,  C07C43/225 ,  C07C67/287 ,  C07C67/307 ,  C07C69/63 ,  C07C69/74 ,  C07C69/753 ,  C07C201/12 ,  C07C205/11 ,  C07C205/12 ,  C07C269/06 ,  C07C271/22 ,  C07D205/04 ,  C07D211/38 ,  C07J9/00

CPC分类号： C07C17/093 ,  C07C41/22 ,  C07C67/32 ,  C07C201/12 ,  C07C269/06 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2603/62 ,  C07C2603/90 ,  C07D205/04 ,  C07D211/38 ,  C07J9/00 ,  C07J9/005 ,  C07C19/075 ,  C07C22/04 ,  C07C25/22 ,  C07C25/18 ,  C07C22/00 ,  C07C19/07 ,  C07C25/02 ,  C07C23/46 ,  C07C43/225 ,  C07C69/753 ,  C07C69/74 ,  C07C69/76 ,  C07C205/11 ,  C07C271/22

公开(公告)号：JP5401800B2

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：JP2008033122

申请日：2008-02-14

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 勇士 萩原 ,  ジョナサン ジョアキム ジョドリ ,  智 成塚 ,  一彦 前田

IPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C08F20/26 ,  C08F32/08 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C07C69/003 ,  C07C69/74 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A sulfonic acid onium salt represented by the following formula (1) can be used as a superior radiosensitive acid generator for resist compositions. It is possible to form a good pattern by using a resist composition containing this sulfonic acid onium salt. In formula (1), R1 represents a monovalent organic group, and Q+ represents a sulfonium cation or iodonium cation.

摘要翻译： 由下式（1）表示的磺酸鎓盐可用作抗蚀剂组合物的优异的放射敏感酸发生剂。 可以通过使用含有该磺酸鎓盐的抗蚀剂组合物形成良好的图案。 在式（1）中，R 1表示一价有机基团，Q +表示锍阳离子或碘鎓阳离子。

公开(公告)号：JP2013534939A

公开(公告)日：2013-09-09

申请号：JP2013513570

申请日：2011-05-12

申请人： メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung

发明人： ユンゲ，ミヒャエル

IPC分类号： C09K19/30 ,  C09K19/12 ,  C09K19/14 ,  C09K19/20 ,  C09K19/32 ,  C09K19/34 ,  G02F1/13

CPC分类号： C09K19/3098 ,  C07C69/74 ,  C07C69/757 ,  C07C255/31 ,  C07C255/46 ,  C07C255/55 ,  C09K19/3068 ,  C09K19/321 ,  C09K19/3402 ,  C09K19/3452 ,  C09K19/3455 ,  C09K19/3458 ,  C09K19/3475 ,  C09K19/42 ,  C09K2019/3069 ,  C09K2019/3071 ,  C09K2019/3075 ,  C09K2019/3077 ,  C09K2219/13 ,  G02F1/139

摘要： 本発明は、スイッチ素子であって、熱応答性であり、放射エネルギーに対して透過性の小さい状態と放射エネルギーに対して透過性の大きい状態との間で切り替わり、かつ液晶媒体を含む、前記スイッチ素子に関する。 本発明はさらに、前記スイッチ素子の、内部空間と環境との間の放射エネルギーの流れの調節のための、および内部空間の温度の調節のための使用に関する。 本発明はさらに、液晶媒体であって、それが５〜６０％の式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とし、特に本発明のスイッチ素子における使用のための前記液晶媒体に関する。

摘要翻译： 本发明涉及一种开关元件，其是热电性的，并且在辐射能的较低透射状态和用于辐射能的更透射状态之间切换，并且其包括液晶介质。 本发明还涉及开关元件用于调节内部空间与环境之间的辐射能量流量以及调节室内空间的温度的用途。 本发明还涉及液晶介质，其特征在于它包含5-60％的式（I）化合物，特别是用于根据本发明的开关元件中。

公开(公告)号：JP2013504541A

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：JP2012528367

申请日：2010-09-10

申请人： ジボダン エス エー

发明人： クラフト，フィリップ ,  ミュラー，ウルス

IPC分类号： C07C69/74 ,  A61K8/37 ,  A61Q13/00 ,  C07C69/24 ,  C11B9/00 ,  C11D3/50

CPC分类号： C07C69/007 ,  C07C69/24 ,  C07C69/74 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/16 ,  C11B9/0015 ,  C11B9/003 ,  C11B9/0034

摘要： 式（Ｉ）

式中、
Ｒ
１ およびＲ
２ は独立して、水素、メチル、エチル、プロピルおよびイソプロピルから選択されるか、
あるいはＲ
１ およびＲ
２ は共に、弓状点線により表わされた飽和またはモノ不飽和５または６員炭化水素環を形成し、
Ｒ
３ は、メチルおよびエチルから選択され、
Ｒ
４ は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、シクロブチルおよびシクロペンチルから選択され、
Ｒ
５ は、水素およびメチルから選択され、および３''および４''位の間の点線は、任意の二重結合を表わす、
で表わされる化合物。
化合物は、ムスク芳香を有し、ファインフレグランスおよび機能的フレグランスにおいて有用である。
【選択図】なし

公开(公告)号：JPWO2010116990A1

公开(公告)日：2012-10-18

申请号：JP2011508364

申请日：2010-04-06

申请人： 日産化学工業株式会社

发明人： 鈴木　秀雄 ,  秀雄 鈴木 ,  尚宏 野田 ,  尚宏 野田

IPC分类号： C07D493/08 ,  C07C51/09 ,  C07C61/06 ,  C07C67/08 ,  C07C69/74 ,  C08G73/10

CPC分类号： C07C61/06 ,  C07C51/09 ,  C07C67/08 ,  C07C67/333 ,  C07C2601/08 ,  C07D493/04 ,  C07D493/22 ,  C08G69/26 ,  C08G69/40 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1075 ,  C08G73/1078 ,  C07C69/74

摘要： 式[1]で表されることを特徴とするケージ−1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸−1,3:2,4−二無水物化合物、およびこれをジアミンと縮合させて得られたポリイミド。これにより、紫外線領域に吸収がなく光透過性に優れるとともに絶縁性も高く、さらに耐熱性および加工性が改善され、有機溶媒に対する溶解性に優れたポリイミドを提供できる。(式中、R1およびR2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)

公开(公告)号：JP2011140474A

公开(公告)日：2011-07-21

申请号：JP2010003201

申请日：2010-01-08

申请人： Central Glass Co Ltd ,  セントラル硝子株式会社

发明人： AMII HIDEKI ,  OSHIRO KOJUN ,  MORIMOTO YOSHIMICHI ,  MATSUURA MAKOTO

IPC分类号： C07C17/272 ,  C07C23/04 ,  C07C23/28 ,  C07C67/293 ,  C07C67/347 ,  C07C69/157 ,  C07C69/74 ,  C07F5/04 ,  C07F7/18

CPC分类号： C07F7/1892 ,  C07C17/272 ,  C07C49/235 ,  C07C49/567 ,  C07C67/293 ,  C07C67/347 ,  C07C2601/02 ,  C07C2602/20 ,  C07C23/28 ,  C07C23/04 ,  C07C23/18 ,  C07C25/18 ,  C07C69/63 ,  C07C69/007 ,  C07C69/74

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a difluorocyclopropane compound with high selectivity in high yield under milder reaction conditions.
SOLUTION: The method for producing the difluorocyclopropane compound comprises using sodium bromodifluoroacetate as an agent for achieving difluorocyclopropane. The method enables production of the difluorocyclopropane compound with high conversion rate in high yield under milder reaction conditions compared to those in a conventional technology. The method is also markedly reducible of wastes by substantially suppressing formation of by-products. The method is industrially feasible (i.e. feasible at an industrial scale) and is thus extremely practical and useful.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 待解决的问题：提供一种在较温和的反应条件下以高产率制备双氟环丙烷化合物的方法。 解决方案：制备二氟环丙烷化合物的方法包括使用溴二氟乙酸钠作为获得二氟环丙烷的试剂。 与常规技术相比，该方法能够在较温和的反应条件下以高产率生产具有高转化率的二氟环丙烷化合物。 通过大幅度地抑制副产物的形成，该方法也可以显着地减少废物。 该方法在工业上是可行的（即在工业规模上是可行的），因此是非常实用和有用的。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4474745B2

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：JP2000204793

申请日：2000-07-06

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 和礼 対馬 ,  一哉 氏原

IPC分类号： C07C251/42 ,  A01N53/00 ,  A01N53/02 ,  A01P7/02 ,  A01P7/04 ,  C07B53/00 ,  C07B57/00 ,  C07C69/74 ,  C07C69/757 ,  C07C251/52 ,  C07C251/54

CPC分类号： A01N53/00 ,  C07C69/74 ,  C07C251/42 ,  C07C251/52 ,  C07C251/54 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/04 ,  C07C2601/08 ,  C07C2601/10

公开(公告)号：JP2009102384A

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：JP2009006171

申请日：2009-01-14

申请人： California Inst Of Technol ,  カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー

发明人： MORGAN JOHN P ,  MORRILL CHRISTIE ,  GRUBBS ROBERT H ,  CHOI TAE-LIM

IPC分类号： C07C67/475 ,  C07D233/02 ,  B01J31/22 ,  B01J31/24 ,  C07B61/00 ,  C07C6/06 ,  C07C45/68 ,  C07C45/69 ,  C07C47/21 ,  C07C49/203 ,  C07C51/353 ,  C07C57/13 ,  C07C67/347 ,  C07C69/587 ,  C07C69/602 ,  C07C69/74 ,  C07D307/93 ,  C07F15/00 ,  C07F19/00

CPC分类号： C07C67/343 ,  B01J31/18 ,  B01J31/2226 ,  B01J31/2273 ,  B01J31/24 ,  B01J31/2404 ,  B01J2231/543 ,  B01J2531/80 ,  B01J2531/821 ,  B01J2540/32 ,  C07C6/06 ,  C07C45/68 ,  C07C51/353 ,  C07C67/475 ,  C07C2531/22 ,  C07C47/21 ,  C07C49/203 ,  C07C57/13 ,  C07C69/587 ,  C07C69/757 ,  C07C69/74 ,  C07C69/602

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a catalyst for a ring-opening cross-metathsis reaction between a cycloolefinic substrate and a second olefinic reactant. SOLUTION: The catalyst used is a transition metal alkylidene complex substituted with an N-heterocyclic carbene ligand. The substrate is selected so that the rate of the cross-metathesis reaction of the second olefinic reactant, k CM , is greater than or equal to the rate of the ring-opening metathesis reaction, k RO . In this way, the predominant ROCM product is a monomer, a dimer, and/or an oligomer, but not a polymer. The invention additionally provides for the selective production of an end-differentiated olefinic product, using trisubstituted cycloolefins as substrates and/or a subsequent cross-metathesis reaction following an initial ROCM step. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供环烯基底物和第二烯属反应物之间的开环交叉错配反应的催化剂。 所用催化剂是用N-杂环卡宾配体取代的过渡金属亚烷基络合物。 选择底物使得第二烯属反应物的交叉复分解反应速率大于或等于开环复分解反应速率，k RO 。 以这种方式，主要的ROCM产物是单体，二聚体和/或低聚物，但不是聚合物。 本发明另外提供了使用三取代的环烯烃作为底物和/或在最初的ROCM步骤之后的随后的交叉复分解反应来选择性生产末端分解的烯烃产物。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT