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    ムスク様香気を有する化合物及びそれを含有する香料組成物
    1.
    发明专利
    ムスク様香気を有する化合物及びそれを含有する香料組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2019124533A1

    公开(公告)日：2020-12-10

    申请号：JP2018047171

    申请日：2018-12-21

    申请人： 高砂香料工業株式会社

    发明人： 関 結奈 ,  山本 憲一 ,  大竹 優也

    IPC分类号： C07C69/96 ,  C07C69/74 ,  C07C69/22 ,  C11B9/00 ,  C07C69/608

    摘要： 香料素材として有用な新規化合物とそれを含有する香料組成物並びに賦香製品の提供。 下記一般式: 【化1】 [式中、R 1 、R 2 、R 3 及びR 4 は互いに独立して水素原子又はメチル基であり、Y 1 及びY 2 は互いに独立して−O−CO−Z、−O−CO−O−Z等であり、Y 3 は−O−CO−Z 3 であり、Z及びZ 3 は、炭素数1〜5の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、又は炭素数3〜5のシクロアルキル基等であり、nは、2又は3である。]で示される化合物及びそれを含有する香料組成物並びに該組成物で賦香された製品。

    含フッ素シクロプロパンカルボン酸類の製造方法
    7.
    发明专利
    含フッ素シクロプロパンカルボン酸類の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017002712A1

    公开(公告)日：2018-04-19

    申请号：JP2017526315

    申请日：2016-06-24

    申请人： セントラル硝子株式会社

    发明人： 柏葉 崇 ,  山崎 たか子 ,  石井 祥子 ,  三村 俊介 ,  伏見 将徳 ,  岡本 隆一 ,  小林 春樹 ,  安本 学

    IPC分类号： C07D327/10 ,  C07C67/343 ,  C07C69/74 ,  C07C211/27

    CPC分类号： C07C67/313 ,  C07B57/00 ,  C07C67/343 ,  C07C67/52 ,  C07C69/74 ,  C07D327/10

    摘要： 本発明は、医農薬中間体として有用な含フッ素シクロプロパンカルボン酸類の工業的に実施可能な製造方法を提供する。含フッ素ジオール化合物とフッ化スルフリルを用いて含フッ素環状硫酸エステルを製造し(環状硫酸エステル化工程)、得られた含フッ素環状硫酸エステルとマロン酸ジエステルを反応させて含フッ素シクロプロパンジエステルを得(シクロプロパン化工程)、得られた含フッ素シクロプロパンジエステルを加水分解することで(加水分解工程)、含フッ素シクロプロパンモノエステルを得る。更に、得られた含フッ素シクロプロパンモノエステルとアミンを混合して含フッ素シクロプロパンモノエステルとアミンとの塩を形成し、再結晶精製を行う(再結晶工程)ことで、高い化学純度と光学純度を有する含フッ素シクロプロパンモノエステルまたはその塩等の含フッ素シクロプロパンカルボン酸類を製造できる。

    Novel light absorber and composition for forming organic antireflection film containing the same
    10.
    发明专利
    Novel light absorber and composition for forming organic antireflection film containing the same 有权
    用于形成含有其的有机抗反射膜的新型光吸收剂和组合物

    公开(公告)号：JP2014118409A

    公开(公告)日：2014-06-30

    申请号：JP2013183179

    申请日：2013-09-04

    申请人： Korea Kumho Petrochemical Co Ltd ,  コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド

    发明人： CHOI JUNG HOON ,  LEE EUN KYO ,  LEE JIN HAN ,  HAN EUN HEE ,  KIM SAM MIN

    IPC分类号： C07C69/353 ,  C07C69/74 ,  C07C69/757 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light absorber excellent in absorptivity of reflection lights generated at exposure in a lithography required formation of fine patterns, especially a lithography process of superfine pattern formation by using a KrF excimer laser of 248 nm, and useful for formation of an organic antireflection film and formation of fine patterns of a semiconductor element using the same, and to provide a composition for forming the organic antireflection film containing the same.SOLUTION: There is provided a light absorber having the following structure. (I), where A is a single bond or a saturated hydrocarbon chain, Band Bis H or a saturated hydrocarbon chain and may form a ring with A, Ra to Rd is H or an alkyl group, Ra and Rb as well as Rc and Rd may form a ring, Rto Rare a functional group having a specific structure or one of Rand Ras well as Rand Rare connected each other to form a dihydro-2,5-furandione structure.

    摘要翻译： 要解决的问题：提供一种在光刻中曝光时产生的反射光吸收性优异的光吸收剂，需要形成精细图案，特别是通过使用248nm的KrF准分子激光器，特别是通过使用248nm的KrF准分子激光器的光刻工艺，可用于形成 的有机抗反射膜和使用其形成半导体元件的精细图案，并提供一种用于形成含有该组合物的有机抗反射膜的组合物。解决方案：提供具有以下结构的光吸收剂。 （I），其中A是单键或饱和烃链，带双H或饱和烃链，并且可以与A形成环，R a至R d为H或烷基，R a和R b以及R c和 Rd可以形成环，Rto Rare具有特定结构的官能团或Rand Ras中的一个以及Rand Rare彼此连接以形成二氢-2,5-呋喃二酮结构。