公开(公告)号：KR102225985B1

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：KR1020190049193A

申请日：2019-04-26

申请人： 주식회사 테토스

发明人： 송근호

IPC分类号： C23C14/50 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  C23C14/56

CPC分类号： C23C14/505 ,  C23C14/34 ,  C23C14/541 ,  C23C14/56

摘要： 본 발명은 기판 증착 장치에 관한 것으로, 특히 기판 측면부가 외부로 노출되도록 적어도 하나의 기판을 기판 장착 드럼에 장착하되, 증착하기 위한 적어도 하나의 기판을 기판 장착 드럼에 순차적으로 자동 로딩할 수 있고, 증착 완료된 적어도 하나의 기판을 기판 장착 드럼으로부터 순차적으로 자동 언로딩할 수 있도록 구성함으로써, 적어도 하나의 기판들의 측면부에 대한 증착을 위하여 소요되는 시간, 노력 및 비용을 최소화시킬 수 있도록 하는 자동화된 기판 측면부 증착 장치에 관한 것이다.
본 발명인 자동화된 기판 측면부 증착 장치를 이루는 구성수단은, 챔버; 상기 챔버 내에 회전 가능하게 배치되되, 적어도 하나의 기판이 둘레면에서 중심 방향으로 삽입 장착되도록 하는 기판 장착 드럼; 상기 기판 장착 드럼이 상기 챔버 내로 이동 배치되도록 구동하거나 상기 챔버 외부로 이동 배치되도록 구동하는 구동 모듈; 상기 챔버 외부로 이동 배치된 상기 기판 장착 드럼에 증착하기 위한 적어도 하나의 기판을 순차적으로 삽입 장착하여 로딩하거나, 상기 챔버 외부로 이동 배치된 상기 기판 장착 드럼으로부터 증착이 완료된 적어도 하나의 기판을 순차적으로 탈착하여 언로딩하는 로딩/언로딩 모듈을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：JP6318333B2

公开(公告)日：2018-05-09

申请号：JP2017526160

申请日：2016-06-15

申请人： 富士電機株式会社 ,  国立大学法人東北大学

发明人： 菊池 洋人 ,  島津 武仁

IPC分类号： G11B5/64 ,  G11B5/84

CPC分类号： G11B5/851 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/541 ,  C23C14/5806 ,  G11B5/653 ,  G11B5/66 ,  G11B5/82 ,  G11B5/84 ,  G11B5/8404 ,  G11B2005/0021

公开(公告)号：JP6317056B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2012030825

申请日：2012-02-15

申请人： エスピーティーエス テクノロジーズ リミティド

发明人： ロンダ ハインドマン ,  スティーブン バージェス

IPC分类号： H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  C23C14/14

CPC分类号： B29C65/56 ,  C23C14/025 ,  C23C14/165 ,  C23C14/541

公开(公告)号：JPWO2017002316A1

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：JP2017526160

申请日：2016-06-15

申请人： 富士電機株式会社 ,  国立大学法人東北大学

发明人： 洋人 菊池 ,  洋人 菊池 ,  島津　武仁 ,  武仁 島津

IPC分类号： G11B5/84 ,  G11B5/64

CPC分类号： G11B5/851 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/541 ,  C23C14/5806 ,  G11B5/653 ,  G11B5/66 ,  G11B5/82 ,  G11B5/84 ,  G11B5/8404 ,  G11B2005/0021

摘要： 本発明は磁気記録媒体の成分の組成が膜厚方向に単調に変化する磁気記録媒体を、量産可能に製造する方法である。この方法は、基板と、磁気記録層を少なくとも含み、前記磁気記録層がFe、Pt及びRhを含み、前記磁気記録層のRhの組成が磁気記録層の膜厚方向に変化した、磁気記録媒体の製造方法である。磁気記録媒体の製造法は、FePt、又は、FePtRhの第1磁性層の上にFePtRhの第2磁性層を積層し、次いで第1磁性層及び第2磁性層を成膜した後で基板を加熱するか、或いは、予め所定温度に加熱した基板上で第1磁性層及び第2磁性層を成膜することを含む。磁気記録媒体の製造方法では、FePtRhの第1磁性層の上にFePtRhの第2磁性層を積層する場合には、第2磁性層のRhの濃度は、第1磁性層のそれよりも高くする。

公开(公告)号：JP2017100451A

公开(公告)日：2017-06-08

申请号：JP2016244910

申请日：2016-12-16

申请人： 株式会社クラレ

发明人： 野中 康弘 ,  河合 宏 ,  山越 聡

IPC分类号： B32B27/30 ,  C23C14/20 ,  C23C14/14 ,  F16L59/065 ,  B65D81/24 ,  B65D65/40 ,  B32B15/082

CPC分类号： B32B15/082 ,  B32B15/08 ,  B32B27/306 ,  B32B27/32 ,  B32B5/16 ,  C23C14/022 ,  C23C14/20 ,  C23C14/541 ,  C23C16/46 ,  B32B2250/02 ,  B32B2250/03 ,  B32B2250/40 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/20 ,  B32B2255/205 ,  B32B2264/105 ,  B32B2307/304 ,  B32B2310/14 ,  B32B2329/04 ,  B32B2553/00 ,  Y10T428/25

摘要： 【課題】ラミネーション等の蒸着フィルム加工時の屈曲によるピンホールやクラックの発生を抑え、ガスバリアー性の低下を抑制することができる蒸着フィルムを提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、ポリビニルアルコール系重合体を含む基材フィルムと、この基材フィルムに積層される金属蒸着層とを備える蒸着フィルムであって、上記金属蒸着層の電子顕微鏡で測定される平均粒径が、10nm以上142nm以下であり、上記基材フィルムが無機酸化物をさらに含むことを特徴とする。上記金属蒸着層の平均厚みとしては、30nm以上100nm以下が好ましい。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6095640B2

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：JP2014500731

申请日：2013-02-20

申请人： 株式会社クラレ

发明人： 野中 康弘 ,  河合 宏 ,  山越 聡

IPC分类号： B32B15/082 ,  B65D65/40 ,  B32B27/30

CPC分类号： B32B15/082 ,  B32B15/08 ,  B32B27/306 ,  B32B27/32 ,  B32B5/16 ,  C23C14/022 ,  C23C14/20 ,  C23C14/541 ,  C23C16/46 ,  B32B2250/02 ,  B32B2250/03 ,  B32B2250/40 ,  B32B2255/10 ,  B32B2255/20 ,  B32B2255/205 ,  B32B2264/105 ,  B32B2307/304 ,  B32B2310/14 ,  B32B2329/04 ,  B32B2553/00 ,  Y10T428/25

公开(公告)号：JP6073256B2

公开(公告)日：2017-02-01

申请号：JP2013558073

申请日：2012-03-09

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド ,  APPLIED MATERIALS,INCORPORATED

发明人： エワート モーリス イー ,  スブラマニ アナンサ ケイ ,  ケルカー ウメッシュ エム ,  バラスブラマンヤン チャンドラセカー ,  ラニッシュ ジョセフ エム

IPC分类号： H01L21/28 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  C23C14/58 ,  C23C16/56 ,  H01L21/285 ,  H01L21/26

CPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/541 ,  C23C16/481 ,  H01L21/02104 ,  H01L21/28518 ,  H01L21/2855 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/76882

公开(公告)号：JP2016121380A

公开(公告)日：2016-07-07

申请号：JP2014262232

申请日：2014-12-25

申请人： 株式会社神戸製鋼所

发明人： 瀬川 利規 ,  津村 英幸

IPC分类号： C23C16/02 ,  F27B9/28 ,  F27B9/36 ,  C23C14/02

CPC分类号： F27B9/145 ,  C23C14/02 ,  C23C14/541 ,  C23C14/562 ,  F27B9/28 ,  F27B9/36

摘要： 【課題】ヒータからの輻射によるローラの温度の上昇に起因する基材の熱損傷を防ぐことが可能な熱処理装置を提供する。 【解決手段】熱処理装置は、基材10を案内する複数のローラ54〜58であってそれぞれが基材幅よりも大きなローラ幅を有するものと、基材幅よりも大きな幅寸法をもつ発熱面68A,68Bを有するヒータ65,66と、遮熱部材70と、を備える。遮熱部材70は、発熱面68A,68Bのうち基材10の幅方向の端から当該幅方向にはみ出て露出する発熱面露出部分と、複数のローラ54〜58に含まれる特定のローラのうち基材10の幅方向の端から発熱面露出部分と同じ側にはみ出て露出するローラ露出部分と、の間に介在し、発熱面露出部分からローラ露出部分の外周面への輻射を遮る。 【選択図】図4

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种能够防止由加热器的辐射导致的辊温度升高对基板的热损伤的热处理装置。热处理装置包括：多个辊54〜58，用于引导基板 10，其每一个具有比衬底宽度大的辊宽度; 加热器65,66具有宽度大于衬底宽度的加热表面68A，68B; 隔热构件70配置在通过从基板10的宽度方向的边缘向加热面68A，68B的宽度方向延伸而露出的加热面露出部和滚筒露出部 通过从基板10的宽度方向上包括在多个辊54至58中的特定辊的边缘延伸到加热表面暴露部分的同一侧，并将辐射从加热表面暴露部分屏蔽到外周 滚筒暴露部分的表面。选择图：图4

公开(公告)号：JP5946402B2

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：JP2012279532

申请日：2012-12-21

申请人： 株式会社神戸製鋼所

发明人： 大庭 尚樹 ,  玉垣 浩

IPC分类号： C23C14/56

CPC分类号： C23C14/541 ,  C23C14/562 ,  C23C16/466 ,  C23C16/545

公开(公告)号：JP2016519329A

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：JP2016501750

申请日：2014-03-12

申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated ,  アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated

发明人： ラルフ ホフマン ,  ラルフ ホフマン ,  ケビン モラエス ,  ケビン モラエス

IPC分类号： G03F1/24 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F1/22 ,  C23C14/16 ,  C23C14/165 ,  C23C14/221 ,  C23C14/35 ,  C23C14/352 ,  C23C14/541 ,  G03F7/70958

摘要： 統合化極端紫外線ブランク生産システムは、真空中に基板を配置するための真空チャンバと、真空から基板を除去することなく、多層スタックを堆積させるための堆積システムと、アモルファス金属層として堆積される多層スタックの上で層を処理するための処理システムを含む。極端紫外線マスクブランクを製造するための物理的気相堆積チャンバは、ホウ素と合金化されたモリブデンを含むターゲットを含む。極端紫外線リソグラフィシステムは、極端紫外線光源と、極端紫外線光源からの光を導くためのミラーと、アモルファス金属層を有する多層スタックを有する極端紫外線マスクブランクを配置するためのレチクルステージと、ウェハを配置するためのウェハステージを含む。極端紫外線ブランクは、基板と、アモルファス金属層を有する多層スタックと、多層スタック上のキャッピング層とを含む。

摘要翻译： 集成极紫外空白生产系统包括用于将衬底置于真空中，在不脱离真空，用于沉积的多层叠层的沉积系统，多层被沉积，为无定形金属层移除衬底的真空室 包括用于在所述堆栈的顶部处理层的处理系统。 用于产生极紫外掩模坯料物理气相沉积腔室包括与钼合金化的含有靶硼。 极紫外光刻系统布置和极紫外光源，用于从所述极紫外光源，用于放置具有具有无定形金属层的多层叠层极紫外空白掩模，晶片掩模版台引导光的反射镜 包括用于所述晶片的阶段。 极紫外坯件包括一基板，具有无定形金属层的多层堆叠，并且所述多层堆叠上形成覆盖层。