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公开(公告)号：KR1020140004062A
公开(公告)日：2014-01-10
申请号：KR1020137005720
申请日：2011-08-04
发明人： 로이,삼브후엔. , 라이커,마틴이 , 밀러,케이스에이. , 파르케,비제이디. , 산소니,스티븐브이.
IPC分类号： H01L21/687 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/6831
摘要： 정전 척 및 그 사용 방법이 본 명세서에 제공된다. 몇몇 실시예들에서, 정전 척은, 디스크로서, 기판을 위에 지지하는 제 1 면과, 상기 제 1 면과 반대이며 상기 디스크를 열 제어 판에 대해 선택적으로 커플링하기 위한 계면을 제공하는 제 2 면을 가진 디스크와, 상기 디스크에 대해 상기 기판을 정전기적으로 커플링하기 위해 상기 제 1 면에 인접하여 상기 디스크 내부에 배치된 제 1 전극과, 상기 열 제어 판에 대해 상기 디스크를 정전기적으로 커플링하기 위해 상기 디스크의 반대면에 인접하여 상기 디스크 내부에 배치된 제 2 전극을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 상기 제 2 전극은 상기 디스크를 가열하도록 구성될 수도 있다.
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公开(公告)号：KR1020060052443A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050104893
申请日：2005-11-03
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68735 , C23C14/50 , H01J37/32642 , H01L21/68721 , Y10S156/915
摘要： 기판 링 조립체는 주변 에지를 갖는 기판 지지부를 위해 제공된다. 상기 조립체는 상기 기판 지지부의 상기 주변 에지의 일부분 이상을 덮으며 에워싸는 내측 원주변을 갖는 환형 밴드를 갖는다. 상기 조립체는 상기 환형 밴드를 상기 기판 지지부의 상기 주변 에지에 고정시키는 클램프도 갖는다.
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公开(公告)号：KR1020150052273A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：KR1020157008691
申请日：2013-08-20
CPC分类号： C23C14/3407 , H01J37/3408 , H01J37/3497
摘要： 기판프로세싱시스템에서사용하기위한타겟조립체들이본원에서제공된다. 일부실시예들에서, 기판프로세싱시스템에서사용하기위한타겟조립체는, 기판상에증착될소스재료, 제 1 백킹플레이트― 상기제 1 백킹플레이트는상기제 1 백킹플레이트의전면측상에소스재료를지지하도록구성되어, 소스재료의전방표면은, 존재하는경우기판과대향함―, 제 1 백킹플레이트의후면측에커플링되는제 2 백킹플레이트, 및제 1 백킹플레이트와제 2 백킹플레이트사이에배치되는채널들의복수의세트들을포함할수 있다. 이러한채널들은, 냉각제가열원(타겟면; target face)에더 가까이제공되도록허용함으로써, 타겟으로부터의보다효율적인열 제거를용이하게한다. 타겟으로부터의보다효율적인열 제거는보다적은열 구배및 그에따라더 적은기계적휨(bowing)/변형을갖는타겟을결과적으로가져온다.
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公开(公告)号：KR1020140108277A
公开(公告)日：2014-09-05
申请号：KR1020147019512
申请日：2012-12-13
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3441
摘要： 일부 실시예들에서, 기판 프로세싱 장치는, 챔버 본체; 상기 챔버 본체 상단에 배치된 덮개; 상기 덮개에 커플링되고, 기판 상에 증착될 물질로 구성된 타겟을 포함하는 타겟 조립체; 상기 타겟의 외측 에지 주변에 배치된 내벽을 가진 환형 암공간 쉴드; 상기 암공간 쉴드의 외측 에지에 인접하여 배치된 밀봉 링; 및 상기 덮개에 외측 단부 부근에서 커플링되는 지지 부재로서, 상기 밀봉 링과 상기 환형 암공간 쉴드를 지지하도록 방사상 내측으로 연장하며, 상기 지지 부재와 상기 밀봉 링 그리고 상기 밀봉 링과 상기 타겟 조립체 사이에 시일이 형성되도록, 상기 덮개에 커플링될 때 충분한 압축을 제공하는 상기 지지 부재를 포함할 수 있다.
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公开(公告)号：KR102108717B1
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：KR1020157006118
申请日：2013-07-18
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/54 , H01L21/285 , H01L21/768
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公开(公告)号：KR101892911B1
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：KR1020137005720
申请日：2011-08-04
发明人： 로이,삼브후엔. , 라이커,마틴이 , 밀러,케이스에이. , 파르케,비제이디. , 산소니,스티븐브이.
IPC分类号： H01L21/687 , B23Q3/15
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/6831
摘要： 정전척 및그 사용방법이본 명세서에제공된다. 일부실시예들에서, 정전척은, 디스크로서, 기판을위에지지하는제 1 측면과, 상기제 1 측면과반대인제 2 측면을가져서, 상기디스크를열 제어판에대해선택적으로커플링하기위한계면을제공하는디스크와, 상기디스크에대해상기기판을정전기적으로커플링하기위해상기제 1 측면에근접하여상기디스크내부에배치된제 1 전극과, 상기열 제어판에대해상기디스크를정전기적으로커플링하기위해상기디스크의반대면에근접하여상기디스크내부에배치된제 2 전극을포함할수 있다. 일부실시예들에서, 상기제 2 전극은또한상기디스크를가열하도록구성될수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170137952A
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：KR1020177034770
申请日：2012-12-13
CPC分类号： C23C14/34 , H01J37/3417 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3441
摘要： 일부실시예들에서, 기판프로세싱장치는, 챔버본체; 챔버본체정상부에배치된덮개; 덮개에커플링되고, 기판상에증착될물질로구성된타겟을포함하는타겟조립체; 타겟의외측에지주변에배치된내측벽을갖는환형암공간쉴드; 암공간쉴드의외측에지에인접하여배치된밀봉링; 및지지부재를포함할수 있고, 지지부재는지지부재의외측단부부근에서덮개에커플링되고, 밀봉링과환형암공간쉴드를지지하도록방사상내측으로연장되며, 지지부재와밀봉링 그리고밀봉링과타겟조립체사이에시일이형성되도록, 덮개에커플링될때 충분한압축을제공한다.
摘要翻译： 在一些实施例中，衬底处理设备包括腔室主体; 设置在腔体顶部的盖子; 靶组件，所述靶组件联接到所述盖并且包括被配置为沉积在基底上的靶; 环形臂空间防护罩，其具有围绕靶的外边缘设置的内壁; 密封环，其设置在臂空间防护罩的外边缘附近; 并且它可以是一个支撑构件，所述支撑构件被联接到所述盖中bujaeui外端支撑件的附近，并沿径向向内延伸，以支持与所述环形臂空间屏蔽，所述支撑构件和所述密封环和密封环与所述靶组件的密封环 当连接到盖子时提供足够的压缩，从而在它们之间形成密封。
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公开(公告)号：KR1020150043389A
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：KR1020157006118
申请日：2013-07-18
IPC分类号： H01L21/203 , C23C14/04 , C23C14/54 , H01L21/67 , G05B15/02
CPC分类号： C23C14/046 , C23C14/54 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76865 , H01L21/76873 , H01L21/76879 , H01L21/203 , G05B15/02 , H01L21/67011
摘要： 프로세스챔버에서기판을프로세싱하기위한방법들및 장치는, 제 1 챔버프로세스를수행하기위해프로세스제어기로부터하나또는그 초과의디바이스들을위한프로세스제어파라미터들을수신하는단계; 하나또는그 초과의디바이스들에프로세스제어파라미터들각각을전송하기위한시간을결정하는단계; 하나또는그 초과의디바이스들각각에대해, 하나또는그 초과의디바이스들각각과연관된특정신호프로세스지연들을사용하여, 프로세스제어파라미터들각각을전송하기위한결정된시간을조정하는단계; 및제 1 챔버프로세스를수행하기위해, 조정된시간들에서하나또는그 초과의디바이스들각각에프로세스제어파라미터들을전송하는단계를포함하며, 동기화제어기는하나또는그 초과의출력채널들을포함하고, 각각의채널은하나또는그 초과의디바이스들중 하나에직접적으로커플링된다.
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公开(公告)号：KR101267466B1
公开(公告)日：2013-05-31
申请号：KR1020050104893
申请日：2005-11-03
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/68735 , C23C14/50 , H01J37/32642 , H01L21/68721 , Y10S156/915
摘要： 주변에지를갖는기판지지부를위한기판링 조립체가제공된다. 상기조립체는상기기판지지부의상기주변에지를에워싸며적어도부분적으로덮고있는내측둘레를갖는환형밴드를갖는다. 상기조립체는또한상기환형밴드를상기기판지지부의상기주변에지에고정시키는클램프를갖는다.
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