플라즈마 개선된 처리에서 웹 기재의 처리를 위한 장치
    6.
    发明公开
    플라즈마 개선된 처리에서 웹 기재의 처리를 위한 장치 审中-公开
    在等离子体增强处理中用于处理卷材基材的设备

    公开(公告)号:KR20180025890A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:KR20187000594

    申请日:2016-06-28

    摘要: 본발명은플라즈마개선된처리에서웹 기재(15a)를연속적으로처리하기위한장치(10)에관한것이다. 장치(10)는진공처리챔버를갖는적어도하나의처리스테이션(12a, 12b)을포함하고, 여기서적어도하나의플라즈마처리유닛(13a, 13b)이웹 기재(15a)의표면을처리하기위한처리챔버내에서플라즈마존(14a, 14b)을형성하도록설계된적어도하나의처리스테이션(12a, 12b)에할당된다. 장치(10)는풀기롤러(20) 및되감기롤러(21)로, 적어도하나의처리스테이션(12a, 12b)을통해서웹 기재(15a, 15b)를연속적으로이송하기위한이송시스템을더 포함하며, 여기서이송시스템은처리챔버를통한웹 기재(15a)의이송경로를규정한다. 플라즈마처리유닛(13a, 13b)은상기확장안테나를적어도하나의자체의공진주파수로여기하기위한적어도하나의확장안테나및 적어도하나의라디오주파수생성기를포함하고, 여기서처리챔버내의이송시스템은웹 기재(15a)를위한처리경로섹션을규정하며, 여기서웹 기재(15a)를위한처리경로섹션이확장안테나에대향및 이로부터이격되어위치된다.

    摘要翻译: 本发明涉及一种用于在等离子体增强处理中连续处理卷材基材(15a)的装置(10)。 设备10包括至少一个具有真空处理室的处理站12a,12b,其中至少一个等离子体处理单元13a,13b设置在处理室内用于处理幅材基底15a的表面 被分配给被设计成形成等离子体区(14a,14b)的至少一个处理台(12a,12b)。 装置10还包括一个输送系统,用于连续地输送幅材基片15a和15b通过至少一个处理站12a和12b到达退绕辊20和重绕辊21, 在传送系统限定通过处理室的幅材基底15a的传送路径的情况下。 等离子体处理单元(13a,13b)包括至少一个扩展天线和至少一个用于将扩展天线激励到其至少一个谐振频率的射频发生器,其中处理室中的传输系统包括幅材基底 ),其中用于幅材基底15a的处理路径部分被定位成与延伸的天线相对并间隔开。