-
公开(公告)号:KR1020100116696A
公开(公告)日:2010-11-01
申请号:KR1020107021493
申请日:2009-03-27
申请人: 아사히 가세이 파인켐 가부시키가이샤
IPC分类号: C07C309/20 , C07C303/44 , C08F128/02 , H01M8/10
CPC分类号: B01D1/065 , B01D3/02 , C07C309/20 , C08F220/44 , C08F228/02 , H01M8/1023 , H01M8/1025 , H01M8/103 , H01M8/1044 , H01M8/1072 , Y02E60/521 , Y02P70/56 , C08F220/06 , C08F220/14 , C08F220/56
摘要: 본 발명은 (1) 이중 결합 함량이 95 중량% 이상이고, (i) 나트륨(Na)의 함유량이 1 ppm 이하, 및 (ii) 알칼리 토금속 및 제1 전이 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속의 함유량이 1 ppm 이하인 비닐술폰산, 또는 (2) 이중 결합 함량이 95 중량% 이상이고, (i) 나트륨(Na)의 함유량이 100 ppb 이하, 및 (ii) 알칼리 토금속 및 제1 전이 금속으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속의 함유량이 100 ppb 이하인 비닐술폰산, 및 이들의 단독 중합체 및 공중합체, 이들의 제조 방법, 또는 이들의 제조에 적합한 박막 증류 장치에 관한 것이다.
-
公开(公告)号:KR1020030082471A
公开(公告)日:2003-10-22
申请号:KR1020030024077
申请日:2003-04-16
申请人: 카오카부시키가이샤
IPC分类号: C07C303/24
CPC分类号: C11D1/65 , C07C231/12 , C07C303/24 , C07C303/32 , C07C305/04 , C11D1/146 , C11D1/62 , C11D3/001 , C07C233/36 , C07C309/04 , C07C309/20 , C07C309/31
摘要: 장쇄 알킬 또는 알케닐 기를 갖는 황산화 화합물과 장쇄 알킬 또는 알케닐 기를 갖는 아민 간의 중화 화합물로, 연화제로서 유용한, 하기 화학식 I로 표시되는 황산 아민 염 I의 제조 방법이 제공된다:
[화학식 I]
[식중, R
31 은 선형 또는 분지형 C
18-36 알킬 또는 알케닐 기, 또는 화학식 R
36 -(OA)
n - (식중 R
36 은 선형 또는 분지형 C
12-36 알킬 또는 알케닐 기이고, OA는 탄소수 2 내지 4의 옥시알킬렌 기이고, n은 평균 0.1 내지 10의 수이다)으로 표시되는 기이고, R
32 는 선형 또는 분지형 C
10-36 알킬 또는 알케닐 기이고, X는 -CONH-, -NHCO-, -COO- 또는 -OCO-이고, R
33 은 선형 또는 분지형 C
1-6 알킬렌 기이고, R
34 는 선형 또는 분지형 C
1-6 알킬 또는 히드록시알킬 기, 또는 화학식 R
5 -[BR
6 ]
b -로 표시되는 기이고, R
35 는 선형 또는 분지형 C
1-6 알킬 또는 히드록시알킬 기이고, R
5 는 선형 또는 분지형C
10-36 알킬 또는 알케닐 기이고, R
6 은 선형 또는 분지형 C
1-6 알킬렌 기이고, B는 -COO-, -OCO-, -CONH- 및 -NHCO-로 구성되는 군으로부터 선택되는 기이고, b는 0 또는 1의 수이고, m은 0 또는 1의 수이다]. 술폰산 아민 염이 수득될 수 있다.-
公开(公告)号:KR100162487B1
公开(公告)日:1999-01-15
申请号:KR1019890004954
申请日:1989-04-14
申请人: 제이에스알 가부시끼가이샤 , 이시가와 가쯔히로 , 이또 가쯔미 , 오노 히사오 , 우에가와 다쯔오
IPC分类号: C07C309/06 , C08F36/14
CPC分类号: B01F17/0057 , C02F5/10 , C07C309/20 , C08F36/14
摘要: 내용없음.
-
4.
公开(公告)号:KR101591546B1
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:KR1020110121267
申请日:2011-11-18
申请人: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
CPC分类号: C07C309/20 , C07C69/54 , C07C303/32 , C07C309/12 , C07C381/12 , C08F20/38 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , C08F228/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/106 , Y10S430/111 , Y10S430/122
摘要: 본발명은하기일반식(1a), 일반식(2) 및일반식(3)으로나타내어지는반복단위를함유하는고분자화합물을제공한다:식중, R은 H, F, CH또는 CF을나타낸다. R, R및 R는직쇄상또는분기상의알킬기, 알케닐기또는옥소알킬기, 또는아릴기, 아랄킬기, 아릴옥소알킬기또는 4-플루오로페닐기를나타낸다. R, R및 R중의임의 2개는서로결합하여식 중의유황원자와함께고리를형성하더라도좋다. 단, R∼R중의어느하나이상은 4-플루오로페닐기를나타낸다. n은 0∼2의정수. R은 H, 또는알킬기를나타낸다. p는 0 또는 1을나타낸다. B는단결합또는 2가의유기기를나타낸다. a는 O∼3의정수를나타낸다. b는 1∼3의정수를나타낸다, X는산불안정기를나타낸다. 본발명의술포늄염은중합용제에의용해성이우수하고, 또한이것을이용한고분자화합물은레지스트용제에의용해성도충분히높다.
-
公开(公告)号:KR101460588B1
公开(公告)日:2014-11-17
申请号:KR1020097013637
申请日:2007-12-26
申请人: 아사히 가세이 파인켐 가부시키가이샤
IPC分类号: C07C303/44 , C07C309/20
CPC分类号: C07C303/22 , C07C303/44 , C07C309/20
摘要: 본 발명은 비닐 설폰산염을 탈금속 처리하는 공정을 가지는 비닐 설폰산의 제조 방법에 있어서, 식: 탈금속률(%)={(탈금속 처리 후의 산가)/(탈금속 처리 전의 산가)}×100 으로 나타내는 탈금속률이 95% 이상인 방법을 제공한다. 또한, 본 발명은 비닐 설폰산염을 탈금속 처리하는 공정을 가지는 비닐 설폰산의 제조 방법에 있어서, 탈금속 처리가 강산성 이온교환 수지를 이용하여 실시하는 처리인 방법을 제공하며, 박막 증류 장치에 의해 정제하는 공정을 더 포함하는 상기 비닐 설폰산의 제조 방법을 제공한다.
비닐 설폰산, 탈금속 처리,-
公开(公告)号:KR1020040086410A
公开(公告)日:2004-10-08
申请号:KR1020047012921
申请日:2003-02-19
申请人: 다우 코닝 도레이 캄파니 리미티드
发明人: 와키타게이지
CPC分类号: C07C303/44 , C07C51/412 , C07C51/44 , C07C51/50 , C07C57/04 , C07C309/20
摘要: 본 발명은, 아크릴산 또는 메타크릴산의 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염 또는 아연염의 수용액(A)을 수용성 중합금지제(B)의 존재하에 감압하에 가열하여 성분(A) 중의 물을 증류 제거시키는 것을 특징으로 하는 수분 함유량이 작은 라디칼 중합성 화합물의 금속염의 제조방법에 관한 것이다.
-
公开(公告)号:KR1020040047829A
公开(公告)日:2004-06-05
申请号:KR1020047003770
申请日:2002-09-09
IPC分类号: C07C309/67
CPC分类号: C07D257/04 , C07C33/044 , C07C33/423 , C07C33/426 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C259/06 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D277/34
摘要: 본 발명은 하기 화학식 Ⅰ에 표시되는 히드록시지방 술폰산 유사체, 또는 그의 제약학적으로 허용되는 염 또는 수화물을 제공한다. 본 발명의 화합물은 엘라스타제 방출 억제제로 유용하다.
식 중,
X는 에틸렌기, 비닐렌기 또는 에티닐렌기이고, Y는 에틸렌기, 비닐렌기, 에티닐렌기, OCH
2 또는 S(O)pCH
2 이고, 이때, p는 0, 1 또는 2이고, m은 1 내지 5의 정수이고, n은 0 내지 4의 정수이고, R
1 은 C
1-8 알킬기, C
3-8 시클로알킬기, C
3-8 시클로알킬기로 치환된 C
1-4 알킬기, 아릴기로 치환된 C
1-4 알킬기 또는 아릴옥시기로 치환된 C
1-4 알킬기이고, R
2 는 수소 원자 또는 메틸기이고, R
1 및
R
2 는 서로 부착된 탄소 원자와 함께 C
3-8 시클로알킬기를 형성할 수 있고, R
3 는 수소 원자 또는 C
2-8 아실기이고, R
4 는 OR
5 또는 NHR
6 이고, 이때, R
5 는 수소 원자, C
1-4 알킬기, 알칼리 금속, 알칼리 토금속 또는 암모늄기이고, R
6 는 수소 원자 또는 C
1-4 알킬기이다.-
公开(公告)号:KR1020040047826A
公开(公告)日:2004-06-05
申请号:KR1020047003682
申请日:2002-09-09
IPC分类号: C07C59/00
CPC分类号: C07D257/04 , C07C33/044 , C07C33/423 , C07C33/426 , C07C59/42 , C07C59/46 , C07C59/60 , C07C69/708 , C07C235/28 , C07C255/15 , C07C259/06 , C07C309/10 , C07C309/20 , C07C309/23 , C07C309/24 , C07C309/68 , C07C311/17 , C07C311/51 , C07C317/44 , C07C323/52 , C07C323/66 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07D277/34
摘要: 본 발명은 하기 화학식 I의 히드록시에이코세노산 유사체, 또는 그의 제약학적으로 허용되는 염 또는 수화물에 관한 것이다.
식 중,
결합 은 시스-비닐렌기 또는 에티닐렌기이고;
Y는 CH
2 , O 또는 S(O)
p (여기서, p는 0, 1 또는 2임)이며;
m은 1 내지 4의 정수이고;
n은 0 내지 3의 정수이며;
m과 n의 합은 3 내지 7의 정수이고;
R
1 은 C
1-4 알킬기 또는 C
3-8 시클로알킬기이며;
R
2 는 수소 원자 또는 메틸기이고;
R
3 은 COR
4 , 니트릴기, 할로겐 원자, 테트라졸기 또는 티아졸리딘디온기이며;
R
4 는 OR
6 , NHR
6 , N(OH)R
6 , NHSO
2 R
5 , 글리세롤 또는 관능화된 글리세롤이고;
R
5 는 C
1-15 알킬기, C
6-10 아릴기, 또는 알킬기, 할로겐 또는 아미노기로 치환된 C
7-14 아릴기이며;
R
6 은 수소, C
1-10 알킬기, 또는 히드록시기로 치환된 C
1-10 알킬기이다.
본 발명의 화합물은 엘라스타제 방출 억제제로서 유용하다.-
公开(公告)号:KR1020170048175A
公开(公告)日:2017-05-08
申请号:KR1020160135014
申请日:2016-10-18
申请人: 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
CPC分类号: G03F7/0397 , C07C69/74 , C07C69/753 , C07C69/757 , C07C69/78 , C07C69/95 , C07C205/06 , C07C205/11 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/20 , C07C309/24 , C07C309/73 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2601/20 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/24 , C07C2602/28 , C07C2602/42 , C07C2603/16 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/50 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/00 , C07J31/006 , C07J43/003 , C08F228/02 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/2037 , G03F7/2059
摘要: 본발명의과제는고해상도이면서고감도이며, 게다가노광후의패턴형상이양호하고 LWR이작은레지스트재료및 이것을이용한패턴형성방법을제공하는것이다. 상기과제는산불안정기를포함하는반복단위를포함하는베이스수지및 하기식 (1)로표시되는염을포함하는레지스트재료에의해해결된다.(식중, R은탄소수 5∼30의직쇄상, 분기상혹은환상의알킬기, 알케닐기혹은알키닐기, 또는탄소수 6∼20의아릴기이며, 소정의치환기를포함하고있어도좋다. M는나트륨이온, 마그네슘이온, 칼륨이온, 칼슘이온, 루비듐이온, 스트론튬이온, 이트륨이온, 세슘이온, 바륨이온또는세륨이온이다. n은 1∼3의정수이다.)
摘要翻译: 本发明的目的是提供一种抗蚀剂材料和使用该抗蚀剂材料的图案形成方法,其具有高分辨率和高灵敏度,并且可以减轻曝光后的图案形状, 问题是由含有基体树脂和由下式(1),包括含有酸不稳定基团的重复单元表示的盐的抗蚀材料来解决。(式中,R 5〜30小数euntan uijik链,支链或 M为选自钠离子,镁离子,钾离子,钙离子,铷离子,锶离子,钇离子, 离子,铯离子,钡离子或铈离子,并且n是1至3的数)。
-
公开(公告)号:KR1020160145055A
公开(公告)日:2016-12-19
申请号:KR1020167030657
申请日:2015-03-31
申请人: 고션 인코포레이티드
IPC分类号: C07C309/20 , C07D295/084 , H01M10/0567 , H01M10/0525
CPC分类号: H01M10/0567 , C07C309/04 , C07C309/20 , C07D295/084 , C07D295/088 , H01G11/06 , H01G11/58 , H01G11/60 , H01G11/64 , H01M10/0525 , H01M10/0569 , H01M2300/0037 , Y02E60/13 , H01M2300/00 , Y02E60/122
摘要: 본발명은하기화학식 I의화합물, 및전해질조성물, 특히리튬배터리에대한전해질조성물용첨가제로서의이의용도에관한것이다: 화학식 I상기식에서, X는 N 또는 P이고; -SO-는 -O-S(O)- 또는 -S(O)-O-이며; n 및 R내지 R는명세서에서정의된바와같다.
摘要翻译: 本发明涉及其中X为N或P的式(I)化合物; -SO 3 - 为-O-S(O)2 - 或-S(O)2-O-; 并且n和R 1至R 5定义如下,以及它们作为电解质组合物的添加剂的用途,特别是在锂电池的电解质组合物中的用途。
-
-
-
-
-
-
-
-
-