公开(公告)号：US20180099872A1

公开(公告)日：2018-04-12

申请号：US15836518

申请日：2017-12-08

申请人： Air Liquide Advanced Materials LLC ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  Air Liquide Advanced Materials, Inc. ,  American Air Liquide, Inc.

发明人： Cole RITTER ,  Gennadiy Itov ,  Manish Khandelwal ,  Jean-Marc Girard ,  Glenn Kuchenbeiser ,  Sean Kerrigan ,  Peng Zhang ,  Larry Kit-wing Leung

IPC分类号： C01B33/107 ,  C23C16/30 ,  C23C16/448 ,  C23C16/455

CPC分类号： C01B33/107 ,  C23C16/30 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/45525

摘要： Methods of synthesizing Si—H containing iodosilanes, such as diiodosilane or pentaiododisilane, using a halide exchange reaction are disclosed.

公开(公告)号：US20180072571A1

公开(公告)日：2018-03-15

申请号：US15661412

申请日：2017-07-27

申请人： Air Liquide Advanced Materials Inc. ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  Air Liquide Electronics U.S. LP ,  American Air Liquide, Inc. ,  Air Liquide Advanced Materials LLC

发明人： Antonio SANCHEZ ,  Gennadiy ITOV ,  Manish KHANDELWAL ,  Cole RITTER ,  Peng ZHANG ,  Jean-Marc GIRARD ,  Zhiwen WAN ,  Glenn KUCHENBEISER ,  David ORBAN ,  Sean KERRIGAN ,  Reno PESARESI ,  Matthew Damien STEPHENS ,  Yang WANG ,  Guillaume HUSSON

IPC分类号： C01B21/087 ,  C04B35/589 ,  C04B35/597 ,  C04B35/14 ,  C09D1/00 ,  C01B21/082 ,  B05D1/02 ,  B05D1/00 ,  B05D1/18 ,  C23C16/24

摘要： Solid or liquid N—H free, C-free, and Si-rich perhydropolysilazane compositions comprising units having the following formula [—N(SiH3)x(SiH2-)y], wherein x=0, 1, or 2 and y=0, 1, or 2 when x+y=2; and x=0, 1 or 2 and y=1, 2, or 3 when x+y=3 are disclosed. Also disclosed are synthesis methods and applications for the same.

公开(公告)号：US20160264426A1

公开(公告)日：2016-09-15

申请号：US15159454

申请日：2016-05-19

申请人： Air Liquide Advanced Materials, Inc. ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： Sean KERRIGAN ,  Zhiwen WAN ,  Jean-Marc GIRARD

IPC分类号： C01B33/107

CPC分类号： C01B33/107

摘要： Disclosed are methods of selectively synthesizing inorganic silanes, such as halosilane and dihalosilane, comprising the step of reacting the halide or halogen (i.e., HX or X2 wherein X is Cl, Br, or I) with RSiH3, wherein R is an unsaturated C4 to C8 cyclic hydrocarbon or heterocycle group, provided that a C6 cyclic aromatic includes at least one hydrocarbyl ligand, in the presence of a catalyst, to produce RH and the inorganic silane having the formula SixHaXb, wherein x=1-4; a=1-9; b=1-9; and a+b=2x+2.

摘要翻译： 公开了选择合成无机硅烷如卤代硅烷和二卤代硅烷的方法，包括使卤化物或卤素（即HX或X 2，其中X为Cl，Br或I）与RSiH 3反应的步骤，其中R为不饱和的C4至 C8环状烃基或杂环基团，条件是C6环状芳族化合物在催化剂存在下包含至少一种烃基配位体，以制备RH和具有式SixHaXb的无机硅烷，其中x = 1-4; a = 1-9; b = 1-9; 和a + b = 2x + 2。

公开(公告)号：US20210087209A1

公开(公告)日：2021-03-25

申请号：US16603358

申请日：2017-04-07

申请人： Manish KHANDELWAL ,  Reno PESARESI ,  Jean-Marc GIRARD ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  AIR LIQUIDE ADVANCED MATERIALS, INC.

发明人： Manish KHANDELWAL ,  Reno PESARESI ,  Jean-Marc GIRARD

IPC分类号： C07F7/08 ,  C07F7/12 ,  B01J31/02

摘要： Selective reduction methods for halogenated carbosilanes and carbodisilanes are disclosed. More particularly, high yields of the desired carbosilanes and carbodisilanes are obtained by reduction of their halogenated counterparts using a reducing agent and tetrabutylphosphonium chloride (TBPC) as a catalyst.

公开(公告)号：US10106425B2

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：US15159454

申请日：2016-05-19

申请人： Air Liquide Advanced Materials, Inc. ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： Sean Kerrigan ,  Zhiwen Wan ,  Jean-Marc Girard

IPC分类号： C01B33/107

摘要： Disclosed are methods of selectively synthesizing inorganic silanes, such as halosilane and dihalosilane, comprising the step of reacting the halide or halogen (i.e., HX or X2 wherein X is Cl, Br, or I) with RSiH3, wherein R is an unsaturated C4 to C8 cyclic hydrocarbon or heterocycle group, provided that a C6 cyclic aromatic includes at least one hydrocarbyl ligand, in the presence of a catalyst, to produce RH and the inorganic silane having the formula SixHaXb, wherein x=1-4; a=1-9; b=1-9; and a+b=2x+2.

公开(公告)号：US20160046408A1

公开(公告)日：2016-02-18

申请号：US14924623

申请日：2015-10-27

申请人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  American Air Liquide, Inc. ,  Air Liquide Advanced Materials, Inc.

发明人： Jean-Marc Girard ,  Glenn Kuchenbeiser ,  Nicolas Blasco ,  Vincent Omarjee ,  Venkateswara Pallem

IPC分类号： B65D25/14 ,  C23C16/455 ,  C23C16/06 ,  B65D85/00

CPC分类号： B65D25/14 ,  B65D85/70 ,  C23C14/243 ,  C23C16/045 ,  C23C16/06 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45529 ,  C23C16/45555

摘要： Provided is a vessel having internally wettable surfaces therein coated with one or more barrier layers to, for example, inhibit contamination of a material, such as a metal halide, contained in the vessel.

摘要翻译： 提供了一种其内部可润湿表面的容器，其中涂覆有一个或多个阻挡层，以例如抑制包含在容器中的诸如金属卤化物的材料的污染。

公开(公告)号：US11261202B2

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：US16603358

申请日：2017-04-07

申请人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  AIR LIQUIDE ADVANCED MATERIALS, INC. ,  Manish Khandelwal ,  Reno Pesaresi ,  Jean-Marc Girard

发明人： Manish Khandelwal ,  Reno Pesaresi ,  Jean-Marc Girard

IPC分类号： C07F7/08 ,  B01J31/02 ,  C07F7/12

摘要： Selective reduction methods for halogenated carbosilanes and carbodisilanes are disclosed. More particularly, high yields of the desired carbosilanes and carbodisilanes are obtained by reduction of their halogenated counterparts using a reducing agent and tetrabutylphosphonium chloride (TBPC) as a catalyst.

公开(公告)号：US10192734B2

公开(公告)日：2019-01-29

申请号：US15661576

申请日：2017-07-27

申请人： Air Liquide Advanced Materials, Inc. ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l;etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude ,  Air Liquide Advanced Materials LLC

发明人： Antonio Sanchez ,  Gennadiy Itov ,  Reno Pesaresi ,  Jean-Marc Girard ,  Peng Zhang ,  Manish Khandelwal

IPC分类号： H01L21/02 ,  C07F7/10 ,  C23C16/34 ,  C23C16/40

摘要： Si-containing film forming compositions comprising Si—C free and volatile silazane-containing precursors are disclosed. The compositions may be used to deposit high purity thin films. The Si—C free and volatile silazane-containing precursors have the formulae: [(SiR3)2NSiH2]m—NH2-m—C≡N, with m=1 or 2;  (a) [(SiR3)2NSiH2]n—NL3-n,with n=2 or 3;  (b) (SiH3)2NSiH2—O—SiH2N(SiH3)2; and  (c) (SiR′3)2N—SiH2—N(SiR′3)2;  (d) with each R independently selected from H, a dialkylamino group, or an amidinate; each R′ independently selected from H, a dialkylamino group, or an amidinate, with the provision that all R′ are not H; and L is selected from H or a C1-C6 hydrocarbyl group.

公开(公告)号：US20170323783A1

公开(公告)日：2017-11-09

申请号：US15661576

申请日：2017-07-27

申请人： Air Liquide Advanced Materials, Inc. ,  L'Air Liquide, Société Anonyme pour l;etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude

发明人： Antonio SANCHEZ ,  Gennadiy ITOV ,  Reno PESARESI ,  Jean-Marc GIRARD ,  Peng ZHANG ,  Manish KHANDELWAL

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02211 ,  C07F7/10 ,  C23C16/345 ,  C23C16/402 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02222 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/0228

摘要： Disclosed are Si—C free and volatile silazane precursors for high purity thin film deposition.