公开(公告)号：US07830611B2

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：US11971328

申请日：2008-01-09

申请人： Olaf Conradi ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati ,  Boris Bittner

发明人： Olaf Conradi ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati ,  Boris Bittner

IPC分类号： G02B1/06 ,  G02B3/02 ,  G02B27/02

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/14 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens, an optical element and an interspace formed between the lens and the optical element, which can be filled with a liquid. At least one actuator acting exclusively on the lens is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括用于减小旋转非对称图像误差的操纵器。 操纵器又包含透镜，光学元件和形成在透镜和光学元件之间的间隙，其可以填充液体。 此外还提供至少一个致动器作用于透镜，这可以产生透镜的旋转非对称变形。

公开(公告)号：US20110019169A1

公开(公告)日：2011-01-27

申请号：US12896128

申请日：2010-10-01

申请人： Olaf Conradi ,  Boris Bittner ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati

发明人： Olaf Conradi ,  Boris Bittner ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/14 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens, an optical element and an interspace formed between the lens and the optical element, which can be filled with a liquid. At least one actuator acting exclusively on the lens is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括用于减小旋转非对称图像误差的操纵器。 操纵器又包含透镜，光学元件和形成在透镜和光学元件之间的间隙，其可以填充液体。 此外还提供至少一个致动器作用于透镜，这可以产生透镜的旋转非对称变形。

公开(公告)号：US07990622B2

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：US12896128

申请日：2010-10-01

申请人： Olaf Conradi ,  Boris Bittner ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati

发明人： Olaf Conradi ,  Boris Bittner ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati

IPC分类号： G02B1/06 ,  G02B3/12 ,  G02B27/02

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/14 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens, an optical element and an interspace formed between the lens and the optical element, which can be filled with a liquid. At least one actuator acting exclusively on the lens is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括用于减小旋转非对称图像误差的操纵器。 操纵器又包含透镜，光学元件和形成在透镜和光学元件之间的间隙，其可以填充液体。 此外还提供至少一个致动器作用于透镜，这可以产生透镜的旋转非对称变形。

公开(公告)号：US20080239503A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：US11971328

申请日：2008-01-09

申请人： Olaf Conradi ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati ,  Boris Bittner

发明人： Olaf Conradi ,  Sascha Bleidistel ,  Markus Hauf ,  Wolfgang Hummel ,  Arif Kazi ,  Baerbel Schwaer ,  Jochen Weber ,  Hubert Holderer ,  Payam Tayebati ,  Boris Bittner

IPC分类号： G02B3/12 ,  G03B27/52

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/14 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a manipulator for reducing rotationally asymmetric image errors. The manipulator in turn contains a lens, an optical element and an interspace formed between the lens and the optical element, which can be filled with a liquid. At least one actuator acting exclusively on the lens is furthermore provided, which can generate a rotationally asymmetric deformation of the lens.

摘要翻译： 微光刻投影曝光装置的投影物镜包括用于减小旋转非对称图像误差的操纵器。 操纵器又包含透镜，光学元件和形成在透镜和光学元件之间的间隙，其可以填充液体。 此外还提供至少一个致动器作用于透镜，这可以产生透镜的旋转非对称变形。

公开(公告)号：US20060164619A1

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：US11316160

申请日：2005-12-21

申请人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70258

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography comprises at least one optical element and at least one manipulator, a linear drive for manipulating the position of the optical element. Said linear drive has at least one moving element, said moving element having a shearing part and a lifting part. Said shearing part is arranged to move the optical element and said lifting part is arranged to move said shearing part. Said linear drive has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置包括至少一个光学元件和至少一个操纵器，用于操纵光学元件的位置的线性驱动器。 所述线性驱动器具有至少一个移动元件，所述移动元件具有剪切部分和提升部分。 所述剪切部分被布置成移动光学元件，并且所述提升部分被布置成移动所述剪切部分。 所述线性驱动器具有支撑元件，该支撑元件在剪切部分被提升部分移动的同时与光学元件接触并防止其移动。

公开(公告)号：US20090141258A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US12363065

申请日：2009-01-30

申请人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/54 ,  G02B15/14

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/70825

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography includes at least one optical element and at least one manipulator, a linear drive for manipulating the position of the optical element. The linear drive has at least one moving element, the moving element having a shearing part and a lifting part. The shearing part is arranged to move the optical element and the lifting part is arranged to move the shearing part. The linear drive has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置包括至少一个光学元件和至少一个操纵器，用于操纵光学元件的位置的线性驱动器。 线性驱动器具有至少一个移动元件，移动元件具有剪切部分和提升部分。 剪切部分被布置成移动光学元件，并且提升部分被布置成移动剪切部分。 线性驱动器具有支撑元件，该支撑元件在通过提升部分移动剪切部分的同时与光学元件接触并防止其移动。

公开(公告)号：US07486382B2

公开(公告)日：2009-02-03

申请号：US11316160

申请日：2005-12-21

申请人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

发明人： Stephan Back ,  Wolfgang Hummel ,  Juergen Fischer ,  Karl-Eugen Aubele ,  Erich Merz ,  Raoul Reiner ,  Klaus Rief ,  Stefan Schoengart ,  Markus Neumaier ,  Baerbel Schwaer ,  Ulrich Weber ,  Michael Muehlbeyer ,  Hubert Holderer ,  Alexander Kohl ,  Jochen Weber ,  Johannes Lippert ,  Thorsten Rassel

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70258

摘要： An imaging device in a projection exposure machine for microlithography includes at least one optical element and at least one manipulator, a linear drive for manipulating the position of the optical element. The linear drive has at least one moving element, the moving element having a shearing part and a lifting part. The shearing part is arranged to move the optical element and the lifting part is arranged to move the shearing part. The linear drive has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.

摘要翻译： 用于微光刻的投影曝光机中的成像装置包括至少一个光学元件和至少一个操纵器，用于操纵光学元件的位置的线性驱动器。 线性驱动器具有至少一个移动元件，移动元件具有剪切部分和提升部分。 剪切部分被布置成移动光学元件，并且提升部分被布置成移动剪切部分。 线性驱动器具有支撑元件，该支撑元件在通过提升部分移动剪切部分的同时与光学元件接触并防止其移动。

公开(公告)号：US20100128367A1

公开(公告)日：2010-05-27

申请号：US12403526

申请日：2009-03-13

申请人： Mariella Beckenbach ,  Klaus Rief ,  Andreas Bertele ,  Benjamin Sigel ,  Sascha Bleidistel ,  Wolfgang Hummel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Jochen Schwaer ,  Baerbel Schwaer ,  Thomas Schletterer ,  Artur Hoegele ,  Armin Schoeppach

发明人： Mariella Beckenbach ,  Klaus Rief ,  Andreas Bertele ,  Benjamin Sigel ,  Sascha Bleidistel ,  Wolfgang Hummel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Jochen Schwaer ,  Baerbel Schwaer ,  Thomas Schletterer ,  Artur Hoegele ,  Armin Schoeppach

IPC分类号： G02B7/02

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G02B7/023 ,  G02B13/14 ,  G02B27/0068 ,  G03F7/70058 ,  G03F7/70266

摘要： A projection objective for a microlithography apparatus with improved imaging properties is provided. A manipulator for a projection objective is provided. A microlithography apparatus including a projection objective of this type and/or a manipulator of this type is provided. A method for improving the imaging properties of a projection objective is provided.

摘要翻译： 提供了具有改善的成像特性的微光刻设备的投影物镜。 提供了一种用于投影物镜的操纵器。 提供包括这种类型的投影物镜和/或这种类型的操纵器的微光刻设备。 提供了一种用于改善投影物镜的成像特性的方法。

公开(公告)号：US20100290024A1

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：US12836176

申请日：2010-07-14

申请人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

发明人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G03B27/32

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/0081 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70558 ,  Y10S359/90

摘要： The invention relates to a method-for improving the imaging properties of a micro lithography projection objective, wherein the projection objective has a plurality of lenses between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator (ml, Mn) for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜的成像特性的方法，其中所述投影物镜在物平面和像平面之间具有多个透镜，所述多个透镜的第一透镜被分配有第一操纵器 （ml，Mn），用于使透镜主动变形，第一透镜被变形以至少部分地校正像差，多个透镜中的至少一个第二透镜进一步被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜在 除了第一个镜头。 此外，描述了用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。

公开(公告)号：US20080310029A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US11915191

申请日：2006-05-24

申请人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

发明人： Olaf Conradi ,  Heiko Feldmann ,  Gerald Richter ,  Sascha Bleidistel ,  Andreas Frommeyer ,  Toralf Gruner ,  Wolfgang Hummel

IPC分类号： G02B17/08 ,  G02B27/18

CPC分类号： G02B27/0068 ,  G02B3/0081 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70558 ,  Y10S359/90

摘要： The invention relates to a method -for improving the imaging properties of a micro lithography projection objective (50), wherein the projection objective has a plurality of lenses (L1, L2, L3, L4, L5, L6, L7, L8) between an object plane and an image plane, a first lens of the plurality of lenses being assigned a first manipulator (ml, Mn) for actively deforming the lens, the first lens being deformed for at least partially correcting an aberration, at least one second lens of the plurality of lenses furthermore being assigned at least one second manipulator, and the second lens being deformed in addition to the first lens. Furthermore, a method is described for selecting at least one lens of a plurality of lenses of a projection objective as actively deformable element, and a projection objective.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于改善微光刻投影物镜（50）的成像特性的方法，其中投影物镜在物体之间具有多个透镜（L1，L2，L3，L4，L5，L6，L7，L8） 平面和图像平面，多个透镜的第一透镜被分配用于主动变形透镜的第一操纵器（ml，Mn），第一透镜被变形以至少部分地校正像差，至少一个第二透镜 多个透镜还被分配至少一个第二操纵器，并且第二透镜除了第一透镜之外也变形。 此外，描述了用于选择投影物镜的多个透镜中的至少一个透镜作为主动变形元件和投影物镜的方法。