公开(公告)号：US20160177133A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：US14842632

申请日：2015-09-01

申请人： SAMSUNG SDI CO., LTD.

发明人： Wan-Hee Lim ,  Taek-Soo Kwak ,  Han-Song Lee ,  Eun-Su Park ,  Sun-Hae Kang ,  Bo-Sun Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sae-Mi Park ,  Jin-Hee Bae ,  Jin-Woo Seo ,  Jun-Young Jang ,  Youn-Jin Cho ,  Kwen-Woo Han ,  Byeong-Gyu Hwang

IPC分类号： C09D183/14 ,  B05D1/00 ,  C08K5/01

CPC分类号： C09D183/14 ,  C08G77/54 ,  C08G77/62 ,  C08K5/01 ,  C09D183/16

摘要： A composition for forming a silica based layer includes a silicon-containing compound including polysilazane, polysiloxazane, or a combination thereof and one or more kinds of solvent, and having a turbidity increasing rate of less than or equal to about 0.13.

摘要翻译： 用于形成二氧化硅基层的组合物包括包含聚硅氮烷，聚硅氧烷或其组合的含硅化合物和一种或多种溶剂，并且浊度增加率小于或等于约0.13。

公开(公告)号：US09971243B2

公开(公告)日：2018-05-15

申请号：US15172351

申请日：2016-06-03

申请人： SAMSUNG SDI CO., LTD.

发明人： Yu-Shin Park ,  Tae-Ho Kim ,  Yoo-Jeong Choi ,  Sun-Hae Kang ,  Hyo-Young Kwon ,  Sang-Kyun Kim ,  Young-Min Kim ,  Youn-Hee Nam ,  Hyun-Ji Song ,  Byeri Yoon ,  Dong-Geun Lee ,  Seulgi Jeong

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  C08G61/12 ,  G03F7/075 ,  C08G10/00 ,  C08G12/00 ,  C08G16/00 ,  C09D161/00 ,  C09D161/18 ,  C09D161/20 ,  C09D165/00

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08G10/00 ,  C08G12/00 ,  C08G16/00 ,  C08G61/122 ,  C08G61/124 ,  C08G61/125 ,  C08G61/126 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3243 ,  C08G2261/3245 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/344 ,  C09D161/00 ,  C09D161/18 ,  C09D161/20 ,  C09D165/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/094

摘要： A polymer includes a structural unit represented by Chemical Formula 1 and an organic layer composition including the same. wherein in Chemical Formula 1, A is a carbon cyclic group including at least one hetero atom, B is one of groups in Group 1, where Ar1 to Ar4, R11 to R14, L and m are as defined in the specification and * is a linking point. When the carbon cyclic group includes at least two hetero atoms when the carbon cyclic group includes a pentagon cyclic moiety and the pentagon cyclic moiety includes a nitrogen atom (N) as a hetero atom, and the at least two hetero atoms are the same or different:

公开(公告)号：US10093830B2

公开(公告)日：2018-10-09

申请号：US14842632

申请日：2015-09-01

申请人： SAMSUNG SDI CO., LTD.

发明人： Wan-Hee Lim ,  Taek-Soo Kwak ,  Han-Song Lee ,  Eun-Su Park ,  Sun-Hae Kang ,  Bo-Sun Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sae-Mi Park ,  Jin-Hee Bae ,  Jin-Woo Seo ,  Jun-Young Jang ,  Youn-Jin Cho ,  Kwen-Woo Han ,  Byeong-Gyu Hwang

IPC分类号： C09D103/14 ,  C09D183/14 ,  C08K5/01 ,  C09D183/16 ,  C08G77/54 ,  C08G77/62

摘要： A composition for forming a silica based layer includes a silicon-containing compound including polysilazane, polysiloxazane, or a combination thereof and one or more kinds of solvent, and having a turbidity increasing rate of less than or equal to about 0.13.

公开(公告)号：US09348229B2

公开(公告)日：2016-05-24

申请号：US14528029

申请日：2014-10-30

申请人： SAMSUNG SDI CO., LTD.

发明人： Youn-Hee Nam ,  Hea-Jung Kim ,  Sang-Kyun Kim ,  Sung-Hwan Kim ,  Yun-Jun Kim ,  Joon-Young Moon ,  Hyun-Ji Song

IPC分类号： G03F7/11 ,  H01L21/308 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  C09D177/10 ,  C09D179/08 ,  C08G69/32 ,  C08G73/10

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08G69/32 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1046 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1071 ,  C09D177/10 ,  C09D179/08 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0214 ,  H01L21/0217 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3086

摘要： A hardmask composition includes a polymer including a moiety represented by the following Chemical Formula 1 and a solvent. In the above Chemical Formula 1, A and B are as defined in the specification.

摘要翻译： 硬掩模组合物包括包含由以下化学式1表示的部分的聚合物和溶剂。 在上述化学式1中，A和B如说明书中所定义。