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    PRESSURE SENSITIVE ADHESIVES CONTAINING POLYMERIC SURFACE-MODIFIED NANOPARTICLES
    11.
    发明申请
    PRESSURE SENSITIVE ADHESIVES CONTAINING POLYMERIC SURFACE-MODIFIED NANOPARTICLES 有权
    含有高分子表面改性纳米粒子的压力敏感性粘合剂

    公开(公告)号：US20130040069A1

    公开(公告)日：2013-02-14

    申请号：US13634366

    申请日：2011-04-19

    申请人： Michele A. Craton ,  Kelly S. Anderson ,  Belma Erdogan-Haug ,  Jayshree Seth

    发明人： Michele A. Craton ,  Kelly S. Anderson ,  Belma Erdogan-Haug ,  Jayshree Seth

    IPC分类号： C09J183/06 ,  B05D5/10

    CPC分类号： C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C08K9/06

    摘要： Pressure sensitive adhesives comprising an acrylate polymer and surface-modified nanoparticles are described. The surface-modified nanoparticles comprise a nanoparticle having a silica surface and surface modifying groups covalently attached to the silica surface. At least one surface-modifying group is a polymeric silane surface modifying group. At least one surface-modifying group is a non-polymeric silane surface modifying group. Methods of preparing such adhesives, including their exposure to UVA and UVC radiation are also described.

    摘要翻译： 描述了包含丙烯酸酯聚合物和表面改性的纳米颗粒的压敏粘合剂。 表面改性的纳米颗粒包含具有二氧化硅表面和共价连接到二氧化硅表面的表面改性基团的纳米颗粒。 至少一个表面改性基团是聚合物硅烷表面改性基团。 至少一个表面改性基团是非聚合硅烷表面改性基团。 还描述了制备这种粘合剂的方法，包括它们暴露于UVA和UVC辐射。

    Pressure sensitive adhesives containing polymeric surface-modified nanoparticles
    16.
    发明授权
    Pressure sensitive adhesives containing polymeric surface-modified nanoparticles 有权
    含有聚合物表面改性纳米粒子的压敏粘合剂

    公开(公告)号：US09469793B2

    公开(公告)日：2016-10-18

    申请号：US13634366

    申请日：2011-04-19

    申请人： Michele A. Craton ,  Kelly S. Anderson ,  Belma Erdogan-Haug ,  Jayshree Seth

    发明人： Michele A. Craton ,  Kelly S. Anderson ,  Belma Erdogan-Haug ,  Jayshree Seth

    IPC分类号： C09J133/08 ,  C09J133/10

    CPC分类号： C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C08K9/06

    摘要： Pressure sensitive adhesives comprising an acrylate polymer and surface-modified nanoparticles are described. The surface-modified nanoparticles comprise a nanoparticle having a silica surface and surface modifying groups covalently attached to the silica surface. At least one surface-modifying group is a polymeric silane surface modifying group. At least one surface-modifying group is a non-polymeric silane surface modifying group. Methods of preparing such adhesives, including their exposure to UVA and UVC radiation are also described.

    摘要翻译： 描述了包含丙烯酸酯聚合物和表面改性的纳米颗粒的压敏粘合剂。 表面改性的纳米颗粒包含具有二氧化硅表面和共价连接到二氧化硅表面的表面改性基团的纳米颗粒。 至少一个表面改性基团是聚合物硅烷表面改性基团。 至少一个表面改性基团是非聚合硅烷表面改性基团。 还描述了制备这种粘合剂的方法，包括它们暴露于UVA和UVC辐射。

    Photoresists containing polymer-tethered nanoparticles
    18.
    发明授权
    Photoresists containing polymer-tethered nanoparticles 有权
    含有聚合物束缚纳米粒子的光致抗蚀剂

    公开(公告)号：US09104100B2

    公开(公告)日：2015-08-11

    申请号：US14007270

    申请日：2012-05-23

    申请人： David H. Redinger ,  Robert J. DeVoe ,  Belma Erdogan-Haug

    发明人： David H. Redinger ,  Robert J. DeVoe ,  Belma Erdogan-Haug

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  A61M37/00 ,  G03F7/027

    CPC分类号： G03F7/004 ,  A61M37/0015 ,  A61M2037/003 ,  A61M2037/0053 ,  F04C2270/0421 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70375

    摘要： Compositions such as photoresists and microfabrication processes are provided that can produce high-fidelity microfabricated structures. The provided photoresists can have reduced swelling during the development phase and can give tight tolerances for products, such as microneedles, that can be used, for example, in the medical field. The provided compositions include a photoresist, a photoinitiator system dispersed in the photoresist, and a polymer-tethered nanoparticle dispersed in the photoresist. The photoresist can be a negative photoresist and the photoinitiator system can include a two-photoinitiator system. The polymer-tethered nanoparticle can include an acrylic polymer and, in some embodiments, can include poly(methyl methacrylate). The nanoparticles can include silica.

    摘要翻译： 提供了诸如光致抗蚀剂和微细加工方法的组合物，其可以产生高保真的微制造结构。 所提供的光致抗蚀剂在显影阶段可以减少溶胀，并且可以为可用于例如医疗领域的产品（例如微针）提供严格的公差。 所提供的组合物包括光致抗蚀剂，分散在光致抗蚀剂中的光引发剂体系和分散在光致抗蚀剂中的聚合物 - 束缚的纳米颗粒。 光致抗蚀剂可以是负性光致抗蚀剂，并且光引发剂体系可以包括双光引发剂体系。 聚合物束缚的纳米颗粒可以包括丙烯酸聚合物，并且在一些实施方案中可以包括聚（甲基丙烯酸甲酯）。 纳米颗粒可以包括二氧化硅。