公开(公告)号：US08603867B2

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：US13439418

申请日：2012-04-04

申请人： Bong-Kyun Kim ,  Shin-Il Choi ,  Hong-Sick Park ,  Wang-Woo Lee ,  Seok-Jun Jang ,  Byung-Uk Kim ,  Sun-Joo Park ,  Suk-Il Yoon ,  Jong-Hyun Jeong ,  Soon-Beom Hur

发明人： Bong-Kyun Kim ,  Shin-Il Choi ,  Hong-Sick Park ,  Wang-Woo Lee ,  Seok-Jun Jang ,  Byung-Uk Kim ,  Sun-Joo Park ,  Suk-Il Yoon ,  Jong-Hyun Jeong ,  Soon-Beom Hur

IPC分类号： H01L21/312

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66765

摘要： A composition for removing a photoresist, the composition including about 1% by weight to about 10% by weight of tetramethyl ammonium hydroxide (“TMAH”), about 1% by weight to about 10% by weight of an alkanol amine, about 50% by weight to about 70% by weight of a glycol ether compound, about 0.01% by weight to about 1% by weight of a triazole compound, about 20% by weight to about 40% by weight of a polar solvent, and water, each based on a total weight of the composition.

摘要翻译： 用于除去光致抗蚀剂的组合物，该组合物包含约1重量％至约10重量％的四甲基氢氧化铵（“TMAH”），约1重量％至约10重量％的烷醇胺，约50重量％ 约70重量％的二醇醚化合物，约0.01重量％至约1重量％的三唑化合物，约20重量％至约40重量％的极性溶剂和水，各自 基于组合物的总重量。

公开(公告)号：US08012921B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US11865795

申请日：2007-10-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20100120181A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US12613961

申请日：2009-11-06

申请人： Sung-Hee KIM ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Youg Song ,  Myoung-Soo Lee

发明人： Sung-Hee KIM ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Youg Song ,  Myoung-Soo Lee

IPC分类号： H01L21/50 ,  C09D11/10

CPC分类号： C09D11/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C09D11/033 ,  G03F7/0002

摘要： Disclosed are an ink composition and a method for fabricating a liquid crystal display (LCD) device using the same, wherein in forming patterns of the LCD device using an imprint lithography and a roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, the ink composition consisting of 5-45% by weight of polymer resin, 5-45% by weight of additive added to retain thermal stability, and 50-90% by weight of organic solvent, wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.

摘要翻译： 公开了一种使用其制造液晶显示（LCD）装置的油墨组合物和方法，其中在使用压印光刻和辊印刷形成LCD装置的图案时，具有由聚合物组成的高耐热性的油墨组合物 即使在高温下也能耐久的树脂和添加剂被用于形成精细图案，并且不断地保持图案线宽和线间隔，油墨组合物由5-45重量％的聚合物树脂组成，5-45重量％的添加剂添加到 保持热稳定性和50-90重量％的有机溶剂，其中油墨组合物即使在90-250℃的高温下也是耐久的。

公开(公告)号：US07662763B2

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：US11185856

申请日：2005-07-21

申请人： Gee-Sung Chae ,  Yong-Sup Hwang ,  Cyoo-Chul Jo ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Sang-Dai Lee ,  Jong-Soon Yoo

发明人： Gee-Sung Chae ,  Yong-Sup Hwang ,  Cyoo-Chul Jo ,  Oh-Nam Kwon ,  Kyoung-Mook Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Sang-Dai Lee ,  Jong-Soon Yoo

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： C11D11/0047 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5013 ,  G03F7/425 ,  Y10S134/902

摘要： A composition for removing a copper-compatible resist includes about 10% to about 30% by weight of an amine compound, about 10% to about 80% by weight of a glycolether compound, and about 10% to about 80% by weight of a polar solvent.

摘要翻译： 用于除去铜相容抗蚀剂的组合物包括约10％至约30％重量的胺化合物，约10％至约80％重量的乙二醇醚化合物和约10％至约80％重量的 极性溶剂。

公开(公告)号：US20110224335A1

公开(公告)日：2011-09-15

申请号：US13090895

申请日：2011-04-20

申请人： Sung-Hee Kim ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Young Song ,  Myoung-Soo Lee

发明人： Sung-Hee Kim ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Young Song ,  Myoung-Soo Lee

IPC分类号： C09D11/10

CPC分类号： C09D11/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C09D11/033 ,  G03F7/0002

摘要： Disclosed are an ink composition and a method for fabricating a liquid crystal display (LCD) device using the same, wherein in forming patterns of the LCD device using an imprint lithography and a roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, the ink composition consisting of 5-45% by weight of polymer resin, 5-45% by weight of additive added to retain thermal stability, and 50-90% by weight of organic solvent, wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.

摘要翻译： 公开了一种使用其制造液晶显示（LCD）装置的油墨组合物和方法，其中在使用压印光刻和辊印刷形成LCD装置的图案时，具有由聚合物组成的高耐热性的油墨组合物 即使在高温下也能耐久的树脂和添加剂被用于形成精细图案，并且不断地保持图案线宽和线间隔，油墨组合物由5-45重量％的聚合物树脂组成，5-45重量％的添加剂添加到 保持热稳定性和50-90重量％的有机溶剂，其中油墨组合物即使在90-250℃的高温下也是耐久的。

公开(公告)号：US07101650B2

公开(公告)日：2006-09-05

申请号：US10486991

申请日：2002-08-20

申请人： Byung-Uk Kim ,  Joon-Yeon Cho ,  Kyong-Il Kwon ,  Soo-Jung Park ,  Jae-Won Yoo

发明人： Byung-Uk Kim ,  Joon-Yeon Cho ,  Kyong-Il Kwon ,  Soo-Jung Park ,  Jae-Won Yoo

IPC分类号： G03F7/023

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/023 ,  G03F7/038

摘要： The present invention relates to a photosensitive resin composition for use as a photoresist, and more particularly, to a photosensitive resin composition for a photoresist comprising an acrylate copolymer obtained by selectively using specific compounds or controlling the ratio of unreacted monomers, and a 1,2-quinonediazide compound, which is excellent in several performance factors such as dielectric characteristics, flatness, transparency, developing performance, residual film rate, chemical resistance, and heat resistance, as well as sensitivity and resolution, and in particular it facilitates easy pattern formation into interlayer dielectrics, and it can be used as a photoresist in an LCD manufacturing process due to its excellent transmissivity even when prepared as a thick film.

摘要翻译： 本发明涉及用作光致抗蚀剂的感光性树脂组合物，更具体地说，涉及通过选择性地使用特定化合物或控制未反应单体的比例而获得的含有丙烯酸酯共聚物的光致抗蚀剂用感光性树脂组合物， 醌二叠氮化合物，其介电特性，平坦度，透明性，显影性能，残留膜率，耐化学性和耐热性等几个性能因素以及灵敏度和分辨率均优异，特别是易于形成图形 层间电介质，并且由于其甚至在制备为厚膜时具有优异的透射率，因此其可用作LCD制造工艺中的光致抗蚀剂。

公开(公告)号：US07956393B2

公开(公告)日：2011-06-07

申请号：US12564019

申请日：2009-09-21

申请人： Jong-Hyun Choung ,  Bong-Kyun Kim ,  Hong-Sick Park ,  Sun-Young Hong ,  Young-Joo Choi ,  Byeong-Jin Lee ,  Nam-Seok Suh ,  Byung-Uk Kim ,  Suk-Il Yoon ,  Jong-Hyun Jeong ,  Sung-Gun Shin ,  Soon-Beom Huh ,  Se-Hwan Jung ,  Doo-Young Jang ,  Sun-Joo Park ,  Oh-Hwan Kweon

发明人： Jong-Hyun Choung ,  Bong-Kyun Kim ,  Hong-Sick Park ,  Sun-Young Hong ,  Young-Joo Choi ,  Byeong-Jin Lee ,  Nam-Seok Suh ,  Byung-Uk Kim ,  Suk-Il Yoon ,  Jong-Hyun Jeong ,  Sung-Gun Shin ,  Soon-Beom Huh ,  Se-Hwan Jung ,  Doo-Young Jang ,  Sun-Joo Park ,  Oh-Hwan Kweon

IPC分类号： H01L31/062 ,  H01L31/113

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288

摘要： A composition for a photoresist stripper and a method of fabricating a thin film transistor array substrate are provided according to one or more embodiments. In one or more embodiments, the composition includes about 5-30 weight % of a chain amine compound, about 0.5-10 weight % of a cyclic amine compound, about 10-80 weight % of a glycol ether compound, about 5-30 weight % of distilled water, and about 0.1-5 weight % of a corrosion inhibitor.

摘要翻译： 根据一个或多个实施方案提供了用于光致抗蚀剂剥离剂的组合物和制造薄膜晶体管阵列基板的方法。 在一个或多个实施方案中，组合物包含约5-30重量％的链胺化合物，约0.5-10重量％的环胺化合物，约10-80重量％的二醇醚化合物，约5-30重量％ ％的蒸馏水和约0.1-5重量％的腐蚀抑制剂。

公开(公告)号：US20100167476A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12620988

申请日：2009-11-18

申请人： Sang-Hyun Yun ,  Wook-Seok Jeon ,  Jung-In Park ,  Hi-Kuk Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Dong-Min Kim ,  Seung-Ki Kim ,  Ja-Hun Byeon

发明人： Sang-Hyun Yun ,  Wook-Seok Jeon ,  Jung-In Park ,  Hi-Kuk Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Dong-Min Kim ,  Seung-Ki Kim ,  Ja-Hun Byeon

IPC分类号： H01L21/336 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0236 ,  G03F7/022 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/66765

摘要： The present invention relates to a photoresist composition for digital exposure and a method of fabricating a thin film transistor substrate. The photoresist composition for digital exposure includes a binder resin including a novolak resin and a compound represented by the chemical formula (1), a photosensitizer including a diazide-based compound, and a solvent: wherein R1-R9 each include a hydrogen atom, an alkyl group, or a benzyl group, a is an integer from 0 to 10, b is an integer from 0 to 100, and c is an integer from 0 to 10.

摘要翻译： 本发明涉及用于数字曝光的光致抗蚀剂组合物和制造薄膜晶体管衬底的方法。 用于数字曝光的光致抗蚀剂组合物包括包含酚醛清漆树脂和由化学式（1）表示的化合物的粘合剂树脂，包含二叠氮基化合物的光敏剂和溶剂：其中R1-R9各自包含氢原子， 烷基或苄基，a为0〜10的整数，b为0〜100的整数，c为0〜10的整数。

公开(公告)号：US20090224777A1

公开(公告)日：2009-09-10

申请号：US12279066

申请日：2007-02-15

申请人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

发明人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

IPC分类号： G01R31/302 ,  G06F19/00

CPC分类号： G02F1/1309

摘要： A system for testing a flat panel display having a flat display panel assembly includes a testing stage for arranging tie flat display panel assembly, a measuring apparatus being disposed on the testing stage and for measuring a spectrum of a transmitted light passing through a measuring region of the flat display panel assembly from a light source, a transporting apparatus for moving the measuring apparatus at a constant acceleration on the testing stage, a defect informing apparatus being electrically connected to the measuring apparatus and for informing an existence of defect, a type of defect, and a severity of defect by processing an electrical signal of the spectrum transmitted from the measuring apparatus.

摘要翻译： 一种用于测试具有平面显示面板组件的平板显示器的系统，包括用于布置平面显示面板组件的测试台，测量装置设置在测试台上，并用于测量通过测量区域的测量区域的透射光的光谱 来自光源的平面显示面板组件，用于在测试台上以恒定加速度移动测量装置的传送装置，与测量装置电连接并用于通知缺陷的存在的缺陷通知装置，缺陷的类型 以及通过处理从测量装置发送的频谱的电信号的缺陷的严重性。

公开(公告)号：US20090170037A1

公开(公告)日：2009-07-02

申请号：US12323649

申请日：2008-11-26

申请人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Hong-Sick Park ,  Sun-Young Hong ,  Bong-Kyun Kim ,  Byeoung-Jin Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Sung-Gun Shin ,  Soon-Beom Huh ,  Se-Hwan Jung ,  Doo-Young Jang

发明人： Jong-Hyun CHOUNG ,  Hong-Sick Park ,  Sun-Young Hong ,  Bong-Kyun Kim ,  Byeoung-Jin Lee ,  Byung-Uk Kim ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Sung-Gun Shin ,  Soon-Beom Huh ,  Se-Hwan Jung ,  Doo-Young Jang

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425

摘要： A composition for removing a photoresist includes a) an amine compound having a cyclic amine and/or a diamine, b) a glycol ether compound, c) a corrosion inhibitor and d) a polar solvent. The composition further includes a stripping promoter. Further disclosed is a method of manufacturing an array substrate using the composition for removing a photoresist.

摘要翻译： 用于除去光致抗蚀剂的组合物包括a）具有环胺和/或二胺的胺化合物，b）二醇醚化合物，c）缓蚀剂和d）极性溶剂。 组合物还包括剥离促进剂。 进一步公开了使用除去光致抗蚀剂的组合物制造阵列基板的方法。