公开(公告)号：US20090224777A1

公开(公告)日：2009-09-10

申请号：US12279066

申请日：2007-02-15

申请人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

发明人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

IPC分类号： G01R31/302 ,  G06F19/00

CPC分类号： G02F1/1309

摘要： A system for testing a flat panel display having a flat display panel assembly includes a testing stage for arranging tie flat display panel assembly, a measuring apparatus being disposed on the testing stage and for measuring a spectrum of a transmitted light passing through a measuring region of the flat display panel assembly from a light source, a transporting apparatus for moving the measuring apparatus at a constant acceleration on the testing stage, a defect informing apparatus being electrically connected to the measuring apparatus and for informing an existence of defect, a type of defect, and a severity of defect by processing an electrical signal of the spectrum transmitted from the measuring apparatus.

摘要翻译： 一种用于测试具有平面显示面板组件的平板显示器的系统，包括用于布置平面显示面板组件的测试台，测量装置设置在测试台上，并用于测量通过测量区域的测量区域的透射光的光谱 来自光源的平面显示面板组件，用于在测试台上以恒定加速度移动测量装置的传送装置，与测量装置电连接并用于通知缺陷的存在的缺陷通知装置，缺陷的类型 以及通过处理从测量装置发送的频谱的电信号的缺陷的严重性。

公开(公告)号：US07859274B2

公开(公告)日：2010-12-28

申请号：US12279066

申请日：2007-02-15

申请人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

发明人： Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Yong-Woo Kim ,  Mi-Sun Park ,  Jin-Sup Hong ,  Wy-Yong Kim

IPC分类号： G01R31/302 ,  G01R31/305 ,  G01R31/28

CPC分类号： G02F1/1309

摘要： A system for testing a flat panel display having a flat display panel assembly includes a testing stage for arranging the flat display panel assembly, a measuring apparatus being disposed on the testing stage and for measuring a spectrum of a transmitted light passing through a measuring region of the flat display panel assembly from a light source, a transporting apparatus for moving the measuring apparatus at a constant acceleration on the testing stage, a defect informing apparatus being electrically connected to the measuring apparatus and for informing an existence of defect, a type of defect, and a severity of defect by processing an electrical signal of the spectrum transmitted from the measuring apparatus.

摘要翻译： 一种用于测试具有平面显示面板组件的平板显示器的系统，包括：用于布置平面显示面板组件的测试台;测量装置，设置在测试台上，并用于测量通过测量区域的测量区域的透射光谱; 来自光源的平面显示面板组件，用于在测试台上以恒定加速度移动测量装置的传送装置，与测量装置电连接并用于通知缺陷的存在的缺陷通知装置，缺陷的类型 以及通过处理从测量装置发送的频谱的电信号的缺陷的严重性。

公开(公告)号：US07112795B2

公开(公告)日：2006-09-26

申请号：US10276703

申请日：2001-03-27

申请人： Ki-Beom Lee ,  Mi-Sun Park ,  Jong-Min Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Chang-Il Oh

发明人： Ki-Beom Lee ,  Mi-Sun Park ,  Jong-Min Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Chang-Il Oh

IPC分类号： G01J5/02

CPC分类号： G01N21/359 ,  C23F1/00 ,  C23F1/46 ,  G01N21/3577 ,  G11B23/505 ,  H01L21/32134

摘要： In a method of controlling a metallic layer etching process for fabricating a semiconductor device or a liquid crystal display device, the composition of the etchant used in etching the metallic layer is first analyzed with the NIR spectrometer. The state of the etchant is then determined by comparing the analyzed composition with the reference composition. In case the life span of the etchant comes to an end, the etchant is replaced with a new etchant. By contrast, in case the life span of the etchant is left over, the etchant is delivered to the next metallic layer etching process. This analysis technique may be applied to the etchant regenerating process in a similar way.

摘要翻译： 在控制用于制造半导体器件或液晶显示器件的金属层蚀刻工艺的方法中，首先用NIR光谱仪分析用于蚀刻金属层的蚀刻剂的组成。 然后通过将分析的组合物与参考组合物进行比较来确定蚀刻剂的状态。 如果蚀刻剂的使用寿命终止，蚀刻剂将被新的蚀刻剂所取代。 相比之下，在蚀刻剂的寿命被遗留的情况下，蚀刻剂被输送到下一个金属层蚀刻工艺。 该分析技术可以以类似的方式应用于蚀刻剂再生过程。

公开(公告)号：US08012921B2

公开(公告)日：2011-09-06

申请号：US11865795

申请日：2007-10-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： C11D7/50

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20080085850A1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：US11865795

申请日：2007-10-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

公开(公告)号：US07294518B2

公开(公告)日：2007-11-13

申请号：US11217400

申请日：2005-09-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： H01L21/00

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20080032432A1

公开(公告)日：2008-02-07

申请号：US11873791

申请日：2007-10-17

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： H01L21/311

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20060204896A1

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：US11217400

申请日：2005-09-02

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： C11D9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper comprising about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US07553710B2

公开(公告)日：2009-06-30

申请号：US11873791

申请日：2007-10-17

申请人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

发明人： Hong-Sick Park ,  Jong-Hyun Jeong ,  Suk-Il Yoon ,  Seong-Bae Kim ,  Wy-Yong Kim ,  Soon-Beom Huh ,  Byung-Uk Kim

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/84

CPC分类号： G03F7/425 ,  H01L21/31133 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1288 ,  H01L29/458

摘要： The present invention provides a photoresist stripper including about 5 wt % to about 20 wt % alcohol amine, about 40 wt % to about 70 wt % glycol ether, about 20 wt % to about 40 wt % N-methyl pyrrolidone, and about 0.2 wt % to about 6 wt % chelating agent.

摘要翻译： 本发明提供了一种光致抗蚀剂剥离器，其包括约5重量％至约20重量％的醇胺，约40重量％至约70重量％的二醇醚，约20重量％至约40重量％的N-甲基吡咯烷酮，以及约0.2重量％ ％至约6重量％的螯合剂。

公开(公告)号：US20100120181A1

公开(公告)日：2010-05-13

申请号：US12613961

申请日：2009-11-06

申请人： Sung-Hee KIM ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Youg Song ,  Myoung-Soo Lee

发明人： Sung-Hee KIM ,  Soon-Sung Yoo ,  Jin-Wuk Kim ,  Byung-Geol Kim ,  Byung-Uk Kim ,  Ki-Beom Lee ,  Byong-Hoo Kim ,  Seung-Hyup Shin ,  Jun-Youg Song ,  Myoung-Soo Lee

IPC分类号： H01L21/50 ,  C09D11/10

CPC分类号： C09D11/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C09D11/033 ,  G03F7/0002

摘要： Disclosed are an ink composition and a method for fabricating a liquid crystal display (LCD) device using the same, wherein in forming patterns of the LCD device using an imprint lithography and a roll printing, an ink composition with high thermal resistance, consisting of polymer resin and additive both endurable even at a high temperature is used to form fine patterns with constantly maintaining pattern linewidths and line intervals, the ink composition consisting of 5-45% by weight of polymer resin, 5-45% by weight of additive added to retain thermal stability, and 50-90% by weight of organic solvent, wherein the ink composition is endurable even at a high temperature of 90-250° C.

摘要翻译： 公开了一种使用其制造液晶显示（LCD）装置的油墨组合物和方法，其中在使用压印光刻和辊印刷形成LCD装置的图案时，具有由聚合物组成的高耐热性的油墨组合物 即使在高温下也能耐久的树脂和添加剂被用于形成精细图案，并且不断地保持图案线宽和线间隔，油墨组合物由5-45重量％的聚合物树脂组成，5-45重量％的添加剂添加到 保持热稳定性和50-90重量％的有机溶剂，其中油墨组合物即使在90-250℃的高温下也是耐久的。