公开(公告)号：US07928407B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US11603228

申请日：2006-11-22

申请人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Michel Riepen

发明人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Roelof Frederik De Graaf ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Antonius Leenders ,  Jeroen Johannes Sophia Maria Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Cornelis Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Joseph Janssen ,  Michel Riepen

IPC分类号： G21K5/10

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707

摘要： In an immersion lithographic apparatus, bubble formation in immersion liquid is reduced or prevented by reducing a gap size or area on a substrate table and/or covering the gap.

摘要翻译： 在浸没式光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或面积和/或覆盖间隙来降低或防止浸没液中的气泡形成。

公开(公告)号：US20080174750A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US12068071

申请日：2008-02-01

申请人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

发明人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7095

摘要： An apparatus is configured to position a workpiece. The apparatus includes a planar base, and a movable stage configured to support the workpiece. The stage is configured to be moved over the planar base. The apparatus also includes an actuator configured to move the stage, a contactless position measurer configured to measure a position of the stage, and a first pump configured to generate a conditioned gas flow in a volume between the measurer and the stage. The base includes a plurality of gas channels provided in the base that provide a path of the conditioned gas flow through the base.

摘要翻译： 一种装置构造成定位工件。 该装置包括平面基座和被配置为支撑工件的可移动台。 该台被配置成在平面底座上移动。 该装置还包括构造成移动台的致动器，被配置为测量台的位置的非接触位置测量器以及被配置为在测量器和台之间的体积中产生经调节的气流的第一泵。 底座包括设置在基座中的多个气体通道，其提供调节气体流经基座的路径。

公开(公告)号：US07359032B2

公开(公告)日：2008-04-15

申请号：US10925148

申请日：2004-08-25

申请人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

发明人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, a first support structure for supporting a patterning device, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system. At least one of the first and second support structures includes a planar base, a movable stage that can be moved over the planar base, and an actuator for moving the stage. The apparatus also includes a contactless position measuring device for measuring a position of the stage, and a first pump for generating a conditioned gas flow in a volume between the measuring device and the stage. The base includes a plurality of gas channels that provide a path for the conditioned gas to flow through the base.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统，用于支撑图案形成装置的第一支撑结构，用于支撑衬底的第二支撑结构和投影系统。 第一和第二支撑结构中的至少一个包括平面基座，可在平面基座上移动的可移动平台以及用于移动平台的致动器。 该装置还包括用于测量载物台的位置的非接触位置测量装置和用于在测量装置和载物台之间产生体积的调节气流的第一泵。 底座包括多个气体通道，其提供用于经调节的气体流过基座的路径。

公开(公告)号：US07072025B2

公开(公告)日：2006-07-04

申请号：US11118476

申请日：2005-05-02

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Robertus Nicodemus Jacobus Van Ballegoij ,  Petrus Matthijs Henricus Vosters ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G05B5/01

CPC分类号： G03F7/70766 ,  B23Q1/58 ,  B23Q11/0032 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

摘要： A lithographic projection apparatus in which a reaction force is generated between a balance mass and a substrate table. The balance mass is elastically coupled to the base frame with a suspension eigenfrequency of between 0.3 and 10 Hz.

摘要翻译： 一种在平衡块和基板台之间产生反作用力的光刻投影装置。 平衡质量弹性地耦合到基架上，其悬挂本征频率在0.3和10Hz之间。