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    ALUMINUM OXYNITRIDE COATED ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME
    12.
    发明申请
    ALUMINUM OXYNITRIDE COATED ARTICLE AND METHOD OF MAKING THE SAME 有权
    氧化铝涂层制品及其制备方法

    公开(公告)号：US20120237794A1

    公开(公告)日：2012-09-20

    申请号：US13048301

    申请日：2011-03-15

    申请人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg ,  Zhigang Ban ,  Yixiong Liu ,  Mark S. Greenfield

    发明人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg ,  Zhigang Ban ,  Yixiong Liu ,  Mark S. Greenfield

    IPC分类号： B32B18/00 ,  C04B35/10 ,  C23C16/44

    CPC分类号： C23C16/308 ,  C22C29/00 ,  C22C29/08 ,  C22C29/12 ,  C22C29/16

    摘要： A coated article such as a coated cutting tool or coated wear part, which includes a substrate and a coating scheme on the substrate. The coating scheme has a titanium-containing coating layer, and an aluminum oxynitride coating layer on the titanium-containing coating layer. The aluminum oxynitride includes a mixture of phases having a hexagonal aluminum nitride type structure (space group: P63mc), a cubic aluminum nitride type structure (space group: Fm-3m), and optionally amorphous structure. The aluminum oxynitride coating layer has a composition of aluminum in an amount between about 20 atomic percent and about 50 atomic percent, nitrogen in an amount between about 40 atomic percent and about 70 atomic percent, and oxygen in an amount between about 1 atomic percent and about 20 atomic percent. The method of making the coated article includes a step of providing a substrate and depositing an aluminum oxynitride coating layer from a gaseous mixture that includes nitrogen, aluminum tri-chloride, ammonia, carbon dioxide, hydrogen chloride, optionally carbon monoxide, optionally argon, and hydrogen.

    摘要翻译： 涂覆的制品，例如涂覆的切削工具或涂覆的磨损部件，其包括衬底和在衬底上的涂覆方案。 涂布方案在含钛涂层上具有含钛涂层和氮氧化铝涂层。 氮氧化铝包括具有六方氮化铝型结构（空间群：P63mc），立方氮化铝型结构（空间群：Fm-3m）和任选的非晶结构的相的混合物。 铝氮氧化物涂层的组成为约20原子％至约50原子％的量的铝，约40原子％至约70原子％之间的氮，约1原子％与约1原子％之间的量的氧， 约20原子％。 制备涂覆制品的方法包括提供基材和从包括氮，三氯化铝，氨，二氧化碳，氯化氢，任选的一氧化碳，任选的氩气的气体混合物沉积氧氮化铝涂层的步骤，以及 氢。

    Tool and method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a substrate member
    14.
    发明授权
    Tool and method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a substrate member 有权
    用于在衬底构件上的两相层的化学气相沉积的工具和方法

    公开(公告)号：US07431998B2

    公开(公告)日：2008-10-07

    申请号：US10554666

    申请日：2004-04-23

    申请人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg

    发明人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg

    IPC分类号： B32B9/00 ,  C23C16/30

    CPC分类号： C23C30/005 ,  C23C16/30

    摘要： The invention relates to a tool, especially a cutting tool, comprising a substrate member onto which at least one layer is deposited by means of CVD, and a method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a sintered part. According to the invention, the single deposited layer or at least one of the layers is provided with a TiCN phase, TiOCN phase, TiOC phase, or TiC phase and an additional phase consisting of ZrO2 and/or HfO2. CH3CN, C5H5N, or C6H6 is used in the gas atmosphere for producing such a layer in addition to TiCl4, HfCl4, and/or ZrCl4 and CO2, the remainder being composed of H2 and/or Ar.

    摘要翻译： 本发明涉及一种工具，特别是一种切削工具，其包括通过CVD沉积至少一层的基板部件，以及用于在烧结部件上化学气相沉积两相层的方法。 根据本发明，单个沉积层或至少一个层具有TiCN相，TiOCN相，TiOC相或TiC相以及由ZrO 2和/或 HfO 2 2。 CH 3 CN，C 5 H 5 N或C 6 H 6， 除了TiCl 4，HfCl 4和/或ZrCl 4和CO之外，还用于生产这种层的气体气氛中 > 2 ，其余部分由H 2和/或Ar组成。

    Tool and method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a substrate member
    15.
    发明申请
    Tool and method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a substrate member 有权
    用于在衬底构件上的两相层的化学气相沉积的工具和方法

    公开(公告)号：US20060257689A1

    公开(公告)日：2006-11-16

    申请号：US10554666

    申请日：2004-04-23

    申请人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg

    发明人： Volkmar Sottke ,  Hartmut Westphal ,  Hendrikus Van Den Berg

    IPC分类号： C23C16/00 ,  B32B9/00

    CPC分类号： C23C30/005 ,  C23C16/30

    摘要： The invention relates to a tool, especially a cutting tool, comprising a substrate member onto which at least one layer is deposited by means of CVD, and a method for the chemical vapor deposition of a two-phase layer on a sintered part. According to the invention, the single deposited layer or at least one of the layers is provided with a TiCN phase. TiOCN phase, TiOC phase, or TiC phase and an additional phase consisting of ZrO2 and/or HfO2. CH3CN, C5H5N, or C6H6 is used in the gas atmosphere for producing such a layer in addition to TiCl4, HfCl4, and/or ZrCl4 and CO2. the remainder being composed of H2 and/or Ar.

    摘要翻译： 本发明涉及一种工具，特别是一种切削工具，其包括通过CVD沉积至少一层的基板部件，以及用于在烧结部件上化学气相沉积两相层的方法。 根据本发明，单个沉积层或至少一个层具有TiCN相。 TiOCN相，TiOC相或TiC相以及由ZrO 2和/或HfO 2 2组成的附加相。 CH 3 CN，C 5 H 5 N或C 6 H 6 N，或C 6 H 6， 除了TiCl 4，HfCl 4和/或ZrCl 4和CO之外，还用于生产这种层的气体气氛中 > 2 。 其余部分由H 2和/或Ar组成。

    Processing insert, and production of same
    16.
    发明授权
    Processing insert, and production of same 有权
    加工插件和生产相同

    公开(公告)号：US06350510B1

    公开(公告)日：2002-02-26

    申请号：US09423123

    申请日：1999-11-01

    申请人： Udo König ,  Hendrikus Van Den Berg ,  Hartmut Westphal ,  Volkmar Sottke

    发明人： Udo König ,  Hendrikus Van Den Berg ,  Hartmut Westphal ,  Volkmar Sottke

    IPC分类号： B32B900

    CPC分类号： C23C30/005 ,  C23C16/32 ,  C23C16/34 ,  C23C16/36 ,  Y10T407/27 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

    摘要： The invention pertains to a processing insert comprised of a body with a hard metal or ceramic substrate and with a multilayer coating and the manufacture of same. In order to have a highly fracture-tough insert with a relatively thick coating, it is suggested that an external layer (protective layer) be applied according to the CVD process, said layer being either a monophase or multiphase layer of Zr-based or Hf-based carbide nitride or carbonitride, and presenting internal compressive stresses. The layer(s) underlying the external layer, also applied according to the CVD process, also present(s), without any exception, internal compressive stresses, while at least one of them, maybe the only one laying under the protective layer is made of TiN, TiC and/or TiCN. The coating is applied according to a continuous CVD process at temperatures of 900° C. to 1100° C. and involves a specific modification of the gas compounds.

    摘要翻译： 本发明涉及一种由具有硬质金属或陶瓷基体的主体和多层涂层组成的加工插入件及其制造。 为了具有相对厚的涂层的高度断裂韧性的插入物，建议根据CVD工艺施加外层（保护层），所述层是Zr基或Hf的单相或多相层 碳化氮化物或碳氮化物，并呈现内部压应力。 也根据CVD工艺施加的外层的层也不存在内压缩应力，而至少其中之一，也许是仅保留在保护层下面的一层 的TiN，TiC和/或TiCN。 根据连续CVD法在900℃至1100℃的温度下涂覆涂层，并涉及气体化合物的具体改性。

    Tool and process for coating a basic tool component
    18.
    发明授权
    Tool and process for coating a basic tool component 失效
    用于涂覆基本工具组件的工具和工艺

    公开(公告)号：US5693408A

    公开(公告)日：1997-12-02

    申请号：US446836

    申请日：1995-05-16

    申请人： Hendrikus Van Den Berg ,  Udo Konig ,  Ralf Tabersky

    发明人： Hendrikus Van Den Berg ,  Udo Konig ,  Ralf Tabersky

    IPC分类号： C23C16/30 ,  C23C16/32 ,  C23C16/34 ,  C23C16/36 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/50 ,  C23C16/515 ,  C23C16/56 ,  C23C30/00

    CPC分类号： C23C16/515 ,  C23C16/36 ,  C23C16/44 ,  C23C16/56 ,  C23C30/005 ,  Y10T428/24942

    摘要： A process of forming a tool in which directly on the surface of the base body of the tool by base plasma activated chemical deposition a first PCVD layer of titanium carbide, titanium carbonitride, titanium nitride, zirconium carbonitride, and aluminum oxide is formed. Directly on this first layer by a nonplasma-activated CVD a second layer of titanium carbide, titanium carbonitride, titanium nitride, zirconium carbonitride, and aluminum oxide is formed. The steps are repeated to build up a coating so that it consists of a multiplicity of layers in a PCVD-CVD-PCVD-CVD structure.

    摘要翻译： PCT No.PCT / DE93 / 01111 Sec。 371日期：1995年5月16日 102（e）日期1995年5月16日PCT提交1993年11月18日PCT公布。 第WO94 / 12682号公报 日期1994年6月9日一种通过基体等离子体激活化学沉积直接在工具的基体的表面上形成工具的工艺，其中第一PCVD层为碳化钛，碳氮化钛，氮化钛，碳氮化锆和氧化铝 形成了。 通过非等离子激活CVD直接在该第一层上形成第二层碳化钛，碳氮化钛，氮化钛，碳氮化锆和氧化铝。 重复这些步骤以建立涂层，使其由PCVD-CVD-PCVD-CVD结构中的多个层组成。